一様垂直入射イオンビームによるTiの製膜
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概要
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Tiをはじめとする高融点, 耐磨耗性, 耐腐食性を持った金属を用いてパルス電圧を印加することにより, 効率よく均質に製膜をおこなえるイオンプロセス技術を確立し, 長寿命, 高耐久性をもつ高機能材料膜を創製することを目的として, 金属イオン供給方式として, アーク放電により形成したTi金属プラズマを用い, パルス電圧を印加をしながら蒸着をおこない, その製膜特性を評価したので報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1997-03-06
著者
-
吉門 進三
同志社大学工学部
-
行村 建
同志社大学
-
鈴木 泰雄
イオン工学研究所
-
大野 一人
同志社大学工学部
-
黒岡 俊次
イオン工学研究所
-
向当 正朗
同志社大学
-
佐藤 成悟
同志社大学工学部
-
祖父 江聡
同志社大学工学部
-
大野 一人
同志社大学
-
行村 健
産業技術総合研究所
-
吉門 進三
同志社大学 理工学部
-
吉門 進三
同志社大学
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