本間 敬之 | Department Of Applied Chemistry Waseda University

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概要

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関連著者

• 本間 敬之

  早大理工

• 本間 敬之

  早稲田大学ナノテクノロジー研究所

• 平山 貴邦

  早大理工

• 本間 敬之

  Department Of Applied Chemistry Waseda University

• 本間 敬之

  早稲田大学先進理工学部

• 本間 敬之

  Department Of Applied Chemistry School Of Science And Engineering Waseda University

• 本間 敬之

  早稲田大学

• 大内 隆成

  早稲田大学先進理工学部

• 中井 浩巳

  Department Of Chemistry School Of Science And Engineering Waseda University

• 柳沢 雅広

  早稲田大学 生命医療工学研究所

• 中井 浩巳

  Department Of Chemistry And Biochemistry Waseda University

• 國本 雅宏

  Department Of Applied Chemistry Waseda University

• 高梨 弘毅

  東北大金研

• 高梨 弘毅

  東北大学金属材料研究所

• 逢坂 哲彌

  早稲田大学理工学部

• 逢坂 哲彌

  早稲田大学先進理工学部応用化学科

• 逢坂 哲彌

  早稲田大学

• 安仁屋 政憲

  HOYA株式会社MD事業部

• 島田 明

  HOYA株式会社MD事業部

• 園部 義明

  HOYA株式会社MD事業部

• 佐藤 浩太郎

  東北学院大学工学部

• 嶋 敏之

  東北学院大学工学部

• 園部 義明

  Hoya株式会社

• 齋藤 美紀子

  早稲田大学ナノテクノロジー研究所

• Takanashi K

  Institute For Solid State Physics University Of Tokyo:the Research Institute For Iron Steel And Othe

• 柳沢 雅広

  早稲田大学生命医療工学研究所

• 久保 暢宏

  早稲田大学理工学術院

• 阪田 薫穂

  早稲田大学理工学術院

• Takanashi K

  Institute For Materials Research Tohoku University

• 逢坂 哲彌

  早稲田大学 理工学術院

• 嶋 敏之

  東北学院大学 工学部

• 佐藤 浩太郎

  東北学院大学 工学部

• 嶋 敏之

  東北学院大工

• 高梨 弘毅

  東北大学

• 朝日 透

  早稲田大学 科健機構

• 逢坂 哲彌

  早大院

• 川治 純

  早稲田大学

• 朝日 透

  早大理工学術院:早大科健機構

• 前川 武之

  三菱電機(株)

• 津森 俊宏

  信越化学工業(株)

• 逢坂 哲彌

  早大材研

• 本間 敬之

  早大

• 堀 賢治

  早稲田大学

• 木村 公治

  早稲田大学

• 杉山 敦史

  早稲田大学

• 逢坂 哲彌

  早大院理工

• 加藤 真裕

  早稲田大学理工学術院

• 柳沢 雅広

  早大

• 久保 暢宏

  早大

• 阪田 薫穂

  早大

• 津森 俊宏

  信越化学工業

• 本間 敬之

  早稲田大学理工学術院

• 島田 拓哉

  Department Of Applied Chemistry School Of Science And Engineering Waseda University

• 前川 武之

  三菱電機 先端技総研

• 前川 武之

  三菱電機(株)先端技術総合研究所

• 杉山 敦史

  早稲田大学 理工学術院

• 玉木 亜弥子

  Department of Applied Chemistry, School of Science and Engineering, Waseda University

• 玉木 亜弥子

  Department Of Applied Chemistry School Of Science And Engineering Waseda University

• 関 健司

  Department Of Applied Chemistry Waseda University

• 國本 雅宏

  早稲田大学 先進理工学部

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著作論文

• フィニッシュからスタートまで
• ソフトガードバンドを有する垂直磁気記録媒体の磁化反転機構(ハードディスクドライブおよび一般)
• ソフトガードバンドを有する垂直磁気記録媒体の磁化反転機構(ハードディスクドライブ及び一般)
• CS-7-4 無電解Pd/CoNiFeB下地層を用いたCo/Pd多層膜媒体の作製(CS-7.高密度垂直磁気記録方式に資する先端磁性薄膜材料開発,シンポジウム)
• ウェットプロセスによる強磁性ナノドットアレイ構造体の形成
• Si圧痕のラマン分光解析(トライボロジー/一般)
• 無電解プロセスによるマスクレスナノファブリケーション
• 2204 Si表面インデンテーション痕の共焦点ラマン散乱分光(要旨講演,マイクロナノ理工学)
• 最近の無電解めっき技術
• ウェットプロセスによる微細加工とマイクロ・ナノ構造形成
• Al-Si合金膜表面のジンケート処理に対する下地Si基板の影響
• Ab initio 分子軌道法による無電解めっきにおける還元剤ヒドラジン及びヒドロキシルアミンの酸化反応機構の検討
• Electrochemistry 誌をご活用下さい!
• 水和次亜リン酸のPd(111)表面に対する吸着構造の理論解析
• 電気化学的手法による機能マイクロ・ナノ構造体形成プロセス
• 次亜リン酸の酸化反応に対する金属表面の触媒活性の理論的解析
• 量子化学計算手法による無電解析出プロセスの解析
• 招待講演 磁気ディスク界面の測定技術 : プラズモンセンサの応用 : サブナノメートルへの挑戦 (マルチメディアストレージ)
• 成長の節目を刻むこと
• 磁気ディスク界面の測定技術:プラズモンセンサの応用 : サブナノメートルへの挑戦(ハードディスクドライブ,一般)

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