ECRプラズマスパッタリング法による次世代半導体メモリー用薄膜の合成
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概要
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- 2004-01-30
著者
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三宅 正司
阪大溶接研
-
松本 武
大阪大学接合科学研究所
-
三宅 正司
阪大接合研
-
三宅 正司
近畿大学リエゾンセンター
-
三宅 正司
大阪大学大学院工学研究科
-
松本 武
阪大接合研
-
沼田 乾
神奈川高度技術支援財団高度計測センター
-
Miyake Shoji
Welding Research Institute Of Osaka Univ.
-
沼田 乾
神奈川高度技術支援財団
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