AD法によるEO/MO材料を用いた小型高速光素子(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
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概要
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微細結晶粒の再配列により膜を形成するエアロゾルデポジション(AD)法は、原子レベルから膜を形成する従来のスパッタ法などとは異なったユニークな膜形成である。AD法を光デバイス形成に適用した場合の利点として、膜形成において原材料の結晶構造が維持されるため、光素子をシリコンやSiO_2上に直接形成することが挙げられる。このAD法による光素子の応用例として、超小型高速変調器と光ファイバ電磁界センサーについて報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2008-08-21
著者
-
大橋 啓之
日本電気(株)
-
大橋 啓之
NEC
-
明渡 純
(独)産業技術総合研究所
-
明渡 純
(独)産業技術総合研究所グループ
-
明渡 純
産業技術総合研究所機械システム研究部門グループ
-
明渡 純
産業技術総合研究所
-
中田 正文
日本電気(株)ナノエレクトロニクス研究所
-
津田 弘樹
産業技術総合研究所
-
中田 正文
NECナノエレクトロニクス研究所
-
清水 隆徳
MIRAI-Selete
-
岩波 瑞樹
NECシステム実装研
-
大橋 啓之
NECナノエレクトロニクス研究所
-
田中 正文
NEC機能デバイス研究所
-
岩波 瑞樹
日本電気株式会社システム実装研究所
-
大橋 啓介
MIRAI-Selete
-
明渡 純
産業技術総合研
-
中田 正文
Mirai-selete
-
岩波 瑞樹
日本電気
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