丹羽 紘一 | 富士通研
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概要
関連著者
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丹羽 紘一
富士通研
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亀原 伸男
(株)富士通研究所厚木研究所
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亀原 伸男
(株)富士通研究所
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亀原 伸男
(株)富士通研究所 材料・環境技術研究所
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今中 佳彦
(株)富士通研究所厚木研究所
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亀原 伸男
富士通研究所
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田中 厚志
富士通研究所
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丹羽 紘一
(株)富士通研究所材料技術研究所
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渦巻 拓也
富士通研
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山中 一典
富士通研究所
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山中 一典
富士通
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丹羽 紘一
(株)富士通研究所
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丹羽 紘一
富士通研究所
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青木 重憲
富士通研
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今中 佳彦
(株)富士通研究所 メディアデバイス研究部
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青木 重憲
(株)富士通研究所厚木研究所
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渦巻 拓也
富士通研究所
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田中 厚志
富士通研
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今中 佳彦
(株)富士通研究所 ビジネスインキュベーション研究所
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今中 佳彦
(株)富士通研究所
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青木 重憲
(株)富士通研究所
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町 敬人
富士通研
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田中 厚志
(株)富士通研究所ストレージ研究所
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田中 厚志
(株)富士通研究所
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渦巻 拓也
(株)富士通研究所
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山崎 一寿
(株)富士通研究所厚木研究所
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山中 一典
(株)富士通研究所
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Crain Jason
富士通研究所
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今中 佳彦
(株) 富士通研究所厚木研究所
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亀原 伸男
(株) 富士通研究所厚木研究所
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丹羽 紘一
(株) 富士通研究所厚木研究所
著作論文
- ガラス/アルミナ複合体の焼結過程 (誘電性セラミックス) -- (合成・キャラクタリ-ゼ-ション)
- ホウケイ酸ガラスの結晶化に及ぼすアルミナの添加効果(ガラス化・アモルファス化・結晶化)(ガラス・アモルファス材料及びその材料科学の進展)
- 低温焼成ガラス-セラミックス複合材料の結晶化
- 25a-PS-66 R_Ce_xCuO_4(R=Pr, Nd, Sm, Eu, Gd)の結晶構造と静電ポテンシャル
- 31p-PS-117 Ca_Sr_CuO_2とT'相Nd_MxCuO_4 (M=Sm, La, Pr)のラマン散乱
- 31p-PS-100 Bi-Sr-Ca-Cu-O薄膜の磁気緩和
- 低温焼成ガラス/セラミック複合基板 (コンピュ-タ-関連機器における塑性と加工)
- 5p-PS-100 酸化物超伝導薄膜の作製と物性評価
- Ba-Y-Cu-O系のSr置換効果
- LSIを液体に直接浸漬してコンピュ-タを冷やす
- IC用アルミナ基板 (隣の気になる芝生--耐火物とその周辺)
- 銅配線の多層セラミック回路
- 多層セラミック回路基板
- ガラス/アルミナ複合体の焼結過程