間欠ジルコニウムアークプラズマを用いたイオン注入・堆積法によるジルコニア皮膜特性のAr/O_2流量およびアーク電流依存性
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概要
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- 2004-01-16
著者
-
中村 圭二
中部大学
-
藤田 寛治
佐賀大学理工学部
-
大津 康徳
佐賀大学理工学部
-
行村 建
同志社大学
-
中村 圭二
中部大学工学部
-
大津 康徳
佐賀大学
-
Fujita H
Institute Of Industrial Science The University Of Tokyo
-
藤田 寛治
佐賀大学
-
義永 博章
同志社大学
-
Fujimori Hiroyasu
Institute Of Material Research Tohoku University
-
行村 健
産業技術総合研究所
-
Fujita H
Center For International Research On Micromechatronics (cirmm) Institute Of Industrial Science (iis)
-
藤田 寛治
Institute Of Industrial Science The University Of Tokyo
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