尾上 貴弘 | 早稲田大学
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概要
関連著者
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尾上 貴弘
早稲田大学
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尾上 貴弘
早稲田大学生命医療工学研究所
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逢坂 哲彌
早稲田大学
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逢坂 哲彌
早稲田大学理工学部
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尾上 貴弘
理総研
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本間 敬之
早稲田大学先進理工学部
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平山 貴邦
早大理工
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朝日 透
各務記念材料技術研究所
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本間 敬之
早稲田大学
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朝日 透
早稲田大学 科健機構
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池田 真
早稲田大学理工学部応用化学科
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法橋 滋郎
早大理工学術院
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法橋 滋郎
各務記念材料技術研究所
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平山 貴邦
早稲田大学 理工学部応用化学科
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川上 勝
早稲田大学理工学部応用化学科
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森田 善幸
早稲田大学理工学部応用化学科
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酒井 浩志
昭和電工
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平山 貴邦
早稲田大学理工学部応用化学科
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瀧澤 敦尚
早稲田大学理工学部応用化学科
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酒井 浩志
昭和電工K.K.
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瀧澤 敦尚
早大理工
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倉持 健太郎
早稲田大学理工学部応用化学科
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倉持 健太郎
早大理工
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倉澤 紘己
早稲田大学理工学部
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吉川 利彦
昭和電工K.K.
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川治 純
早稲田大学
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奥尾 洋保
早稲田大学理工学総合研究センター
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逢坂 哲爾
早稲田大学理工学部
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長崎 顕
早稲田大学理工学部
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黒川 義昭
早稲田大学理工学部
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黒川 義昭
早稲田大学理工学部応用化学科; 各務記念材料技術研究所
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奥尾 洋保
早稲田大学理工学総合研究センター:ゼブラ株式会社
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黒川 義昭
早稲田大学 理工学部
著作論文
- アモルファスSi中間層を用いた垂直面内複合型媒体の作製
- MR2000-13 アモルファス下地層付与による垂直磁気記録単層媒体の微細構造制御
- Ge 下地層を有する垂直単層磁気記録媒体の作製
- カーボン下地層を有するCo/Pd多層膜垂直磁気記録媒体の作製
- 磁気プローブ記録の可能性
- 磁気プローブ記録の可能性(高密度磁気ストレージ材料 : 開発の現状・未来と解析技術)
- CoCrPtTaおよび[Co/Pd]_n単層垂直媒体の電磁変換特性
- CoCrPtTaおよび[Co/Pd]_n単層垂直媒体の電磁変換特性
- CoCrPtTa/NiCr媒体における膜厚方向の微細構造変化
- MFMによる垂直磁気記録媒体の磁化状態の解析手法の検討
- アモルファス下地層Co/Pd多層膜垂直磁気記録媒体の磁気特性と微細構造
- Ni系合金面内記録層を有する垂直面内複合型媒体の作製
- 垂直単層媒体および垂直面内複合型媒体におけるベースラインシフト
- スパッタ法により作製した垂直面内複合型媒体のノイズ特性
- スパッタ法による垂直面内複合型媒体の作製
- ECS Meeting参加報告
- 垂直面内複合型媒体のリングヘッドによる評価
- リングヘッド/垂直単層磁気記録媒体系におけるトラック端部磁化状態の解析