明渡 純 | 独立行政法人 産業技術総合研究所
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概要
関連著者
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明渡 純
独立行政法人 産業技術総合研究所
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朴 載赫
産総研
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明渡 純
産業技術総合研究所
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明渡 純
産業技術総合研
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明渡 純
独立行政法人産業技術総合研究所 先進製造プロセス研究部門
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明渡 純
産総研
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池田 直
岡大院自然
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廣瀬 伸吾
独立行政法人 産業技術総合研究所
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廣瀬 伸吾
(独)産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門集積加工研究グループ
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神戸 高志
岡山大学大学院自然科学研究科
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池田 直
岡山大院自然
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永田 知子
岡大院自然
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福山 諒太
岡大院自然
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明渡 純
(独)産業技術総合研究所
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津田 弘樹
産業技術総合研究所
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江塚 幸敏
独立行政法人 産業技術総合研究所
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津田 弘樹
独立行政法人 産業技術総合研究所
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神戸 高志
岡大院自然
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高橋 庸祐
岡山大学理学部物理
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久保園 芳博
岡山大学大学院自然科学研究科
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池田 直
岡山大学大学院自然科学研究科
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神戸 高志
岡山大院自然
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黒田 朋子
岡大院自然
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北村 聡
岡大院自然
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船江 岳史
岡大院自然
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松尾 祥史
岡大院自然
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君塚 昇
岡大院自然
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藤井 達生
岡山大学大学院自然科学研究科
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黒田 朋子
岡山大院自然
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真栄田 大介
岡山大院自然
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松尾 祥史
大阪府大工
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君塚 昇
岡山大院自然
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大橋 啓之
日本電気(株)
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河相 暢幸
岡山大理
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浜尾 志乃
岡山大理
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福山 諒太
岡山大院自然
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北村 聡
岡大理
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船江 岳史
岡大理
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永田 知子
岡山大学
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浜尾 志乃
岡山大学
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真栄田 大介
岡山大学
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河相 暢幸
岡山大学
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佐坂 英信
岡山大学
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大橋 啓之
NEC
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中野 禅
産業技術総合研究所
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杉本 諭
東北大学大学院工学研究科材料物性学
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明渡 純
(独)産業技術総合研究所グループ
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藤井 達生
岡山大学
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杉本 諭
東北大学大学院工学研究科知能デバイス材料学専攻
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今中 佳彦
(株)富士通研究所 メディアデバイス研究部
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杉本 論
東北大学大学院工学研究科
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大橋 啓介
MIRAI-Selete
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杉本 諭
東北大
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高橋 庸祐
岡山大学大学院自然科学研究科
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大橋 啓之
日本電気株式会社
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坂本 伸雄
独立行政法人 産業技術総合研究所
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呉 世雄
独立行政法人 産業技術総合研究所
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朴 載赫
独立行政法人 産業技術総合研究所
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清原 正勝
Toto(株)セラミック事業部セラミック技術部
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清原 正勝
東陶機器株式会社
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今中 佳彦
(株)富士通研究所 ビジネスインキュベーション研究所
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今中 佳彦
(株)富士通研究所
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小檜山 光信
独立行政法人 産業技術総合研究所
著作論文
- 20aPS-90 酸化鉄化合物-遷移金属酸化物接合系の半導体特性(20aPS 領域8ポスターセッション(低温I(遷移金属化合物,炭化・硼化物など)),領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
- 27pYD-11 酸化鉄化合物/C60接合系におけるPN接合と光学特性(界面・分子デバイス3,領域7,分子性固体・有機導体)
- 未来技術のための粉体ナノテクノロジー 2. 2 光・IT技術のための粉体ナノテクノロジー 2. 2. 3 ナノ粒子による電子デバイスの低温形成技術 : AD法によるセラミックス微粒子の常温衝撃固化現象とその応用
- エアロゾルデポジション法による常温衝撃固化現象と永久磁石の薄膜化
- エアロゾルデポジションによる高周波キャパシタ膜の形成とその応用
- エアロゾルデポジション法--高機能部品の低コスト、省エネ製造への取り組み
- エアロゾルデポジション(AD)法による圧電厚膜形成と光デバイスへの応用
- エアロゾルデポジション法とその応用
- エアロゾルデポジションによるα-アルミナ膜の作製と構造的、機械的特性の評価
- 噴射粒子ビームによる衝撃加工とナノ構造形成 : エアロゾルデポジション法によるナノ結晶膜の形成と粉体技術の重要性
- レーザーディスプレイ用超広角・高速走査MEMS光スキャナーの開発 (「ここまで来たレーザーディスプレイ」解説小特集号)
- エアロゾルデポジション(AD)法による常温セラミックスコーティング
- エアロゾルデポジション法により作製した赤外透過セラミックス・コーティングの検討
- 赤外用光学フィルターの作製のための理論的検討とAD成膜および光学的評価