高周波対応MoNiFeめっき膜の検討
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概要
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To realize higher-frequency recording, a material with a resistivity (ρ) higher than Ni_<80>Fe_<20> is needed. We thoroughly inrestigated electroplated Ni_<80>Fe_<20> films with added Mo to obtain a high-ρ material. We found that MoNiFe films consisting of Mo:2-3 at%, Ni:79-80 at%, and Fe:17-19 at% had good soft magnetic characteristics, high ρ (> 40 μΩcm), and high corrosion resistance. We fabricated a merged-type MR head, using MoNiFe for the upper pole of the write head, and observed the magnetization response at 50 MHz with SKEM. The head showed good magnetization response, which meant that if head higher write efficiency than a Ni_<80>Fe_<20> head. As a result, we confirmed that MoNiFe films were practical high-ρ pole materials for high-frequency recording.
- 社団法人日本磁気学会の論文
- 1999-04-15
著者
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押木 満雅
(株)富士通研究所・磁気ディスク研究部
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押木 満雅
富士通研究所
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押木 満雅
富士通
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押木 満雅
(株)富士通ストレージプロダクト事業本部
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三宅 裕子
(株)富士通研究所
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竹房 さなえ
富士通研究所
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押木 満雄
富士通研究所
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竹房 さなえ
(株)富士通研究所
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小田切 充
(株)富士通研究所
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