誘導結合型RFパルス放電を重畳させたハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電のアルゴン雰囲気下における電気的特性
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2009-06-12
著者
-
行村 建
同志社大学
-
東 欣吾
兵庫県立大
-
行村 建
産業技術総合研究所
-
玉垣 浩
(株)神戸製鋼所
-
沖本 忠雄
(株)神戸製鋼所
-
佐久間 雄基
同志社大学
-
行村 建
同志社大工
-
東 欣吾
兵庫県立大学
-
行村 健
産業技術総合研究所
-
行村 建
産業技術総合研
関連論文
- XeClエキシマレーザ励起放電におけるアーク移行と金属スペクトルの発生
- 正パルスバイアスPBII&D法によるTiNコーティングの予備実験
- CNx成膜のためのシャンティングアークを用いた炭素・窒素混合プラズマの生成
- 8a-Q-3 水中過渡アーク放電の陽光柱
- 5a-K-1 液中過度アーク放電の気ほう II
- 磁気駆動型シャンティングアークプラズマからのイオン引き出しとシース近辺の密度の算定
- 正バイアス電極を用いたシャンティングアークによる誘起プラズマの生成
- シャンティングアーク放電誘起プラズマの電流特性
- 全方位シャンティングアーク放電による窒素を含むアモルファスカーボン薄膜生成
- ターゲット電流を用いたシャンティングアークプラズマの密度計測
- シャンティングアークアシストRF(195kHz)放電のイオン電流とイオン密度
- シャンティングアークアシストRF(195kHz)放電の発光スペクトル
- 大気圧非平衡プラズマによるH_2/N_2/O_2系水素酸化特性とその反応メカニズム
- ZnOナノストラクチャーの化学的堆積について
- デュアルプラズマ配位におけるイオンエネルギーのガス圧力依存性
- 対向電極型大電力パルススパッタ(HPPS)グロー放電と195kHz-RF放電のハイブリッド放電におけるガス変化による電気的特性の違い
- デュアルプラズマ配位における絶縁性基材の帯電中和条件の検討
- ハイパワーパルススパッタ(HPPS)マグネトロン放電装置の特性
- 対向電極型ハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電からの金属イオンの引き出しおよび基材面のプラズマ密度
- ハイパワーパルススパッタ(HPPS)マグネトロン放電の電気的特性および発光スペクトル
- 対向電極型大電力パルススパッタ(HPPS)グロー放電と195kHz-RF放電によるハイブリッド放電の電気的特性
- シャンティングアークによる成膜プロセス
- シャンティングアーク放電プラズマの構造解析
- グリッド制御を用いたプラズマイオンプロセス
- ハイパワーパルススパッタグロー放電(HPPS)による発光スペクトルの観測およびプラズマ密度の検討
- 負パルス-デュアルプラズマ法の基礎特性とポリマー表面改質への応用
- 大気圧非平衡プラズマによる水素燃焼特性とその反応メカニズム
- ハイパワーパルススパッタグロー放電(HPPS)の電圧、電流特性および発光スペクトル
- 間欠誘電体バリア放電によるNOxガスの高効率直接脱硝
- 数十kW級大電力パルスグロー放電電気的特性の圧力依存性
- デュアルプラズマ配位の形成に対するグリッド粗さと印加電圧の効果
- デュアルプラズマイオンプロセスにおける絶縁性基材の帯電制御
- デュアルプラズマ含浸イオンプロセスによる絶縁物の表面処理
- 正バイアス電極を持つ間欠ジルコニウムPBII&D法による酸化ジルコニウム膜生成
- シャンティングアークを用いた窒素含有プラズマ生成とCNx成膜への適用
- シャンティングアークプラズマの大容積化と管内壁処理への適用
- PBII&D法によるRFスパッタを用いたカーボン膜およびタングステンカーボン膜生成
- 誘導結合型RFパルス放電を重畳させたハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電のアルゴン雰囲気下における電気的特性
- 対向電極型ハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電からの金属イオンの引き出しおよび基材面における発光スペクトル
- 発光スペクトルにみるハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電における磁界の効果
- ハイパワーパルススパッタグロー放電(HPPS)から引き出されたプラズマとイオン電流に関する検討
- ハイパワーパルススパッタグロー放電(HPPS)におけるプラズマ負荷特性の検討
- ドロップレットフリー数十kW級大電力パルススパッタリング(HPPS)グロープラズマの生成
- NOxガスの間欠誘電体バリア放電による高効率直接分解
- NOx処理における酸素の影響
- DBDラジカルインジェクション法による、メッシュ長さの変化においてのNOx処理
- 間欠型DBDを用いたアンモニアラジカルインジェクション法DeNOxにおける注入モル比と処理効率
- はじめに : プラズマイオンプロセス最前線
- プラズマイオン注入・堆積法の新しい展開
- 三次元イオン注入システム
- エキシマレーザアブレーションによる加工深さのパルス幅及びターゲット材依存性 : MDシミュレーションによる検討
- 間欠ジルコニウムアークPBII&D法によるジルコニア皮膜
- 間欠ジルコニウムアークPBII&D法によるジルコニア皮膜
- PBII&D法によるRFスパッタ銅イオンを用いた酸化銅成膜
- プラズマイオン注入における高密度プラズマ生成技術
- 10kHz-100kHzにおけるAC型PDP無声放電の電気的特性
- Xe_2エキシマランプにおける無声放電の電気的特性及び発光特性
- 沿面無声放電による真空紫外光強度の増強に関する研究
- 低気圧領域における無声放電励起希ガスエキシマ光出力の圧力依存性
- Xe/He, Xe/Ne, Xe/Ar, Xe/Kr混合ガスにおける真空紫外エキシマ光の発生
- 低気圧領域における無声放電希ガスエキシマ光出力の圧力依存性
- 間欠型DBDを用いたアンモニアラジカルインジェクション法DeNOxにおける注入モル比と処理効率
- DBDアンモニアラジカルNOx処理法における高効率脱硝
- アンモニアラジカルNOx処理のギャップ長変化時におけるDBDエネルギー
- アンモニアラジカルNOx処理最適化におけるDBDギャップ長の影響
- 酸素を含む高濃度NO濃度領域における高効率脱硝
- アンモニアラジカルインジェクターにおける放電管ギャップ長のDeNOxに与える影響
- エキシマレーザ放電中の衝撃波やアークに伴う流体力学的現象
- XeClエキシマレーザ励起放電におけるアーク移行と金属スペクトルの発生
- クリプトンフッ素エキシマレーザを想定した予備電離用パルスアーク放電のスペクトル観測
- ニオブ酸リチウム(LiNbO_3)のKrFエキシマレーザ加工
- XeClエキシマレーザ励起放電におけるアーク移行と金属スペクトルの発生
- 希ガスエキシマ励起を目的とした無声放電の電気的特性
- レーザアブレーションの分子動力学シミュレーション
- 大気中の誘電体バリア放電を用いたポリテトラフルオロエチレンの表面改質
- 大気中の誘電体バリア放電を用いたポリテトラフルオロエチレンの表面改質
- エキシマレーザーアブレーション法による機能性薄膜の製作
- RFバースト炭素系アフターグロー中のプラズマ密度
- RF放電中でのシャンティングプラズマ生成
- CH_4-RFプラズマ中で生成したDLC膜の特性 : 定常波及びバースト波の比較
- PBII法に用いるRFプラズマのイオンシース進展と電流解析
- バーストRFプラズマにおけるイオン電流解析
- PLD法によるダイヤモンド状炭素薄膜の合成
- パルスレーザアブレーション法によるDLC薄膜の生成
- シャンティングアークを用いた複合プラズマにおける分光特性
- シャンティングアークによりトリガされた正バイアス電極に発生する誘起プラズマ特性
- "極限"に向かうレ-ザ技術
- 窒素ガス中の直流チタンアーク放電を用いたプラズマイオン注入による窒化チタン膜コーティング(プラズマ・表面相互作用)
- 三次元形状物への高エネルギーイオン注入
- 3次元イオン注入用高電圧パルスモデュレータ電源装置の開発 : 2A/100kV/2000pps
- プラズマ中のイオン引出しによる三次元イオン注入技術
- 全方位型パルスイオン注入装置によるTi製膜
- 3次元イオン注入システムにおけるイオン電流のパラメータ依存性
- 一様垂直入射イオンビームによるTiの製膜
- パルス電圧印加を用いたイオン源の開発
- ArFエキシマレーザCVDによるSiO_2薄膜の形成
- ArFエキシマレーザCVDによるSiO_2薄膜の形成
- 放電励起KrFエキシマレーザ励起放電のアーク移行特性
- 放電励起形KrFエキシマレーザ励起放電のアーク移行特性
- プラズマイオン注入を目的とした新しいモデュレータ動作へのターゲット面積およびターゲット位置の効果