機能性薄膜材料の評価(1)磁性薄膜材料
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- Al-si合金膜表面のジンケート処理に対する下地Si基板の影響
- フィニッシュからスタートまで
- ソフトガードバンドを有する垂直磁気記録媒体の磁化反転機構(ハードディスクドライブおよび一般)
- ソフトガードバンドを有する垂直磁気記録媒体の磁化反転機構(ハードディスクドライブ及び一般)
- ウェットプロセスによる磁性ナノドットパターン膜形成の試み(高密度記録媒体の開発とその関連技術の進展)
- G154 めっき並びに切削加工で製作したサブミリチャネルCOSMOS heat pipeの熱輸送能力検証試験(一般セッション 熱機関・システムII)
- 118 めっき並びに切削加工によるサブミリチャネルCOSMOS heat pipeの試作(材料力学(4),加工,材料)
- CS-7-4 無電解Pd/CoNiFeB下地層を用いたCo/Pd多層膜媒体の作製(CS-7.高密度垂直磁気記録方式に資する先端磁性薄膜材料開発,シンポジウム)
- 超伝導遷移端を用いた撮像型放射線検出器の開発
- 29aSL-11 超伝導遷移端(TES 型) X 線マイクロカロリメータの熱的・電気的応答とノイズ原因
- 1)高密度めっき垂直記録媒体(画像情報記録研究会)
- 高密度めっき垂直記録媒体 : 画像情報記録
- 電気化学プロセスによるPd/CoNiFeB下地層の作製
- C-7-3 湿式法により形成したPdシードを有するCo/Pd多層膜媒体の作製(C-7.磁気記録)
- 電気化学的手法を用いた垂直二層膜媒体用下地層の作製(磁性薄膜,磁気記録一般)
- 電気化学的手法を用いた垂直二層膜媒体用下地層の作製
- ウェットプロセスによる垂直二層膜媒体用シード層の作製
- 無電解めっき法による磁性ナノドットアレイの作製(垂直記録,一般)
- パターン媒体作製を目的とした無電解CoNiP析出前処理条件の検討
- ウェットプロセスによる強磁性ナノドットアレイ構造体の形成
- Si圧痕のラマン分光解析(トライボロジー/一般)
- 無電解プロセスによるマスクレスナノファブリケーション
- 2204 Si表面インデンテーション痕の共焦点ラマン散乱分光(要旨講演,マイクロナノ理工学)
- 最近の無電解めっき技術
- ウェットプロセスによる微細加工とマイクロ・ナノ構造形成
- 国際化学オリンピックへの代表派遣3年目を終えて
- ウェットプロセスによる機能ナノ構造薄膜形成(「磁性薄膜作製技術II」)
- 高アスペクト比構造の作製を目的としたSi微細孔形成および金属埋込みの電気化学的一括プロセス
- ウェットプロセスによる磁性ナノドットパターン膜形成の試み
- 微小流路を用いた無電解析出プロセスによる複合金属ナノ粒子の作製
- ウェットプロセスによる機能ナノ構造の形成
- Al-Si合金膜表面のジンケート処理に対する下地Si基板の影響
- アモルファスSi中間層を用いた垂直面内複合型媒体の作製
- アモルファスSi中間層を用いた垂直面内複合型媒体の作製
- Ge 下地層を有する垂直単層磁気記録媒体の作製
- CoCrPtTa/CoCr/Ge垂直単層媒体の記録再生特性に及ぼすGe下地層厚の効果
- Ge下地層を有する垂直単層磁気記録媒体の作製
- 垂直単層磁気記録媒体における結晶配向分散の効果
- 27pXD-5 TES型X線マイクロカロイメータの開発(VII) : エネルギー分解能の追求
- 25pSG-5 TES型X線マイクロカロリメータの開発 (VI) : X線分光性能の評価
- 25pSG-4 TES型X線マイクロカロリメータの開発V : TES温度計の性能向上
- 薄膜の物理的性質評価-3-磁性薄膜材料評価法
- 無電解めっき法による磁性ナノドットアレイの作製
- 19aWD-13 電気化学手法によりSi(111)表面スクラッチに形成したNiドット・アレイのMFMによる評価
- 走査トンネル顕微鏡による銀電析過程の観察
- Pd/Sn混合触媒を用いた銅ダイレクトプレーティングにおける導体化過程の解析
- リングヘッド/垂直面内複合型媒体系のピークシフト特性
- 無電解めっき法によるCoNiP磁性ドット媒体の作製
- CおよびSi下地層を有するCo/Pd多層垂直磁気記録媒体の微細構造解析
- CoCrPtTaおよび[Co/Pd]_n単層垂直媒体の電磁変換特性
- CoCrPtTaおよび[Co/Pd]_n単層垂直媒体の電磁変換特性
- Ab initio 分子軌道法による無電解めっきにおける還元剤ヒドラジン及びヒドロキシルアミンの酸化反応機構の検討
- 高感度X線画像センサーの作製を目的としたBi電解析出プロセスの研究
- CoCrPtTa/NiCr/Ti媒体におけるTi下地層へのN_2添加効果
- CoCrPtTa/Ni及びCoCrPtTa/Ni/Ti垂直面内複合型媒体の作製
- C-7-15 NiCr磁性下地層を付与した垂直面内複合型媒体の作製
- 無電解析出プロセスにおける還元剤TiCl_3の電子放出機構の ab initio 分子軌道法による検討
- 高速銅電析によるプリント配線板用銅箔のモルフォロジｰに及ぼす塩素イオンとにかわの相乗作用
- スパッタ法により作製した垂直面内複合型媒体のノイズ特性
- 無電解析出法による傾斜機能磁性薄膜の作製
- 2010年7月 国際化学オリンピック日本大会開催に向けて
- 国際化学オリンピック(IChO)日本大会2010年開催決定!
- 無電解CoNiP傾斜機能磁性薄膜の断面構造解析
- 電気化学的手法による磁気的機能傾斜薄膜の作製
- 化学グランプリとオリンピック
- 微小構造体形成手法としての無電解析出プロセス
- 統計に見る日米研究環境事情
- '99アジア電気化学国際会議('99ACEC)開催報告
- Electrochemistry 誌をご活用下さい!
- 化学グランプリ・オリンピック委員会から
- 固液界面反応を用いたナノファブリケーションとデバイス構築
- 電解・無電解析出法を用いた微小機能構造体の形成
- めっき技術の基礎(材料基礎講座第12回)
- ナノ構造・機能デバイス形成のための電解・無電解プロセス
- 無電解CoNiP垂直磁気記録媒体の微細構造解析
- リングヘッド/垂直面内複合型媒体系のピークシフト特性
- めっき析出過程の基礎解析手法
- 「小特集/めっき析出機構の基礎解析」の企画に当たって
- 垂直面内複合型媒体の記録再生特性 (垂直磁気記録の進展)
- CoCrTa/Cr磁性薄膜におけるSi基板前処理効果の検討 (磁気記録媒体)
- CoCrTa/Cr磁性薄膜のSi(100)基板上への成膜における基板前処理効果
- 半導体・エレクトロニクス分野における微細構造形成のためのめっきプロセス
- 無電解CoB薄膜の軟磁気特性と微細構造
- 無電解NiCr合金めっき浴の検討
- リングヘッド/垂直単層磁気記録媒体系におけるトラック端部磁化状態の解析
- 国際化学オリンピックへの代表派遣3年目を終えて(ヘッドライン:科学オリンピックへの各分野の取り組みと今後の課題)
- 化学グランプリ・オリンピック委員会から(協議会だより)
- 化学グランプリ・オリンピック委員会から(協議会だより)
- 走査トンネル顕微鏡による無電解めっき薄膜析出過程の In Situ 観察
- 電気化学的手法による機能マイクロ・ナノ構造体形成プロセス
- 量子化学計算手法による無電解析出プロセスの解析
- 成長の節目を刻むこと
- 無電解コバルト合金2層膜の結晶配向制御
- テクスチャ-処理基板上に成膜した無電解CoP薄膜媒体の磁気特性と微細構造 (湿式法による磁気記録媒体)
- 無電解Co合金めっき垂直磁気記録媒体 (湿式法による磁気記録媒体)
- 磁気ディスク界面の測定技術:プラズモンセンサの応用 : サブナノメートルへの挑戦(ハードディスクドライブ,一般)
- 無電解Co合金垂直磁気異方性薄膜作製のための新めっき浴の試み
- Electrochemistry誌をご活用下さい!
- 機能性薄膜材料の評価(1)磁性薄膜材料
- 電気化学的手法により形成した超高記録密度強磁性ナノドットアレイの初期析出過程の解析及び特性評価(固体メモリ・媒体,一般)