ミリ波帯電磁波を用いた窒化珪素の焼結プロセス
スポンサーリンク
概要
著者
-
三宅 正司
阪大溶接研
-
巻野 勇喜雄
大阪大学接合科学研究所
-
三宅 正司
大阪大学接合科学研究所
-
齋藤 英純
神奈川高度技術支援財団
-
上野 敏之
島根県産業技術センター
-
斎藤 英純
神奈川高度技術支援財団
-
三宅 正司
近畿大学リエゾンセンター
-
佐野 三郎
産業技術総合研究所
関連論文
- 27p-R-12 イオンビーム支援蒸着法による窒化硼素薄膜の研究(II) : 薄膜の構造評価
- 5a-H-7 レーザー薄膜蒸発法で生成された中性粒子ビームによる電子密度分布測定
- 14a-DJ-7 TDP再結合水素プラズマ中の反転分布生成機構の実験的考察
- 27p-KL-10 TPD再結合プラズマ中の反転分布と吸収実験
- 4p-NY-1 色素レーザーを用いたプラズマ中の励起原子密度測定 VI
- 28GHzミリ波加熱法により焼結された窒化ケイ素セラミックスの材料物性解析(GS10 セラミックス・腐食)
- 430 Yb_2O_3+Al_2O_3 を添加した窒化ケイ素セラミックスの高温条件下での硬度について
- 自由空間タイムドメイン法によるアルミナのミリ波誘電率測定
- 214 28GHz ミリ波加熱法により作製された窒化ケイ素セラミックスの高温硬さ測定
- 大出力28GHzミリ波加熱法による窒化珪素の低温焼結
- 2a-SB-21 レーザー誘起蛍光法(LIFM)によるスパッタ : 原子の密度測定 I
- ミリ波加熱法によるCaO-Yb_2O_3助剤添加AlNの低温焼結
- AINのミリ波焼結における最適Yb_2O_3助剤添加量の検討
- 窒化アルミニウムのミリ波焼結における希土類酸化物助剤添加の効果
- 窒化アルミニウムのミリ波焼結における添加助剤の比較
- Yb_2O_3助剤添加AINのミリ波焼結
- 4p-RC-3 レーザー薄膜蒸発法で生成された中性粒子ビームによるプラズマ診断
- 5a-D-10 高密度再結合プラズマ中でのヘリウム原子反転分布の観測
- 5a-D-9 高密度再結合プラズマ中での水素原子反転分布の観測
- ミリ波照射による大気中でのFe_2O_3の還元反応
- ジャイロトロン発振ミリ波による金属の表面処理
- 29pA04P ECRマイクロ波スパッタリングにおける基板入射イオンエネルギー分布の計測(プラズマ基礎・応用)
- 高品質SrTiO_3薄膜の低温合成
- ミラー型ECRプラズマスパッタリングによるベロブスカイト型チタン酸化物薄膜合成
- 225 厚板のレーザフォーミングにおける入熱分布の効果 : 2kW級高出力半導体レーザシステムによる材料加工特性の検討(第6報)
- 419 酸化チタン皮膜形成におけるビーム斜入射効果 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第 7 報)
- エアロゾルデポジッション法によるハイドロキシアパタイト皮膜形成
- 120 ビーム入射角制御によるハイドロキシアパタイトコーティング技術 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第6報)
- 406 ハイドロキシアパタイト皮膜形成のための照射条件に関する実験的検討 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第5報)
- 大電流通電加熱法によるアナターゼの緻密化と微細組織
- 電磁エネルギー加熱による各種アルミナの焼結
- 6a-KT-11 回転気体中の大電力マイクロ波プラズマ生成 III : プラズマの分光測定
- 5a-KT-11 回転気体中の大電力マイクロ波プラズマ生成 IV : エネルギー吸収過程
- 24a-C-3 回転気体中の大電力マイクロ波プラズマ生成 II : 矩型TE_モードの放電
- 4a-H-2 大気圧マイクロ波プラズマの研究 II
- 4a-H-1 回転気体中の大電力マイクロ波プラズマ生成
- 4p-RC-4 レーザー誘起蛍光法によるNBTプラズマ中の水素原子密度測定
- 14p-DJ-5 レーザー蛍光法を用いたプラズマ分光III
- 12p-DJ-2 大出力60GHzジャイロトロンによるECRプラズマの研究 : I実験装置および方法
- 27p-KL-12 レーザー蛍光法を用いたプラズマ分光 II
- 2a-SB-23 レーザー蛍光法を用いたプラズマ分光 I
- 2p-Y-4 レーザー蛍光分光法によるプラズマの研究I
- 30p-W-5 多チャンネル測光によるスペクトル線プロフィールの研究 I
- パルスプラズマのシュタルク広がりの実験について (「第3回プラズマフォ-カス研究会」報告)
- パルス高密度プラズマのシュタルク広がりの研究 (高温・高密度プラズマからのスペクトル線の構造と原子過程に関する分光研究)
- 30p-Y-15 OMAを用いたパルス大電流アークの分光測定 III
- 4a-D-6 OMAを用いたパルス大電流アークの分光測定 II
- 2a KB-5 OMAを用いたパルス大電流アークの分光測定
- PZTエアロゾル堆積膜の構造変化に及ぼすミリ波ポストアニール効果 (特集 ナノレベル電子セラミックス材料低温・集積化技術)
- イオン照射によるHfO_2薄膜の構造変化
- Low Temperature Millimeter-Wave Sintering of Aluminum Nitride with Oxide Additive of CaO-Al_2O_3-Yb_2O_3 System
- Dense Nano-structured and Preferentially-oriented Anatase Synthesized by Pulsed High Current Heating
- Effect of Ytterbia Addition on Millimeter-Wave Sintering of Aluminum Nitride(Materials, Metallurgy & Weldability)
- ミリ波加熱を用いて結晶化されたSrBi_2Ta_2O_9強誘電体薄膜の特性
- ミリ波加熱を利用した不揮発性メモリー用強誘電体薄膜のアニーリング
- 1G21 28GHz ミリ波を用いた窒化ケイ素の焼結
- Densification Behavior and Crystallite Growth in Alumina-YSZ Composites Sintered by Millimeter-wave Heating
- OS8(P)-28(OS08W0211) A Study on the Mechanical Properties of Silicon Nitride Ceramics Sintered by 28GHz Millimeter-Wave Heating Method
- 解説 ミリ波加熱法の特徴とセラミックス部材の高品質化
- 14p-DJ-6 アルゴンエキシマレーザーによる不純物炭素原子の測定
- 11p-M-4 電子ビーム励起アルゴンエキシマレーザー(II)
- 28a-G-5 電子ビーム励起アルゴンエキシマレーザ
- 2a-SB-22 アルゴンエキシマレーザーを用いたプラズマ中の炭素酸素原子の密度測定
- 30p-W-8 色素レーザーを用いたプラズマ中の励起原子密度測定(V)
- 新産業創出と独創的研究 ポリシリコン薄膜合成の現状と課題
- 電磁エネルギーの実用技術と設計 大電力ミリ波による材料プロセッシング
- 606 大出力 28GHz ミリ波帯電磁波によるセラミックス焼結加工
- 電磁エネルギー加熱法による新材料創製の可能性
- Influence of Substrate Biasing on (Ba, Sr)TiO_3 Films Prepared by Electron Cyclotron Resonance Plasma Sputtering
- Morphology and Microstructure of Hard and Superhard Zr-Cu-N Nanocomposite Coatings
- 3a-N-3 色素レーザーを用いたプラズマ中の励起原子密度測定(IV)
- 30p-Y-9 色素レーザーを用いたプラズマ中の励起原子密度測定 III
- 12a-P-2 高周波プラギングにおける電子の加熱
- 12a-P-1 高周波プラギング効果の密度および磁場依存性
- Hydroxyapatite Film Formation by Aerosol Deposition Method(Physics, Processes, Instruments & Measurements, INTERNATIONAL SYMPOSIUM OF JWRI 30TH ANNIVERSARY)
- 30a-N-5 大出力60GHzジャイロトロンによるECRプラズマの研究 VI
- 30a-N-4 大出力60GHzジャイロトロンによるECRプラズマの研究 V
- 4p-H-3 大出力60GHzジャイロトロンによるECRプラズマの研究 III
- 12p-DJ-3 大出力60GHzジャイロトロンによるECRプラズマの研究II : プラズマ生成
- 2a-SB-2 MCP & OMA系による多チャンネルX線計測法の開発 II
- 2p-Y-5 MCP & OMA系による多チャンネルX線計測法の開発
- Deposition of Hydroxyapatite Film on Titanium by Ultra-fine Particle Beam(Physics, Processes, Instruments & Measurements)
- 3a-CB-1 高気圧高温プラズマの発生とガス絶縁性の研究 (III)
- 7a-R-8 高気圧高温プラズマの発生とガス絶縁性の研究(II)
- 6p-D-7 高気圧高温プラズマの発生とガス絶縁性の研究(I)
- 4p-G-9 大気圧水素中のマイクロ波プラズマの研究IV
- 4a-D-7 色素レーザーを用いたプラズマ中の励起原子密度測定 (II)
- 4a-D-9 He IIサブレベル間の非統計的分布
- Si薄膜の結晶性に対するポストアニーリング効果
- 高純度アルミナのミリ波焼結における断熱構成依存性
- 誘導結合型プラズマを用いた水素化アモルファスカーボン薄膜の作製
- ミリ波アニールによる(Ba,Sr)TiO_3高誘電率薄膜の合成
- ECRプラズマスパッタリング法による次世代半導体メモリー用薄膜の合成
- 局在電子論にもとづく擬2元系T-Al-N硬質物質の設計 : (2)体積弾性率の予測と硬度の関連
- 局在電子論にもとづく擬2元系T-Al-N硬質物質の設計 : (1)B1/B4相変化の予測と実験結果の比較
- ジャイロトロン発振ミリ波による金属の表面処理
- ミリ波帯電磁波を用いた窒化珪素の焼結プロセス
- Mirror-Confinement-Type ECR プラズマスパッタリング法によるSrBi_2Ta_2O_9薄膜の合成
- MOD法によるSrBi_2Ta_2O_9強誘電体薄膜の低温合成
- AD法にて作成したPZT膜のミリ波照射による構造変化