明渡 純 | 産業技術総合研究所機械システム研究部門グループ
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概要
関連著者
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明渡 純
産業技術総合研究所機械システム研究部門グループ
-
明渡 純
産業技術総合研
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明渡 純
(独)産業技術総合研究所
-
明渡 純
(独)産業技術総合研究所グループ
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明渡 純
産業技術総合研究所
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阿部 信行
大阪大学接合科学研究所
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塚本 雅裕
大阪大学接合科学研究所
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藤原 俊明
大阪大学大学院
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中田 正文
日本電気(株)ナノエレクトロニクス研究所
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大橋 啓之
日本電気(株)
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大橋 啓之
NEC
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森本 純司
近畿大学理工学部
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津田 弘樹
産業技術総合研究所
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田中 正文
NEC機能デバイス研究所
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大橋 啓介
MIRAI-Selete
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中田 正文
Mirai-selete
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中村 尚行
大阪大学大学院
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岩波 瑞樹
日本電気株式会社システム実装研究所
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岩波 瑞樹
日本電気
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清水 隆徳
MIRAI-Selete
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杉本 諭
東北大学大学院工学研究科材料物性学
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中山 斌義
近畿大学理工学部電気電子工学科
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杉本 諭
東北大学大学院工学研究科知能デバイス材料学専攻
-
杉本 論
東北大学大学院工学研究科
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杉本 諭
東北大
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三宅 正司
阪大溶接研
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黄地 尚義
大阪大学大学院
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三宅 正司
大阪大学接合科学研究所
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中田 正文
NECナノエレクトロニクス研究所
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岩波 瑞樹
NECシステム実装研
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大橋 啓之
NECナノエレクトロニクス研究所
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阿部 信行
大阪大学 接合科学研究所
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三宅 正司
近畿大学リエゾンセンター
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黄池 尚義
大阪大学大学院
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Miyake Shoji
Welding Research Institute Of Osaka Univ.
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中山 斌義
近畿大学理工学部
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甲藤 正人
宮崎大学産学連携センター
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猪俣 浩一郎
東北大学大学院工学研究科知能デバイス材料学専攻
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大橋 啓之
日本電気株式会社 基礎・環境研究所
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甲藤 正人
近畿大学
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中村 尚行
近畿大学理工学部
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岩波 瑞樹
日本電気株式会社 生産技術研究所
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中田 正文
日本電気株式会社 基礎・環境研究所
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甲藤 正人
宮崎大学 産学連携センター
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今中 孝
大阪大学大学院
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伊藤 豪彦
近畿大学大学院
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遠藤 聡人
産業技術総合研究所
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森本 純司
近畿大学
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岩波 瑞樹
日本電気株式会社
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甲藤 正人
近畿大学理工学部
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大橋 啓之
日本電気株式会社
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大橋 啓之
Mirai-selete:日本電気株式会社
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中野 禅
産業技術総合研究所
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手束 展規
東北大学大学院工学研究科材料物性学
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猪俣 浩一郎
東北大学大学院工学研究科
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野口 真純
東北大学
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峯田 真悟
東北大学
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野口 真純
東北大学大学院
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峯田 真悟
東北大学大学院
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杉本 諭
東北大学 大学院工学研究科 知能デバイス材料学専攻
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寺田 健吾
大阪大学大学院
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籠谷 登志夫
東北大学大学院工学研究科
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手束 展規
東北大学大学院工学研究科知能デバイス材料学専攻
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中田 正文
MIRAI-Selet
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中山 斌義
近畿大学・理工
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手束 展規
東北大・工
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岩田 篤
産業技術総合研究所
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LEBEDEV Maxim
産業技術総合研究所
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レベデフ マキシム
産業技術総合研究所
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レベデフ マキシム
東京計装
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大橋 啓之
Mirai-selete
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藤原 俊明
近畿大学大学院総合理想学研究科
-
籠谷 登志夫
東北大学大学院工学研究科 知能デバイス材料学専攻
-
秋山 善一
(株)リコー中央研究所
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Kagotani T.
Graduate School Of Engineering Tohoku University
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Sugimoto Satoshi
Department Of Materials Science Graduate School Of Engineering Tohoku University
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杉本 諭
東北大学
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中野 人志
近畿大学理工学部
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朴 載赫
産総研
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明渡 純
産総研
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鶴見 敬章
東工大理工
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芦田 極
産業技術総合研究所
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藤田 雅之
レーザー技術総合研究所
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藤田 雅之
大阪大学 レーザーエネルギー学研究センター
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猪俣 浩一郎
都立大理学部
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阿部 伸行
大阪大学
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曽我 幸弘
阪大院工
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猪俣 浩一郎
東芝研究開発センター
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坂田 英明
東京理科大 理
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明渡 純
独立行政法人産業技術総合研究所 先進製造プロセス研究部門
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原田 高志
日本電気株式会社
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馬場 創
(独)産業技術総合研究所
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曽我 幸弘
大阪大学大学院工学研究科
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吉田 実
近畿大学理工学部
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槙 智仁
東北大学 大学院工学研究科 知能デバイス材料学専攻
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猪俣 浩一郎
東北大学 大学院工学研究科 知能デバイス材料学専攻
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森 正和
産業技術総合研究所
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馬場 創
産業技術総合研究所
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北島 明子
産業技術総合研究所
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槙 智仁
東北大学大学院工学研究科
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西 研一
MIRAI-Selete
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増田 則夫
日本電気株式会社 生産技術研究所
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掛本 博文
東工大院理工
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中山 斌義
近畿大学大学院総合理工学研究科
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西 研一
(株)半導体先端テクノロジーズ技術戦略室
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今中 佳彦
(株)富士通研究所 メディアデバイス研究部
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岡山 克巳
ソニーイーエムシーエス(株)
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清原 正勝
東陶機器(株)
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鳩野 広典
東陶機器(株)
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塚越 常雄
日本電気株式会社
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中田 正文
日本電気(株)基礎・環境研究所
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塚本 雅裕
大阪大学 接合科学研究所
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Watanabe Satoshi
Department Of Materials Science University Of Tokyo
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Watanabe Satoshi
Advanced Research Laboratory Hitachi Ltd.
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中山 斌義
近畿大学
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今中 孝
近畿大学理工学部
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原田 高志
日本電気株式会社システム実装研究所
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阿部 信行
大阪大学
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増田 則夫
日本電気株式会社
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森 正和
龍谷大学 理工学部 機械システム工学科
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手束 展規
東北大学大学院工学研究科
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手束 展規
東北大学・工
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小林 亮平
東北大学大学院工学研究科材料物性学専攻
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岩澤 順一
東陶機器(株)
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吉田 篤史
東陶機器(株)
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宮崎 博史
MIRAI-Selete
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Lebedev M
National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology (aist)
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Lebedev M
産業技術総合研究所
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和田 智志
Department Of Metallurgy And Ceramics Science Graduate School Of Science And Engineering Tokyo Insti
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和田 智史
東京工業大学大学院理工学研究科材料工学専攻
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掛本 博文
Department Of Inorganic Materials Faculty Of Engineering Tokyo Institute Of Technology
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中野 禅
産業技術総合研
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鶴見 敬章
東京工業大学工学部無機材料工学科
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三宅 正司
大阪大学大学院工学研究科
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朴 載赫
産業技術総合研究所
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藤原 俊明
近畿大学
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塚越 常雄
(株)NECシステム実装研究所
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寺西 貴志
東京工業大学大学院理工学研究科
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和田 智志
東京工業大学大学院理工学研究科
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掛本 博文
東京工業大学大学院理工学研究科
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福長 脩
エーステック(株)
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塚本 雅裕
大阪大学溶接工学研究所
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Wada S
Faculty Of Engineering Yokohama National University
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明渡 純
(独)産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門集積加工研究グループ
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明渡 純
(独)産業技術総合研究所つくば東事業所 先進製造プロセス研究部門 集積加工研究グループ
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黄地 尚義
(株)バーチャルウェルド
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黄地 尚義
大阪大学大学院 知能・機能創成工学専攻
-
Wada Satoshi
Department Of Physics Graduate School Of Science Tokyo University Of Science
-
Wada Satoshi
Riken
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中野 人志
近畿大学大学院総合理工学研究科
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Fujita M
Kyoto Univ. Kyoto Jpn
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和田 智志
東京工業大学 工学部無機材料工学科
-
鶴見 敬章
東京工業大学 大学院理工学研究科 材料工学専攻
-
秋山 善一
リコー中央研究所
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黄地 尚義
大阪大学 大学院工学研究科知能・機能創成工学専攻
-
Fujita Masayuki
New Materials Research Center Sanyo Electric Co.
-
Fujita Masayuki
Yokohama National University Department Of Electrical And Computer Engineering
-
Fujita Masayuki
School Of Information Science Japan Advanced Institute Of Science And Technology
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Wada S
Hokkaido Univ. Hakodate Jpn
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塚越 常雄
Nec
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明渡 純
産総研機械システム
-
Lebedev M.
産総研機械システム
-
Wada Satoshi
Material Sci. And Technol. Interdisciplinary Graduate School Of Medical And Engineering Univ. Of Yam
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坂田 英明
東京理科大
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今中 佳彦
(株)富士通研究所 ビジネスインキュベーション研究所
-
阿部 信行
白鴎大学
-
今中 佳彦
(株)富士通研究所
-
阿部 信行
大阪大学 接合科学研究科
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塚越 常雄
NECキャピタルソリューション株式会社
著作論文
- レーザ援用インクジェット法による微細配線描画 (先端電子デバイスパッケージと高密度実装における評価・解析技術論文特集)
- フェムト秒レーザーによる酸化チタン膜の電気抵抗制御
- エアロゾル・デポジション法によるFe/酸化物複合膜の作製
- 202 半導体レーザ照射によるチタン酸バリウム薄膜の誘電特性向上(レーザー溶接)
- エアロゾル・デポジション法によるFe/NiZnCuフェライト複合膜の成膜過程
- 半導体レーザ照射による精細アニーリング
- 401 プラスチック基板表面上へのマイクロ周期構造形成 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第18報)(薄膜,平成18年度春季全国大会)
- 108 超微粒子ビームにより作製したPZT皮膜への半導体レーザ照射 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第17報)(表面改質)
- 107 酸化チタン・ハイドロキシアパタイト複合皮膜形成のビーム入射角度依存性 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第16報)(表面改質)
- 421 多機能光触媒特性を有するチタニア/アパタイト複合膜形成(薄膜)
- 420 ポリ乳酸基板へのハイドロキシアパタイトコーティング : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第15報)(薄膜)
- 419 酸化チタン・ハイドロキシアパタイト複合皮膜の光触媒機能評価 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第14報)(薄膜)
- Sm-Fe-N系エアロゾル・デポジション厚膜の磁気特性と組織
- C-14-4 エアロゾルデポジション法により作製された超小型光ファイバ端電気光学プローブ(C-14.マイクロ波フォトニクス,一般講演)
- エアロゾルデポジションによる高周波受動素子集積化技術
- AD法によるEO/MO材料を用いた小型高速光素子(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- BS-3-3 光ファイバ型電気光学/磁気光学プローブによる高周波電界/磁界計測(BS-3.GHz超の電磁波計測技術,シンポジウム)
- C-3-58 エアロゾルデポジション法を用いた光配線用PLZT変調器のデバイス設計と導波路特性(光スイッチ・変調器,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- C-14-9 エアロゾルデポジション法により作成した超小型光ファイバ端磁気光学プローブ(C-14.マイクロ波フォトニクス,一般講演)
- 112 酸化チタン・ハイドロキシアパタイト複合皮膜の特性評価 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第11報)
- 455 酸化チタン・ハイドロキシアパタイトの複合皮膜形成 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第 8 報)
- レーザ援用インクジェット法による微細配線描画(先端電子デバイスパッケージと高密度実装における評価・解析技術論文)
- エアロゾル・デポジション法により作製したNi-Zn-Cuフェライト厚膜の高周波特性
- 3G09 エアロゾルデポジション法によるナノコンポジット膜の作製(第 2 報) : 金属-セラミックスコンポジットの基礎的検討
- エアロゾルデポジション法によるナノ結晶ファライト厚膜の形成
- C-3-75 エアロゾルデポジション法により作製されたマッハツェンダー型PLZT変調器のGHz変調動作(光変調器,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- AD法によるEO/MO材料を用いた小型高速光素子(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- AD法によるEO/MO材料を用いた小型高速光素子(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- AD法によるEO/MO材料を用いた小型高速光素子(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 1201 オンデマンド型MEMS製造システムの開発(OS1-2 生産システムの運用)
- 419 酸化チタン皮膜形成におけるビーム斜入射効果 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第 7 報)
- エアロゾルデポジッション法によるハイドロキシアパタイト皮膜形成
- 120 ビーム入射角制御によるハイドロキシアパタイトコーティング技術 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第6報)
- 406 ハイドロキシアパタイト皮膜形成のための照射条件に関する実験的検討 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第5報)
- チタン酸ストロンチウム-チタン酸ジルコニウム固溶体の超広帯域誘電スペクトロスコピー
- 301 生分解性プラスチック上へのハイドロキシアパタイト皮膜形成 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第12報)(皮膜形成)
- 3J8-4 エアロゾルデポジション法によるPZT膜を用いた高周波超音波プローブの音響特性(強力超音波)
- 室温成形セラミックス大面積膜の厚さ分布
- エアロゾルデポジション法を用いて形成した圧電セラミックス厚膜の熱処理効果
- 微粒子,超微粒子の衝突固化現象を用いたセラミックス薄膜形成技術 : エアロゾルデポジション法による低温・高速コーティング
- 111 ハイドロキシアパタイト皮膜の特性評価 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第10報)
- 302 皮膜特性に対する粒径の影響 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第13報)(皮膜形成)
- 448 表面形態に及ぼすビーム照射条件の影響 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第 9 報)
- 研究開発はどうあるべきか-研究開発と起業- : 研究者の側から見た起業意識と実際
- エアロゾル堆積法によるPZT厚膜
- エアロゾルデポジション(AD)法によるセラミックス材料の低温集積化技術 (特集2 ユビキタス社会を拓く次世代電子デバイス)
- エアロゾルデポジション法による電子デバイスの低温成形技術
- 28aPS-85 エアロゾルデポジション法による MgB_2 膜の特性
- エアロゾルデポジション法(AD法)によるマテリアル・インテグレーション技術 (特集 セラミックスと21世紀の科学技術)
- 微粒子・超微粒子ビームによるナノクリスタル膜の形成 (特集 微粒子の配列・集積・固定化)
- 噴射加工による機能性セラミックス薄膜形成技術の可能性--エアロゾルデポジション法による高速コーティング (特集 ナノ微粒子製造法と利用技術--解説)