横島 時彦 | 早大理工
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概要
関連著者
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横島 時彦
早大理工
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横島 時彦
早稲田大学 理工学術院
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早大理工
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早大・材研
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早大理工
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早大理工, 材料技術研究所
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逢坂 哲彌
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日本医科大学武蔵小杉病院消化器病センター
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水谷 聡
神戸大学大学院自然科学研究科
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水谷 聡
水谷眼科診療所
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早大理工
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早大院
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日本電気(株)
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早大理工
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材料技術研究所
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朝日 透
早大理工学術院:早大科健機構
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北本 仁孝
東工大総理工
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朝日 透
早大科研機構生命医療研
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逢坂 哲彌
早大院理工
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尾上 貴弘
早大理工総研
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理総研
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信越化学工業
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村瀬 琢
Tdk材研
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山崎 陽太郎
東工大総理工
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大橋 啓介
MIRAI-Selete
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崔 京九
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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北本 仁孝
東京工大 大学院総合理工学研究科
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北本 仁孝
東京工業大学・大学院総合理工学研究科・物質科学創造専攻
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中西 卓也
材研
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中西 卓也
早大材料技術研究所
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山崎 陽太郎
東京工業大学大学院総合理工学研究科物質科学創造専攻
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崔 京九
TDK材研
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北本 仁孝
東京工業大学大学院 総合理工学研究科
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山崎 陽太郎
東京工業大学大学院 総合理工学研究科
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北本 仁孝
Department of Innovative and Engineered Materials, Interdisciplinary Graduate School of Science and Engineering,
著作論文
- アミノ酸添加による電析CoNiFe軟磁性薄膜の高比抵抗化
- Si単結晶ディスク基板を用いた湿式法による垂直二層膜媒体用軟磁性裏打ち層の開発
- Co/(Pt,Pd)多層膜/高Bs軟磁性薄膜垂直二層膜媒体の新規作製手法の開発 : 無電解めっき法によるCoNiFeB軟磁性膜の裏打ち層への適用
- 電析CoNiFeMoC軟磁性薄膜におけるCの影響
- 高B_s高ρを有する電析CoNiFeMoC軟磁性薄膜の磁気特性及び熱安定性
- 電析CoNiFe軟磁性薄膜へのMo添加による高比抵抗化
- CoZrNb/Fe-C積層膜の高周波特性