横島 時彦 | 早大理工・材研
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
横島 時彦
早稲田大学 理工学術院
-
逢坂 哲彌
早大理工・材研
-
横島 時彦
早大理工・材研
-
金子 大樹
富士通(株)ストレージ事業本部コンポーネント事業部
-
田中 厚志
(株)富士通研究所ストレージ研究所
-
田中 厚志
富士通研究所
-
竹房 さなえ
富士通研究所
-
田中 厚志
富士通研
-
金子 大樹
早大理工・材研
-
志賀 大三
早大理工
-
今井 健太
早大理工・材研
-
祖父江 匡爵
早大理工
-
高島 京子
早大理工
-
志賀 大三
早大理工・材研
-
高島 京子
早大理工・材研
-
祖父江 匡爵
早大理工・材研
-
金子 大樹
富士通研究所
-
瀬川 貴之
早大理工・材研
-
押木 満雅
富士通研究所・磁気ディスク研究部
-
押木 満雅
(株)富士通研究所・磁気ディスク研究部
-
押木 満雅
富士通研究所
-
押木 満雅
富士通
-
中村 精一
早大理工・材研
-
押木 満雄
富士通研究所
-
森尻 誠
日立グローバルストレージテクノロジーズ
-
赤堀 美織
早大理工・材研
-
森尻 誠
日立 日立研
-
森尻 誠
日立
著作論文
- B_s=2.3T CoFe電析薄膜の作製
- 錯化剤添加による高B_s CoFe電析薄膜の作製
- TMAB添加による高B_s CoFe電析薄膜の作製
- 無電解CoFeBめっきを用いた磁気ヘッドコア作製プロセスの基礎的検討
- 無電解CoFeBめっきによる磁気ヘッドコアの均一形成
- 無電解めっき法による高B_sCoNiFeB軟磁性薄膜の作製
- 無電解めっき法による高耐食性CoNiFeB軟磁性薄膜の作製
- 無電解めっき法による高B_sCoNiFeB軟磁性薄膜の高比抵抗化
- 無電解めっき法により作製した高B_sCoNiFeB軟磁性薄膜の熱処理の影響
- 無電解めっき法による軟磁性NiFeB/NiPC/NiFeB積層膜の作製