吉野 正洋 | 早稲田大学 理工学部
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
逢坂 哲彌
早稲田大学理工学部
-
逢坂 哲彌
早稲田大学
-
吉野 正洋
早稲田大学 理工学部
-
吉野 正洋
Advanced Research Institute For Science & Engineering
-
朝日 透
早稲田大学 科健機構
-
朝日 透
早大理工学術院:早大科健機構
-
杉山 敦史
早稲田大学
-
安達 健
早稲田大学理工学術院
-
杉山 敦史
早稲田大学 理工学術院
-
逢坂 哲彌
早稲田大学先進理工学部応用化学科
-
逢坂 哲彌
早稲田大学 理工学術院
-
川治 純
早稲田大学
-
津森 俊宏
信越化学工業(株)
-
坂上 万里子
早稲田大学理工学術院
-
津森 俊宏
信越化学工業
-
笹野 順司
Consolidated Research Institute for Advanced Science and Medical Care, Waseda University
-
笹野 順司
早稲田大学
-
松田 五明
早稲田大学
-
菊池 雄太
早稲田大学理工学術院
-
笹野 順司
Consolidated Research Institute For Advanced Science And Medical Care Waseda University
-
松田 五明
Advanced Research Institute For Science & Engineering
-
菊池 雄太
早稲田大学大学院文学研究科博士課程
-
佐山 淳一
早稲田大学 理工学術院
-
佐山 淳一
早稲田大学
-
若月 啓
School of Science and Engineering
-
若月 啓
早稲田大学
-
増田 豊土
早稲田大学 理工学部
-
増田 豊土
Advanced Research Institute For Science & Engineering
著作論文
- エレクトロニクス分野における高機能性薄膜の形成技術
- 無電解めっき法を用いた垂直2層膜媒体軟磁性裏打ち層の開発
- 無電解めっき法を用いた垂直2層膜媒体軟磁性裏打ち層の開発(画像記録装置及び一般)
- 有機分子修飾を用いた平滑ポリイミド樹脂上への高密着性Cuめっき膜の作製
- 軟磁性裏打ち層への無電解めっきCoNiFeBの適用 : デュアル膜による低ノイズ化
- 軟磁性裏打ち層への無電解めっきCoNiFeBの適用 : デュアル膜による低ノイズ化(磁気記録に関わる材料及びシステムの開発と評価)
- ポリイミド樹脂上への直接銅成膜の検討