エアロゾルデポジション法を用いて形成した圧電セラミックス厚膜の熱処理効果
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2001-06-20
著者
-
明渡 純
(独)産業技術総合研究所
-
明渡 純
産業技術総合研究所機械システム研究部門グループ
-
レベデフ マキシム
産業技術総合研究所
-
レベデフ マキシム
東京計装
-
明渡 純
産業技術総合研
-
明渡 純
(独)産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門集積加工研究グループ
-
秋山 善一
リコー中央研究所
-
秋山 善一
(株)リコー中央研究所
関連論文
- 20aPS-90 酸化鉄化合物-遷移金属酸化物接合系の半導体特性(20aPS 領域8ポスターセッション(低温I(遷移金属化合物,炭化・硼化物など)),領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
- 27pYD-11 酸化鉄化合物/C60接合系におけるPN接合と光学特性(界面・分子デバイス3,領域7,分子性固体・有機導体)
- AD法による磁性ガーネット膜の熱処理及び研磨効果
- エアロゾルデポジッション法による磁性ガーネット膜の形成と磁気・磁気光学特性(II)
- レーザ援用インクジェット法による微細配線描画 (先端電子デバイスパッケージと高密度実装における評価・解析技術論文特集)
- (1)エアロゾルデポジション法による常温セラミックスコーティングとプラズマ耐食コーティングとしての実用化開発(技術,日本機械学会賞〔2008年度(平成20年度)審査経過報告〕)
- レーザー援用エアロゾルデポジション法による基材の熱ダメージを抑えた電子セラミックス厚膜の熱処理プロセス
- エアロゾルデポジション(AD)法の原理と常温衝撃固化現象
- フェムト秒レーザーによる酸化チタン膜の電気抵抗制御
- エアロゾル・デポジション法によるFe/酸化物複合膜の作製
- 202 半導体レーザ照射によるチタン酸バリウム薄膜の誘電特性向上(レーザー溶接)
- エアロゾル・デポジション法によるFe/NiZnCuフェライト複合膜の成膜過程
- 半導体レーザ照射による精細アニーリング
- 401 プラスチック基板表面上へのマイクロ周期構造形成 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第18報)(薄膜,平成18年度春季全国大会)
- Sm-Fe-N系エアロゾル・デポジション厚膜の面直方向異方性化
- 常温衝撃固化現象とエアロゾルデポジション法によるナノ結晶セラミックス膜形成
- 108 超微粒子ビームにより作製したPZT皮膜への半導体レーザ照射 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第17報)(表面改質)
- 107 酸化チタン・ハイドロキシアパタイト複合皮膜形成のビーム入射角度依存性 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第16報)(表面改質)
- 421 多機能光触媒特性を有するチタニア/アパタイト複合膜形成(薄膜)
- 420 ポリ乳酸基板へのハイドロキシアパタイトコーティング : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第15報)(薄膜)
- 419 酸化チタン・ハイドロキシアパタイト複合皮膜の光触媒機能評価 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第14報)(薄膜)
- エアロゾルデポジション法による常温衝撃固化現象と永久磁石の薄膜化
- Sm-Fe-N系エアロゾル・デポジション厚膜の磁気特性と組織
- C-14-4 エアロゾルデポジション法により作製された超小型光ファイバ端電気光学プローブ(C-14.マイクロ波フォトニクス,一般講演)
- エアロゾルデポジション(AD)法
- エアロゾル・デポジション法により成膜したFe基厚膜の磁気特性
- エアロゾルデポジション(AD)を用いた高周波フィルターのエンベッディド化技術 (特集 マイクロ波・ミリ波誘電体)
- エアロゾルデポジションによる高周波受動素子集積化技術
- 3G13 エアロゾルデポジション法による磁気カードリーダーヘッドの耐摩耗コーティング
- 固相微粒子成膜エアロゾルデポジション法の現状と課題
- AD法によるEO/MO材料を用いた小型高速光素子(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- BS-3-3 光ファイバ型電気光学/磁気光学プローブによる高周波電界/磁界計測(BS-3.GHz超の電磁波計測技術,シンポジウム)
- C-3-58 エアロゾルデポジション法を用いた光配線用PLZT変調器のデバイス設計と導波路特性(光スイッチ・変調器,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- C-14-9 エアロゾルデポジション法により作成した超小型光ファイバ端磁気光学プローブ(C-14.マイクロ波フォトニクス,一般講演)
- エアロゾルビーム照射により形成されたTiO_2膜の短パルスレーザを用いた電気抵抗制御
- 112 酸化チタン・ハイドロキシアパタイト複合皮膜の特性評価 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第11報)
- 455 酸化チタン・ハイドロキシアパタイトの複合皮膜形成 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第 8 報)
- レーザ援用インクジェット法による微細配線描画(先端電子デバイスパッケージと高密度実装における評価・解析技術論文)
- 微小重力下でのセラミックス製膜技術の開発
- エアロゾル・デポジション法により作製したNi-Zn-Cuフェライト厚膜の高周波特性
- エアロゾル・デポジション法による永久磁石の薄型化
- 3G15 エアロゾルデポジション法によるセラミックス薄膜形成メカニズム(第 3 報) : 基板加熱の製膜体微細構造への影響
- 3G14 エアロゾルデポジション法で形成したアルミナ膜の静電チャックへの応用
- 3G09 エアロゾルデポジション法によるナノコンポジット膜の作製(第 2 報) : 金属-セラミックスコンポジットの基礎的検討
- 3G07 エアロゾルデポジション法によるセラミックス薄膜形成メカニズム(第 2 報) : 原料微粒子前処理の成膜体微細構造への影響
- エアロゾルデポジション法によるナノ結晶ファライト厚膜の形成
- 3A18 超微粒子ビームを用いて作製したセラミックス薄膜の微細構造と膜硬度
- 1I09 超微粒子ビームを用いて作製した Al2O3 薄膜の電気的・機械的特性について
- C-3-75 エアロゾルデポジション法により作製されたマッハツェンダー型PLZT変調器のGHz変調動作(光変調器,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- AD法によるEO/MO材料を用いた小型高速光素子(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- AD法によるEO/MO材料を用いた小型高速光素子(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- AD法によるEO/MO材料を用いた小型高速光素子(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 4218 オンデマンド型メタルベースMEMS製造システムの開発(J24-1 生産機械のマイクロ化(1))
- 1201 オンデマンド型MEMS製造システムの開発(OS1-2 生産システムの運用)
- 419 酸化チタン皮膜形成におけるビーム斜入射効果 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第 7 報)
- エアロゾルデポジッション法によるハイドロキシアパタイト皮膜形成
- 120 ビーム入射角制御によるハイドロキシアパタイトコーティング技術 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第6報)
- 406 ハイドロキシアパタイト皮膜形成のための照射条件に関する実験的検討 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第5報)
- エアロゾルデポジション(AD)法による圧電厚膜形成と光デバイスへの応用
- チタン酸ストロンチウム-チタン酸ジルコニウム固溶体の超広帯域誘電スペクトロスコピー
- AD法による電気光学薄膜の形成と光デバイス応用の可能性
- 301 生分解性プラスチック上へのハイドロキシアパタイト皮膜形成 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第12報)(皮膜形成)
- 3J8-4 エアロゾルデポジション法によるPZT膜を用いた高周波超音波プローブの音響特性(強力超音波)
- エアロゾルデポジション(AD)法の高度化プロセス技術
- 3-08-01 AD法によるPZT膜を用いた超音波プローブの基礎研究(医用超音波)
- 室温成形セラミックス大面積膜の厚さ分布
- AD法におけるプラズマ援用効果 (特集 ナノレベル電子セラミックス材料低温・集積化技術)
- エアロゾルデポジション法による常温衝撃固化現象とその応用(粒子積層プロセスの新しいトレンド)
- 液体を満たしたパイプを伝搬するガイド波の解析
- P3-52 液体を満たしたパイプを伝搬するガイド波の解析(ポスターセッション3(概要講演))
- P3-10 高耐圧PZT薄膜を用いたダイアフラム型アクチュエータに要求される圧電層厚さの基礎的検討(ポスターセッション3,ポスター発表)
- エアロゾルデポジション法を用いて形成した圧電セラミックス厚膜の熱処理効果
- 微粒子,超微粒子の衝突固化現象を用いたセラミックス薄膜形成技術 : エアロゾルデポジション法による低温・高速コーティング
- 111 ハイドロキシアパタイト皮膜の特性評価 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第10報)
- エアロゾルデポジションによるα-アルミナ膜の作製と構造的、機械的特性の評価
- 302 皮膜特性に対する粒径の影響 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第13報)(皮膜形成)
- 448 表面形態に及ぼすビーム照射条件の影響 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第 9 報)
- 研究開発はどうあるべきか-研究開発と起業- : 研究者の側から見た起業意識と実際
- エアロゾル堆積法によるPZT厚膜
- エアロゾルデポジション(AD)法によるセラミックス材料の低温集積化技術 (特集2 ユビキタス社会を拓く次世代電子デバイス)
- エアロゾルデポジション法による電子デバイスの低温成形技術
- 28aPS-85 エアロゾルデポジション法による MgB_2 膜の特性
- エアロゾルデポジション法(AD法)によるマテリアル・インテグレーション技術 (特集 セラミックスと21世紀の科学技術)
- 微粒子・超微粒子ビームによるナノクリスタル膜の形成 (特集 微粒子の配列・集積・固定化)
- 噴射加工による機能性セラミックス薄膜形成技術の可能性--エアロゾルデポジション法による高速コーティング (特集 ナノ微粒子製造法と利用技術--解説)
- 常温衝撃固化現象とエアロゾルデポジション(AD)法によるセラミックスコーティング
- 圧電・超音波材料 エアロゾルデポジション(AD)法と圧電デバイスへの応用
- エアロゾルデポジションによるMgB_2の常温成膜と超電導特性
- 常温衝撃固化現象とエアロゾルデポジション(AD)法による厚膜コーティング
- レーザーディスプレイ用超広角・高速走査MEMS光スキャナーの開発
- 半導体レーザによる機能性セラミックス皮膜への精細アニーリング
- エアロゾルビームを用いたプラスチック基板の表面微細加工
- エアロゾルビーム照射によるポリ乳酸基板へのハイドロキシアパタイトコーティング
- 常温衝撃固化現象とエアロゾルデポジション(AD)法によるセラミックスコーティング
- エアロゾルデポジション法により作製した赤外透過セラミックス・コーティングの検討
- エアロゾルデポジションによる透光性,絶縁コーティング (特集 コーティング技術--ナノテクを含む高機能化の最前線)
- エアロゾルデポジション法の電子デバイスへの応用展開
- どのように「ブレークスルー」しますか?
- エアロゾルデポジション(AD)法による常温セラミックコーティング
- 赤外用光学フィルターの作製のための理論的検討とAD成膜および光学的評価