津森 俊宏 | 信越化学工業(株)

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• 津森 俊宏

  信越化学工業(株)

• 津森 俊宏

  信越化学工業

• 川治 純

  早稲田大学

• 朝日 透

  早大理工学術院:早大科健機構

• 大橋 健

  信越化学

• 大橋 健

  信越化学工業株式会社

• 大橋 健

  信越化学工業

• 逢坂 哲彌

  早稲田大学理工学部

• 逢坂 哲彌

  早稲田大学

• 朝日 透

  早稲田大学 科健機構

• 杉山 敦史

  早稲田大学

• 川治 純

  早大理工

• 杉山 敦史

  早稲田大学 理工学術院

• 横島 時彦

  早大理工

• 朝日 透

  早大材研

• 太田 泰雄

  福井工業高専

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  信越化学工業(株)

• 本間 敬之

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• 逢坂 哲彌

  早大材研

• 太田 泰雄

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• 木村 公治

  早稲田大学

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• 安達 健

  早稲田大学理工学術院

• 坂上 万里子

  早稲田大学理工学術院

• 本間 敬之

  早大理工

• 本間 敬之

  早稲田大学ナノテクノロジー研究所

• 平山 貴邦

  早大理工

• 横島 時彦

  早稲田大学 理工学術院

• 吉野 正洋

  Advanced Research Institute For Science & Engineering

• 太田 泰雄

  福井工業高等専門学校

• 朝日 透

  早大院

• 逢坂 哲彌

  早大院

• 逢坂 哲彌

  早大理工

• 常光 幸美

  福井高専

• 村中 誠

  福井工業高専

• 堀 賢治

  早稲田大学

• 朝日 透

  早大科研機構生命医療研

• 逢坂 哲彌

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  早大理工

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  早大理工総研

• 尾上 貴弘

  早大理工総研

• 尾上 貴弘

  理総研

• 木村 公治

  早大理工

• 濱口 優

  信越化学工業

• 本間 敬之

  早稲田大学

• 本間 敬之

  Department Of Applied Chemistry School Of Science And Engineering Waseda University

• 朝日 透

  早大理工, 材研

• 金子 英雄

  信越化学工業(株)磁性材料研究所

• 金子 英雄

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• 田中 睦美

  早稲田大学

• 本間 敬之

  Department Of Applied Chemistry Waseda University

• 朝日 透

  早大理工

• 大橋 健

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著作論文

• 新規めっきプロセスによるCoNiFe/p-Si(100)系軟磁性薄膜の開発
• Si基板を用いた磁性薄膜
• Si基板を用いたCoCrTa薄膜媒体
• CS-7-4 無電解Pd/CoNiFeB下地層を用いたCo/Pd多層膜媒体の作製(CS-7.高密度垂直磁気記録方式に資する先端磁性薄膜材料開発,シンポジウム)
• 無電解めっき法を用いた垂直2層膜媒体軟磁性裏打ち層の開発
• 無電解めっき法を用いた垂直2層膜媒体軟磁性裏打ち層の開発(画像記録装置及び一般)
• 電気化学プロセスによるPd/CoNiFeB下地層の作製
• Si単結晶ディスク基板を用いた湿式法による垂直二層膜媒体用軟磁性裏打ち層の開発
• 単結晶シリコンハードディスク基板の機械特性
• Co/(Pt,Pd)多層膜/高Bs軟磁性薄膜垂直二層膜媒体の新規作製手法の開発 : 無電解めっき法によるCoNiFeB軟磁性膜の裏打ち層への適用

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