フッ素系ガスプラズマRIEを用いたLiNbO_3, LiTaO_3結晶の加工表面評価
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概要
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Etching characteristic LiNbO3 and LiTaO3 single crystals has been investigated using plasma RIE with mixture gases of CF4/Ar, CF4/H2, CF4/Ar/H2. The etched surface was evaluated by means of atomic force microscopy and X-ray diffraction methods. The in situ surface temperature of the sample during RIE was measuresd. F atoms exist in the contamination layer, such as sediments, on the surface etched using the mixture gases of CF4, Ar and H2 gases. The etch rate was dependent on the orientation of a crystal. The etch rate of LiTaO3 was less than that of LiNbO3.
- 社団法人 電気学会の論文
- 2003-08-01
著者
-
吉門 進三
同志社大学工学部
-
吉門 進三
同志社大学工学部電気工学教室
-
吉門 進三
同志社大学理工学部
-
藤井 隆裕
同志社大学
-
吉門 進三
同志社大学大学院工学研究科
-
吉門 進三
同志社大学 理工学部
-
吉門 進三
同志社大学
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