押木 満雅 | 富士通研究所
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概要
関連著者
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押木 満雅
(株)富士通研究所・磁気ディスク研究部
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押木 満雅
富士通研究所
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押木 満雅
富士通
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押木 満雄
富士通研究所
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押木 満雅
富士通研究所・磁気ディスク研究部
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竹房 さなえ
富士通研究所
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小田切 充
(株)富士通研究所
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押木 満雅
(株)富士通ストレージプロダクト事業本部
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山岸 亙
富士通研究所
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山岸 亙
富士通研
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田中 厚志
(株)富士通研究所ストレージ研究所
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田中 厚志
富士通研究所
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瀬山 喜彦
富士通研究所・磁気ディスク先行研究部
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岡本 巌
富士通株式会社
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岡本 巌
富士通
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三宅 裕子
(株)富士通研究所
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山中 一典
富士通研究所
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向井 良一
富士通研究所
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横島 時彦
早稲田大学 理工学術院
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山中 一典
富士通
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田中 厚志
富士通研
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馬場 靖男
富士通研究所
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小田切 充
富士通研究所
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岡本 厳
富士通(株)ファイル研究部
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上原 裕二
富士通(株)ヘッド先行開発部
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逢坂 哲彌
早稲田大学理工学部
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横島 時彦
早稲田大学
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逢坂 哲彌
早稲田大学
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飯島 誠
富士通
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飯島 誠
富士通研究所・磁気ディスク研究部
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奥山 智明
富士通
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上原 裕二
富士通研
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渦巻 拓也
(株)富士通研究所
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三宅 裕子
富士通
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金子 大樹
富士通(株)ストレージ事業本部コンポーネント事業部
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田河 育也
(株)日立製作所研究開発本部
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湯本 久美
東京理科大・基礎工
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石原 正統
物質工学工業技術研究所
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田河 育也
富士通(株)
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李 松姫
東京理科大学基礎工学部材料工学科
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金子 大樹
富士通研究所
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石原 正統
東京理科大学 基礎工学部
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逢坂 哲彌
早大理工・材研
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横島 時彦
早大理工・材研
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今元 徹
東京理科大学 基礎工学部
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木名瀬 良紀
東京理科大学 基礎工学部
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竹房 さなえ
(株)富士通研究所
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金子 大樹
早稲田大学理工学部応用化学科
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三宅 裕子
富士通研
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金子 大樹
早大理工・材研
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湯本 久美
東京理科大学大学院
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上原 裕二
富士通(株)
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湯本 久美
東京理科大学基礎工学部材料工学科
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押木 満雅
富士通研
著作論文
- CoFe/Cu多層膜のCPP (Cur rent Perpendicular to the Plane)-GMR特性
- CoFe/Cu多層膜のGMR特性
- CoCrPtTa/Cr媒体上の高線密度ビットの磁化反転時定数
- 直流重畳パルスめっき法による結晶/非晶質Co-Fe-P軟磁性多層膜の作製
- 100Gb/in^2用薄膜磁気ヘッドの課題
- 無電解CoFCBめっきを用いた磁気ヘッドコア作製プロセスの基礎的検討
- 高周波対応MoNiFeめっき膜の検討
- 薄膜磁気ヘッドの課題と将来展望
- UHVベーズ体形成におけるポストアニールの有用性
- CoCrPtTa/Cr媒体の記録ビット熱揺らぎ緩和過程
- 高周波対応MoNiFeめっき膜の検討
- 無電解CoFeBめっきを用いた磁気ヘッドコア作製プロセスの基礎的検討
- SKEMによるヘッド磁化強度の周波数依存性
- ポストアニールを用いたCoCrPt/Cr媒体の形成