今中 佳彦 | (株)富士通研究所 メディアデバイス研究部
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概要
関連著者
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今中 佳彦
(株)富士通研究所 メディアデバイス研究部
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今中 佳彦
(株)富士通研究所
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(株)富士通研究所 ビジネスインキュベーション研究所
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明渡 純
独立行政法人産業技術総合研究所 先進製造プロセス研究部門
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今中 佳彦
(株)富士通研究所厚木研究所
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亀原 伸男
(株)富士通研究所厚木研究所
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(株)富士通研究所材料技術研究所
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青木 重憲
富士通研
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(株)富士通研究所
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明渡 純
産業技術総合研
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(株)富士通研究所
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明渡 純
(独)産業技術総合研究所グループ
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明渡 純
産業技術総合研究所機械システム研究部門グループ
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明渡 純
産業技術総合研究所
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大饗 義久
(株)アドバンテスト EB リソグラフィ事業部
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笠井 一夫
住友精密工業(株) マイクロテクノロジー事業部技術部
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山崎 一寿
(株)富士通研究所厚木研究所
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森田 直威
(株)東レリサーチセンター表面科学研究部イオンビーム解析研究室
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明渡 純
(独)産業技術総合研究所つくば東事業所 先進製造プロセス研究部門 集積加工研究グループ
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笠井 一夫
住友精密工業
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明渡 純
独立行政法人 産業技術総合研究所
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今中 佳彦
(株)富士通研究所環境・エネルギー研究センター
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今中 佳彦
(株)富士通研究所 環境・エネルギー研究センター
著作論文
- エアロゾルデポジションを用いた内蔵キャパシタ技術
- エアロゾルデポジションによる高周波キャパシタ膜の形成とその応用
- エアロゾルデポジション(AD)を用いた高周波フィルターのエンベッディド化技術 (特集 マイクロ波・ミリ波誘電体)
- エアロゾルデポジションによる高周波受動素子集積化技術
- ポストLTCCとしてのエアロゾルデポジション (特集 LTCCの最新技術動向)
- 電子ビーム露光装置用偏向カラム電極
- ICPプラズマエッチング装置によるシリコンの加工 - 原理と応用 -
- 多層セラミック回路基板の寸法制御に及ぼす焼成収縮ミスマッチ(銅/セラミック)の影響
- ホウケイ酸ガラスの結晶化に及ぼすアルミナの添加効果(ガラス化・アモルファス化・結晶化)(ガラス・アモルファス材料及びその材料科学の進展)
- 低温焼成ガラス-セラミックス複合材料の結晶化
- RBSによるセラミックス・無機材料の分析
- 低温同時焼成セラミックス(LTCC)テクノロジー
- 電子デバイスの高速・高密度実装とインテグレーション技術論文特集の発行にあたって