周波数シフトプローブによるプラズマモニタリング
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- 反応性プロセシングプラズマにおける電子密度測定用平板型マイクロ波共振器プローブとシース効果 (特集 日本のプラズマ研究最前線)
- 周波数シフトプローブを用いたプラズマ計測
- プローブ計測の基礎から応用まで
- 誘導結合型フロロカーボンプラズマの解析
- 直流超電導送電システムの検討
- 直流超伝導送電ケーブルへのPCLの適用
- ペルチェ電流リードを用いた無冷媒マグネットの熱侵入の低減IV
- ペルチェ電流リードを用いた無冷媒マグネットの熱侵入の低減III
- PCLを用いた無冷媒超伝導マグネットの熱侵入低減
- 周波数シフトプローブにおける膜堆積の影響
- 周波数シフトプローブの電子温度計測への応用
- 周波数シフトプローブを用いた電子密度測定におけるプローブ形状の影響
- デュアル表面波プローブを用いた電子密度・電子温度の計測
- プラズマイオン注入における平板ターゲットの二次電子放出率の計測
- 29pA10P プラズマからの真空紫外光とプラズマイオン注入における二次電子放出係数(プラズマ基礎・応用)
- 半導体検出器を用いたプラズマイオン注入における二次電子計測
- 27aA04 プラズマ吸収プローブを用いた有磁場プラズマの密度測定(プラズマ基礎・応用)
- 高周波バイアスを用いた高密度プラズマエッチャー内壁における膜堆積抑制
- イオン衝撃による酸化膜エッチャーの壁制御
- 26aB6 新しい高周波バイアス法による壁制御とエッチングへの応用(ヘリカル/プラズマ応用)
- 周波数シフトプローブによるプラズマモニタリング
- 非経験的分子軌道法によるイリドの自動酸化反応機構の理論的解明
- フロン系ガスのプラズマ分解における中性粒子の挙動
- プラズマ・プロセス技術
- 3-212 中部大学電気システム工学科における創成的学生実験の試み(口頭発表論文,オーガナイズドセッション「エンジニアリングデザイン」-V-デザイン科目研究(2))
- 直流超伝導送電システムの検討
- テープ線材の磁気面計測と電流分布
- ペルチェ電流リードにおける熱侵入のローレンツ数依存性
- ヘリウムフリーマグネットへのPCLの適応
- 超伝導マグネットの磁場極性反転のためのペルチェ電流リード用低温切替えスイッチの検討
- 数値解析による交流電流通電時のペルチェ電流リードの動作特性の評価
- 直流通電におけるLN_2用ペルチェ電流リードの動作特性
- 数値解析による交流通電によるペルチェ電流リードの動作特性の解析
- ペルチェ電流リードを用いた無冷媒マグネットの熱侵入の低減
- ヘリウムフリーマグネットを模擬した真空中でのPCLの適用
- 極性反転のためのペルチェ電流リード用低温切替えスイッチの検討
- 液体窒素環境におけるペルチェ電流リードの特性 : 実験および数値計算からの検討
- 交流通電における液体窒素用ペルチェ電流リードの動作特性
- 数値計算による, 低熱侵入ペルチェ電流リードの特性評価
- 低熱侵入ペルチェ電流リードの開発(2) : 液体ヘリウム環境での動作特性
- 低熱侵入ペルチェ電流リードの開発(1) : 液体窒素環境での動作特性
- 低熱侵入ペルチェ電流リードの開発(3) : 半波交流通電時での動作特性
- 交流超電導コイルの偏流特性に及ぼす強磁性材の影響
- 温度勾配により圧電定数を傾斜させた圧電トランスデューサの特性
- PBII&D法によるRFスパッタを用いたカーボン膜およびタングステンカーボン膜生成
- 超電導コイルにおける偏流特性と鉄芯法によるその抑制
- 反応性プロセシングプラズマにおける電子密度測定用平板型マイクロ波共振器プローブとシース効果
- A-11-14 LoTaO_3 32°-42°回転Y板上へのZnOの膜のエピタキシャル成長
- ペルチェ電流リードを用いた無冷媒マグネットの熱侵入の低減II
- 低熱侵入計測用ハーメチックシールの開発 III
- 低熱侵入計測用ハーメチックシールの開発
- ZnO/42°Y-X LiTaO_3におけるSH-SAW特性
- 間欠ジルコニウムアークPBII&D法によるジルコニア皮膜
- PBII&D法によるRFスパッタ銅イオンを用いた酸化銅成膜
- A Functionally Graded Piezoelectric Material Created by an Internal Temperature Gradient : Electrical Properties of Condensed Matter
- 銅イオンプロセス用ドロップレットフリープラズマ源の開発
- 誘導結合型フロロカーボンプラズマのシミュレーション
- フロン系プラズマのシミュレーションと実験的検証
- 分極反転層を利用したハーモニックイメージング用高周波超音波トランスデューサ
- PE06 非線形第2高調波を受波できる超音波集束ガウス音源(ポスターセッションI)
- 分極反転LiNbO_3結晶を用いた超音波トランスデューサの試作
- 半波整流電流モードでのペルチェ電流リードによる熱侵入の低減
- An Analysis of Jumping and Dropping Phenomena of Piezoelectric Transducers using the Electrical Equivalent Circuit Constants at High Vibration Amplitude Levels
- 反応性プロセシングプラズマにおける電子密度測定用平板型マイクロ波共振器プローブとシース効果
- 29pA28P 誘導結合型プラズマによる銅原子のイオン化(プラズマ基礎・応用)
- SWPケーブルの計算シミュレーション
- スパッタリングを用いた金属イオン源とその応用
- メタルスパッタプラズマの高度化調査専門委員会
- ガスバリア膜形成への銅イオン源の応用
- 間欠ジルコニウムアークプラズマを用いたイオン注入・堆積法によるジルコニア皮膜特性のAr/O_2流量およびアーク電流依存性
- V溝構造により広帯域化を図った無回折ビーム超音波トランスデューサ
- Equivalent Network Analysis of Functionally Graded Piezoelectric Transducers
- Estimation of Epitaxial Temperature Using X-Ray Diffraction for Si Films Grown on (100) Si by Molecular Beam Epitaxy
- Current Injection Free-Exciton Recombination Emission from Synthesized Diamond
- アルゴン/酸素混合ガス中における間欠ジルコニウム陰極アーク放電による酸化ジルコニウム薄膜堆積におけるガス流量の影響
- 6 プラズマイオン注入による表面改質とそのモニタリング(プラズマの基礎・応用研究最前線(中部地区若手・中堅研究者の挑戦))
- オーバートーン厚み振動子を利用した薄膜の音響特性評価
- A-11-5 オーバートーン厚み振動子を利用した薄膜の音響特性評価
- SA-5-5 振動ジャイロ用短冊状LiTaO_3厚みすべり振動子
- プラズマ中での高エネルギー電子ビームの発生と In-situ 表面モニタリングへの応用
- A-11-15 有極性多分域KNbO_3結晶とその圧電特性
- OD01 ZnO/KNbO_3構造におけるSH型表面波と光波との相互作用(光超音波エレクトロニクス,非破壊検査)
- A-11-1 [001]_方向に分極したKNbO_3単結晶の圧電特性
- ZnO/KNbO_3構造におけるSH型表面波-光波相互作用の解析
- 圧電結晶の分極反転とそのデバイスへの応用
- 周波数シフトプローブを用いた電子状態のモニタリング
- 電気システム工学科ホームページの授業への活用
- 電気システム工学科基礎実験室における電子錠の設置とその運用状況
- プラズマイオンプロセスにおける計測技術
- プラズマ環境下にある窒化ガリウム膜のフォトルミネッセンス観測
- 電子状態モニタ用マイクロ波共振器プローブの小型化
- パルスプラズマを用いたカーボンナノチューブの表面処理