チタン陰極アークを使用したプラズマイオン注入・堆積法によるTiN薄膜のモホロジー
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2001-12-10
著者
-
木幡 護
東芝タンガロイ
-
齋藤 英純
神奈川高度技術支援財団
-
斎藤 英純
神奈川高度技術支援財団
-
行村 建
同志社大工
-
馬 欣新
同志社大学
-
熊谷 正夫
神奈川産技セ
-
丸山 敏朗
京都大学
-
熊谷 正夫
神奈川産総研
-
久世 英司
同志社大
-
久世 英司
同志社大学
-
行村 健
産業技術総合研究所
-
行村 建
同志社大・工
関連論文
- 27p-R-12 イオンビーム支援蒸着法による窒化硼素薄膜の研究(II) : 薄膜の構造評価
- ハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電とパルスRF誘導プラズマ結合プラズマの電気的相互作用
- 正パルスバイアスPBII&D法によるTiNコーティングの予備実験
- デュアルプラズマ法による絶縁物表面の加工特性
- CNx成膜のためのシャンティングアークを用いた炭素・窒素混合プラズマの生成
- シリコンへのリンとボロンの同時注入によるリンの拡散の抑制
- 磁気駆動型シャンティングアークプラズマからのイオン引き出しとシース近辺の密度の算定
- 正バイアス電極を用いたシャンティングアークによる誘起プラズマの生成
- シャンティングアーク放電誘起プラズマの電流特性
- 全方位シャンティングアーク放電による窒素を含むアモルファスカーボン薄膜生成
- イオンビーム支援蒸着法を用いたCeO_2薄膜合成におけるモルフォロジーに及ぼすイオン照射効果
- ハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電プラズマの放電開始特性
- 28GHzミリ波加熱法により焼結された窒化ケイ素セラミックスの材料物性解析(GS10 セラミックス・腐食)
- 430 Yb_2O_3+Al_2O_3 を添加した窒化ケイ素セラミックスの高温条件下での硬度について
- 214 28GHz ミリ波加熱法により作製された窒化ケイ素セラミックスの高温硬さ測定
- 大出力28GHzミリ波加熱法による窒化珪素の低温焼結
- 234 28GHzミリ波加熱法により作製された窒化ケイ素セラミックスの機械的特性について(OS6-8 材料評価)(OS6 実験力学の新展開)
- 28GHzミリ波加熱法による窒化珪素の焼結と Yb_2O_3-Al_2O_3系新助剤の開発
- 大出カミリ波加熱法による高純度アルミナの焼結
- クロムイオンの光学吸収から見たアルミナの焼結におけるミリ波効果
- ミリ波焼結窒化ケイ素におけるYb_2O_3系助剤の役割
- 大気圧非平衡プラズマによるH_2/N_2/O_2系水素酸化特性とその反応メカニズム
- デュアルプラズマ配位におけるイオンエネルギーのガス圧力依存性
- 対向電極型大電力パルススパッタ(HPPS)グロー放電と195kHz-RF放電のハイブリッド放電におけるガス変化による電気的特性の違い
- デュアルプラズマ配位における絶縁性基材の帯電中和条件の検討
- ハイパワーパルススパッタ(HPPS)マグネトロン放電装置の特性
- 対向電極型ハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電からの金属イオンの引き出しおよび基材面のプラズマ密度
- ハイパワーパルススパッタ(HPPS)マグネトロン放電の電気的特性および発光スペクトル
- 対向電極型大電力パルススパッタ(HPPS)グロー放電と195kHz-RF放電によるハイブリッド放電の電気的特性
- シャンティングアーク放電プラズマの構造解析
- グリッド制御を用いたプラズマイオンプロセス
- ハイパワーパルススパッタグロー放電(HPPS)による発光スペクトルの観測およびプラズマ密度の検討
- 負パルス-デュアルプラズマ法の基礎特性とポリマー表面改質への応用
- 大気圧非平衡プラズマによる水素燃焼特性とその反応メカニズム
- ハイパワーパルススパッタグロー放電(HPPS)の電圧、電流特性および発光スペクトル
- 数十kW級大電力パルスグロー放電電気的特性の圧力依存性
- デュアルプラズマ配位の形成に対するグリッド粗さと印加電圧の効果
- デュアルプラズマイオンプロセスにおける絶縁性基材の帯電制御
- デュアルプラズマ含浸イオンプロセスによる絶縁物の表面処理
- 24aB15P 酸素プラズマスパッタ法による酸化ジルコニウム薄膜合成に及ぼすターゲット状態の影響(プラズマ応用、慣性核融合, (社) プラズマ・核融合学会第21回年会)
- シャンティングアークを用いた窒素含有プラズマ生成とCNx成膜への適用
- シャンティングアークプラズマの大容積化と管内壁処理への適用
- 対向電極型HPPSグロープラズマ源が放出するプラズマ流の電流電圧特性
- 誘導結合型RFパルス放電を重畳させたハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電のアルゴン雰囲気下における電気的特性
- 対向電極型ハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電からの金属イオンの引き出しおよび基材面における発光スペクトル
- 発光スペクトルにみるハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電における磁界の効果
- ハイパワーパルススパッタグロー放電(HPPS)から引き出されたプラズマとイオン電流に関する検討
- ハイパワーパルススパッタグロー放電(HPPS)におけるプラズマ負荷特性の検討
- ドロップレットフリー数十kW級大電力パルススパッタリング(HPPS)グロープラズマの生成
- NOx処理における酸素の影響
- DBDラジカルインジェクション法による、メッシュ長さの変化においてのNOx処理
- 水素ECRプラズマ処理による砒素注入されたシリコンの浅いN形層の形成
- 間欠ジルコニウムアークPBII&D法によるジルコニア皮膜
- 間欠ジルコニウムアークPBII&D法によるジルコニア皮膜
- PBII&D法によるRFスパッタ銅イオンを用いた酸化銅成膜
- FPB処理による表面ナノ結晶化(微粒子ピーニングによる表面改質とその応用)
- 微粒子ピーニングによるSCr420浸炭焼入れ鋼表面のナノ結晶化(相変態・材料組織)
- 微粒子衝突加工によるSCr420浸炭焼入れ鋼の組織変化
- 微粒子衝突加工によるSCr420浸炭焼入れ鋼の組織変化
- シリコンへのジボランイオン注入における水素分子イオンのボロン分布への影響
- 窒化ケイ素のミリ波焼結特性におよぼすYb_2O_3-Al_2O_3系助剤組成の効果
- ミリ波加熱法によるYb_2O_3添加窒化ケイ素の焼結特性と強度
- チタン陰極アークプラズマイオン注入・堆積法による窒化チタン成膜における成膜圧力の影響
- シャンティングアークによるカーボン系素材の堆積
- 金属プラズマを用いたPBII&Dにおけるイオンの効果
- チタン陰極アークを使用したプラズマイオン注入・堆積法によるTiN薄膜のモホロジー
- 陰極アークを用いたプラズマイオン注入・堆積法における円筒内面改質におけるターゲット印加電圧
- プラズマイオン注入におけるイオンの役割とTiN薄膜の構造に対するイオンの動的挙動の影響
- 磁気駆動を用いたシャンティングアークプラズマ成膜の速度改善
- 磁気駆動型シャンティングアークの発生とその電気的特性
- N イオン付加レーザ PVD 法による cBN 膜の形成
- PVD被覆超硬合金の被膜中の残留応力と切削性能
- 接点開離金属アークを種とする正バイアス電極を用いた複合プラズマ生成
- 正バイアス・プラズマイオンプロセスの展開
- 26aB02P プラズマイオン注入における正パルスバイアス法の提案とイオンエネルギー(プラズマ基礎・応用)
- チタン陰極アークプラズマ中に置かれたトレンチ基材におけるパルス電圧印加に伴うイオンシース挙動およびイオン電流特性
- 中国におけるPBII研究の現状
- プラズマイオン注入調査専門委員会
- 306 大気圧プラズマで生成させたアンモニアラジカルによる高効率排煙脱硝(大気環境改善技術(1),大気・水保全技術)
- レーザPVD法による硬質セラミック膜の形成
- 熱CVD法により形成された硬質膜の内部応力 (表面処理と処理層の内部応力)
- 25pB04 酸素誘導結合型プラズマによる酸化ジルコニウム薄膜合成(プラズマ基礎・応用I)
- 対向電極型ハイパワーパルススパッタグロー放電における静電シールドの効果
- 高密度パルスプラズマ生成用高電圧 - 大電流パルス電源の開発
- 対向電極型大電力パルススパッタグロー放電のガス変化における発光スペクトルの解析
- 誘導結合型RFパルス放電を重畳させたハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電のアルゴン/窒素雰囲気下における電気的特性
- Metal Ionization in a High-Power Pulsed Sputtering (HPPS) Penning Discharge
- 大気圧非平衡プラズマによる燃料電池水素オフガスの酸化特性
- プロセスチャンバー汚損内壁の環境調和型プラズマクリーニング法の検討
- ラジカルインジェクション脱硝法のラジカル反応メカニズム
- 熱CVD法により形成された硬質膜の内部応力
- シャンティングアークの並列駆動と炭素成膜
- アナターゼの結晶学的特性を利用した大電流通電プロセスの焼結均質性
- ミリ波帯電磁波を用いた窒化珪素の焼結プロセス
- 内部電極が挿入された対向電極型大電力パルススパッタプラズマの電気的特性
- A new approach of high-power pulsed glow-plasma generation : shunting glow plasma
- 29aA05P エネルギーの異なるプラズマイオン交互注入による炭素系硬質薄膜合成(プラズマ応用)
- シャンティングアークプラズマの半導体制御及びダブルプローブ計測
- 内部電極が挿入された対向電極型大電力パルススパッタ放電におけるイオン電流の圧力依存性
- 窒化ケイ素のミリ波焼結における焼結性および機械的特性に与える希土類酸化物系助剤の効果