3G15 エアロゾルデポジション法によるセラミックス薄膜形成メカニズム(第 3 報) : 基板加熱の製膜体微細構造への影響
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概要
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- 日本セラミックス協会の論文
- 2002-09-22
著者
-
明渡 純
産総研
-
明渡 純
(独)産業技術総合研究所
-
清原 正勝
東陶機器(株)
-
鳩野 広典
東陶機器(株)
-
伊藤 朋和
東陶機器
-
Lebedev Maxim
産総研
-
Lebedev M
National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology (aist)
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