明渡 純 | (独)産業技術総合研究所
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概要
関連著者
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明渡 純
(独)産業技術総合研究所
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明渡 純
産業技術総合研
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明渡 純
(独)産業技術総合研究所グループ
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明渡 純
産業技術総合研究所
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明渡 純
産業技術総合研究所機械システム研究部門グループ
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明渡 純
産総研
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阿部 信行
大阪大学接合科学研究所
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塚本 雅裕
大阪大学接合科学研究所
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津田 弘樹
産業技術総合研究所
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杉本 諭
東北大学大学院工学研究科知能デバイス材料学専攻
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杉本 論
東北大学大学院工学研究科
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杉本 諭
東北大
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大橋 啓之
日本電気(株)
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大橋 啓之
NEC
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中田 正文
日本電気(株)ナノエレクトロニクス研究所
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田中 正文
NEC機能デバイス研究所
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大橋 啓介
MIRAI-Selete
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中田 正文
Mirai-selete
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杉本 諭
東北大学大学院工学研究科材料物性学
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清原 正勝
東陶機器(株)
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鳩野 広典
東陶機器(株)
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Lebedev M
National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology (aist)
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明渡 純
(独)産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門集積加工研究グループ
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中村 尚行
大阪大学大学院
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清水 隆徳
MIRAI-Selete
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岩波 瑞樹
日本電気株式会社システム実装研究所
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森本 純司
近畿大学理工学部
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レベデフ マキシム
東京計装
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猪俣 浩一郎
東北大学大学院工学研究科知能デバイス材料学専攻
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小木曽 久人
産総研
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中野 禅
産業技術総合研究所
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杉本 諭
東北大学 大学院工学研究科 知能デバイス材料学専攻
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中田 正文
NECナノエレクトロニクス研究所
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岩波 瑞樹
NECシステム実装研
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大橋 啓之
NECナノエレクトロニクス研究所
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阿部 信行
大阪大学 接合科学研究所
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籠谷 登志夫
東北大学大学院工学研究科 知能デバイス材料学専攻
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Kagotani T.
Graduate School Of Engineering Tohoku University
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猪俣 浩一郎
東北大学大学院工学研究科
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馬場 創
(独)産業技術総合研究所
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藤原 俊明
大阪大学大学院
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レベデフ マキシム
産総研
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廣瀬 伸吾
(独)産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門集積加工研究グループ
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森本 純司
近畿大学
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森 正和
龍谷大学 理工学部 機械システム工学科
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小木曽 久人
産業技術総合研究所
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伊藤 朋和
東陶機器
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Lebedev Maxim
産総研
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小木曽 久人
(独)産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門集積加工研究グループ
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中野 人志
近畿大学理工学部
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朴 載赫
産総研
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井上 光輝
豊橋技科大
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西村 一寛
豊橋技科大
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藤田 雅之
レーザー技術総合研究所
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藤田 雅之
大阪大学 レーザーエネルギー学研究センター
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猪俣 浩一郎
都立大理学部
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大橋 啓之
日本電気株式会社 基礎・環境研究所
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大橋 啓之
Mirai-selete:日本電気株式会社
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中野 禅
産総研
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手束 展規
東北大学大学院工学研究科材料物性学
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曽我 幸弘
阪大院工
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猪俣 浩一郎
東芝研究開発センター
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坂田 英明
東京理科大 理
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内田 裕久
豊橋技術科学大学
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内田 裕久
豊橋技科大
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内田 裕久
東北工業大学
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溝口 真彦
豊橋技科大
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明渡 純
工業技術院機械技術研究所
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明渡 純
独立行政法人産業技術総合研究所 先進製造プロセス研究部門
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小木曽 久人
(独)産業技術総合研究所
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吉田 実
近畿大学理工学部
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野口 真純
東北大学
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峯田 真悟
東北大学
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野口 真純
東北大学大学院
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峯田 真悟
東北大学大学院
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槙 智仁
東北大学 大学院工学研究科 知能デバイス材料学専攻
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猪俣 浩一郎
東北大学 大学院工学研究科 知能デバイス材料学専攻
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寺田 健吾
大阪大学大学院
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中村 尚行
近畿大学理工学部
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槙 智仁
東北大学大学院工学研究科
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籠谷 登志夫
東北大学大学院工学研究科
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岩波 瑞樹
日本電気株式会社 生産技術研究所
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中田 正文
日本電気株式会社 基礎・環境研究所
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西村 一寛
鈴鹿工業高等専門学校電気電子工学科
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手束 展規
東北大学大学院工学研究科知能デバイス材料学専攻
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岡山 克巳
ソニーイーエムシーエス(株)
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森 勝彦
東陶機器(株)
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中田 正文
MIRAI-Selet
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塚本 雅裕
大阪大学 接合科学研究所
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遠藤 聡人
産業技術総合研究所
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岩波 瑞樹
日本電気株式会社
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手束 展規
東北大・工
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岩田 篤
産業技術総合研究所
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レベデフ マキシム
産業技術総合研究所
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大橋 啓之
Mirai-selete
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廣瀬 伸吾
(独)産業技術総合研究所
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塚本 雅裕
大阪大学溶接工学研究所
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中野 人志
近畿大学大学院総合理工学研究科
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Fujita M
Kyoto Univ. Kyoto Jpn
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Fujita Masayuki
New Materials Research Center Sanyo Electric Co.
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Fujita Masayuki
Yokohama National University Department Of Electrical And Computer Engineering
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Fujita Masayuki
School Of Information Science Japan Advanced Institute Of Science And Technology
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大橋 啓之
日本電気株式会社
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明渡 純
独立行政法人 産業技術総合研究所
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Sugimoto Satoshi
Department Of Materials Science Graduate School Of Engineering Tohoku University
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坂田 英明
東京理科大
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水野 章敏
学習院大学理学部
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村上 雅人
芝浦工大
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村上 雅人
超電導工研
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南 典明
高知県工業試験場
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秋元 俊彦
学習院大理
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渡辺 匡人
学習院大理
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芦田 極
産業技術総合研究所
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藤田 雅之
レーザー総研
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坂田 英明
東理大理
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黄地 尚義
大阪大学大学院
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辻道 万也
東陶機器(株) タイル・建材事業部
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猪俣 浩一郎
東北大工
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猪俣 浩一郎
(株)東芝研究開発センター
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猪俣 浩一郎
独立行政法人物質・材料研究機構 磁性材料センター
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坂田 英明
東工大理:(現)東理大理
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村上 雅人
(財)国際超電導産業技術研究センター 超電導工学研究所 本所
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腰塚 直己
(財)国際超電導産業技術研究センター超電導工学研究所
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阿部 伸行
大阪大学
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原田 高志
日本電気株式会社
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芦田 極
産総研
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水野. 章敏
学習院大学理学部物理学科
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清原 正勝
TOTO(株)
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鳩野 広典
TOTO(株)
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岩澤 順一
TOTO(株)
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曽我 幸弘
大阪大学大学院工学研究科
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平山 亨
東北大学 大学院工学研究科 知能デバイス材料学専攻
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籠谷 登志夫
東北大学 大学院工学研究科 知能デバイス材料学専攻
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森 正和
産業技術総合研究所
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馬場 創
産業技術総合研究所
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北島 明子
産業技術総合研究所
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西 研一
MIRAI-Selete
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西 研一
(株)半導体先端テクノロジーズ技術戦略室
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中野 裕美
豊橋技術科学大学
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木村 景一
ソニーイーエムシーエス(株)
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籠谷 登志夫
東北大院
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杉本 諭
東北大院
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右田 実雄
ミネルバ(株)
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楠木 孝章
ミネルバ(株)
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廣瀬 伸吾
独立行政法人 産業技術総合研究所
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塚越 常雄
日本電気株式会社
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遠藤 聡人
産総研
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塚本 雅裕
阪大接合研
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阿倍 信行
阪大接合研
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中野 人志
近大理工
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吉田 実
近大理工
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渡辺 匡人
学習院大
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原田 高志
日本電気株式会社システム実装研究所
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阿部 信行
大阪大学
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猪俣 浩一郎
東芝総研
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川邉 裕大
学習院大
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池田 啓紀
学習院大
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小山 千尋
学習院大
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佐藤 治道
産総研
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手束 展規
東北大学大学院工学研究科
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手束 展規
東北大学・工
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小林 亮平
東北大学大学院工学研究科材料物性学専攻
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井出 貴之
東陶機器
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岩澤 順一
東陶機器(株)
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吉田 篤史
東陶機器(株)
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LEBEDEV Maxim
産業技術総合研究所
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Lebedev Maxim
工業技術院
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麻生 雄二
東陶機器(株)
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横山 達郎
東陶機器(株)
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Maxim Lebedev
工業技術院
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宮崎 博史
MIRAI-Selete
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中野 禅
産業技術総合研
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猪俣 浩一郎
東芝 総研
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朴 載赫
産業技術総合研究所
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塚越 常雄
(株)NECシステム実装研究所
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明渡 純
(独)産業技術総合研究所つくば東事業所 先進製造プロセス研究部門 集積加工研究グループ
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黄地 尚義
(株)バーチャルウェルド
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黄地 尚義
大阪大学大学院 知能・機能創成工学専攻
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黄池 尚義
大阪大学大学院
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秋山 善一
リコー中央研究所
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黄地 尚義
大阪大学 大学院工学研究科知能・機能創成工学専攻
-
秋山 善一
(株)リコー中央研究所
-
中野 裕美
豊橋技術科学大学・研究基盤センター
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坂本 伸雄
独立行政法人 産業技術総合研究所
-
江塚 幸敏
独立行政法人 産業技術総合研究所
-
木村 景一
ソニーイーエムシーエス
-
塚越 常雄
Nec
-
明渡 純
産総研機械システム
-
Lebedev M.
産総研機械システム
-
水野 章敏
学習院大
-
岩澤 順一
Toto(株)セラミック事業部セラミック技術部
-
秋元 俊彦
学習院大学 理学部
-
鳩野 広典
Toto(株)総合研究所素材研究部
-
清原 正勝
Toto(株)セラミック事業部セラミック技術部
-
中山 千秋
芝浦工大
-
谷口 修一郎
東京理科大
-
坂本 伸雄
芝浦工大
-
レベデフ マキシム
(独)産業技術総合研究所
-
腰塚 直己
芝浦工大
-
阿部 信行
白鴎大学
著作論文
- AD法による磁性ガーネット膜の熱処理及び研磨効果
- エアロゾルデポジッション法による磁性ガーネット膜の形成と磁気・磁気光学特性(II)
- (1)エアロゾルデポジション法による常温セラミックスコーティングとプラズマ耐食コーティングとしての実用化開発(技術,日本機械学会賞〔2008年度(平成20年度)審査経過報告〕)
- レーザー援用エアロゾルデポジション法による基材の熱ダメージを抑えた電子セラミックス厚膜の熱処理プロセス
- エアロゾルデポジション(AD)法の原理と常温衝撃固化現象
- フェムト秒レーザーによる酸化チタン膜の電気抵抗制御
- エアロゾル・デポジション法によるFe/酸化物複合膜の作製
- 202 半導体レーザ照射によるチタン酸バリウム薄膜の誘電特性向上(レーザー溶接)
- エアロゾル・デポジション法によるFe/NiZnCuフェライト複合膜の成膜過程
- 半導体レーザ照射による精細アニーリング
- 401 プラスチック基板表面上へのマイクロ周期構造形成 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第18報)(薄膜,平成18年度春季全国大会)
- Sm-Fe-N系エアロゾル・デポジション厚膜の面直方向異方性化
- 常温衝撃固化現象とエアロゾルデポジション法によるナノ結晶セラミックス膜形成
- 108 超微粒子ビームにより作製したPZT皮膜への半導体レーザ照射 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第17報)(表面改質)
- 107 酸化チタン・ハイドロキシアパタイト複合皮膜形成のビーム入射角度依存性 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第16報)(表面改質)
- 421 多機能光触媒特性を有するチタニア/アパタイト複合膜形成(薄膜)
- 420 ポリ乳酸基板へのハイドロキシアパタイトコーティング : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第15報)(薄膜)
- 419 酸化チタン・ハイドロキシアパタイト複合皮膜の光触媒機能評価 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第14報)(薄膜)
- エアロゾルデポジション法による常温衝撃固化現象と永久磁石の薄膜化
- Sm-Fe-N系エアロゾル・デポジション厚膜の磁気特性と組織
- エアロゾルデポジション(AD)法
- エアロゾル・デポジション法により成膜したFe基厚膜の磁気特性
- 3G13 エアロゾルデポジション法による磁気カードリーダーヘッドの耐摩耗コーティング
- 固相微粒子成膜エアロゾルデポジション法の現状と課題
- AD法によるEO/MO材料を用いた小型高速光素子(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- BS-3-3 光ファイバ型電気光学/磁気光学プローブによる高周波電界/磁界計測(BS-3.GHz超の電磁波計測技術,シンポジウム)
- C-3-58 エアロゾルデポジション法を用いた光配線用PLZT変調器のデバイス設計と導波路特性(光スイッチ・変調器,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- C-14-9 エアロゾルデポジション法により作成した超小型光ファイバ端磁気光学プローブ(C-14.マイクロ波フォトニクス,一般講演)
- エアロゾルビーム照射により形成されたTiO_2膜の短パルスレーザを用いた電気抵抗制御
- レーザ援用インクジェット法による微細配線描画(先端電子デバイスパッケージと高密度実装における評価・解析技術論文)
- 微小重力下でのセラミックス製膜技術の開発
- エアロゾル・デポジション法により作製したNi-Zn-Cuフェライト厚膜の高周波特性
- エアロゾル・デポジション法による永久磁石の薄型化
- 3G15 エアロゾルデポジション法によるセラミックス薄膜形成メカニズム(第 3 報) : 基板加熱の製膜体微細構造への影響
- 3G14 エアロゾルデポジション法で形成したアルミナ膜の静電チャックへの応用
- 3G09 エアロゾルデポジション法によるナノコンポジット膜の作製(第 2 報) : 金属-セラミックスコンポジットの基礎的検討
- 3G07 エアロゾルデポジション法によるセラミックス薄膜形成メカニズム(第 2 報) : 原料微粒子前処理の成膜体微細構造への影響
- エアロゾルデポジション法によるナノ結晶ファライト厚膜の形成
- 3A18 超微粒子ビームを用いて作製したセラミックス薄膜の微細構造と膜硬度
- 1I09 超微粒子ビームを用いて作製した Al2O3 薄膜の電気的・機械的特性について
- C-3-75 エアロゾルデポジション法により作製されたマッハツェンダー型PLZT変調器のGHz変調動作(光変調器,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- AD法によるEO/MO材料を用いた小型高速光素子(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- AD法によるEO/MO材料を用いた小型高速光素子(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- AD法によるEO/MO材料を用いた小型高速光素子(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 4218 オンデマンド型メタルベースMEMS製造システムの開発(J24-1 生産機械のマイクロ化(1))
- 1201 オンデマンド型MEMS製造システムの開発(OS1-2 生産システムの運用)
- 3J8-4 エアロゾルデポジション法によるPZT膜を用いた高周波超音波プローブの音響特性(強力超音波)
- エアロゾルデポジション(AD)法の高度化プロセス技術
- 3-08-01 AD法によるPZT膜を用いた超音波プローブの基礎研究(医用超音波)
- 室温成形セラミックス大面積膜の厚さ分布
- AD法におけるプラズマ援用効果 (特集 ナノレベル電子セラミックス材料低温・集積化技術)
- エアロゾルデポジション法による常温衝撃固化現象とその応用(粒子積層プロセスの新しいトレンド)
- 液体を満たしたパイプを伝搬するガイド波の解析
- P3-10 高耐圧PZT薄膜を用いたダイアフラム型アクチュエータに要求される圧電層厚さの基礎的検討(ポスターセッション3,ポスター発表)
- エアロゾルデポジション法を用いて形成した圧電セラミックス厚膜の熱処理効果
- 28aPS-85 エアロゾルデポジション法による MgB_2 膜の特性
- 常温衝撃固化現象とエアロゾルデポジション(AD)法によるセラミックスコーティング
- エアロゾルデポジションによるMgB_2の常温成膜と超電導特性
- 常温衝撃固化現象とエアロゾルデポジション(AD)法による厚膜コーティング
- 常温衝撃固化現象とエアロゾルデポジション(AD)法によるセラミックスコーティング
- エアロゾルデポジション法の電子デバイスへの応用展開
- どのように「ブレークスルー」しますか?
- エアロゾルデポジション(AD)法による常温セラミックコーティング
- 赤外用光学フィルターの作製のための理論的検討とAD成膜および光学的評価