明渡 純 | 独立行政法人産業技術総合研究所 先進製造プロセス研究部門
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概要
関連著者
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明渡 純
独立行政法人産業技術総合研究所 先進製造プロセス研究部門
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明渡 純
独立行政法人 産業技術総合研究所
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今中 佳彦
(株)富士通研究所 メディアデバイス研究部
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明渡 純
産業技術総合研
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明渡 純
(独)産業技術総合研究所
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明渡 純
産業技術総合研究所
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今中 佳彦
(株)富士通研究所 ビジネスインキュベーション研究所
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今中 佳彦
(株)富士通研究所
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朴 載赫
産総研
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杉本 諭
東北大学大学院工学研究科材料物性学
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明渡 純
(独)産業技術総合研究所グループ
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明渡 純
産業技術総合研究所機械システム研究部門グループ
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杉本 諭
東北大学大学院工学研究科知能デバイス材料学専攻
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廣瀬 伸吾
独立行政法人 産業技術総合研究所
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廣瀬 伸吾
(独)産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門集積加工研究グループ
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杉本 論
東北大学大学院工学研究科
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明渡 純
(独)産業技術総合研究所つくば東事業所 先進製造プロセス研究部門 集積加工研究グループ
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杉本 諭
東北大
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坂本 伸雄
独立行政法人 産業技術総合研究所
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江塚 幸敏
独立行政法人 産業技術総合研究所
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呉 世雄
独立行政法人 産業技術総合研究所
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朴 載赫
独立行政法人 産業技術総合研究所
著作論文
- 未来技術のための粉体ナノテクノロジー 2. 2 光・IT技術のための粉体ナノテクノロジー 2. 2. 3 ナノ粒子による電子デバイスの低温形成技術 : AD法によるセラミックス微粒子の常温衝撃固化現象とその応用
- エアロゾルデポジション法による常温衝撃固化現象と永久磁石の薄膜化
- エアロゾルデポジションによる高周波キャパシタ膜の形成とその応用
- エアロゾルデポジション(AD)を用いた高周波フィルターのエンベッディド化技術 (特集 マイクロ波・ミリ波誘電体)
- エアロゾルデポジションによる高周波受動素子集積化技術
- ポストLTCCとしてのエアロゾルデポジション (特集 LTCCの最新技術動向)
- エアロゾルデポジション法とその応用
- レーザー援用インクジェット技術の開発--高スループットとファイン化の両立を目指した配線技術
- エアロゾルデポジション（AD）法による常温セラミックスコーティング
- エアロゾルデポジションによるα-アルミナ膜の作製と構造的、機械的特性の評価
- 常温衝撃固化現象とエアロゾルデポジション技術 (特集 ナノレベル電子セラミックス材料低温・集積化技術)
- エアロゾルデポジション法による常温衝撃固化現象と集積化技術への展開 (特集 エアロゾルデポジション法)
- エアロゾルデポジション(AD)法による常温セラミックコーティング