精密めっき法による軟磁性薄膜の微細構造制御
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概要
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This study concerned the influence of plating conditions on the microstructures of soft magnetic thin films, mainly electrodeposited CoNiFe-based films developed by our research group. The microstructure of thin films prepared by a wet process differed from that of films prepared by a dry process, and some of the high-performance thin films were achieved only by plating method. A very small amount of impurities such as H, S, and C co-deposited from the plating bath, was found to have a large effect on the microstructure of the thin films. High-performance soft magnetic thin films were therefore achieved by controlling the microstructure with co-deposited impurities.
- 社団法人日本磁気学会の論文
- 2000-11-01
著者
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