めっき法による高B_S CoNiFe軟磁性薄膜の開発
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概要
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- 2000-09-01
著者
-
横島 時彦
早稲田大学 理工学術院
-
逢坂 哲彌
Dept. of Applied Chemistry, School of Science and Engineering, Waseda University
-
横島 時彦
Waseda Univ.
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