坂井 正樹 | 首都大院理
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概要
関連著者
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坂井 正樹
首都大院理
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佐藤 英行
都立大院理
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都立大院理
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都立大院理
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菅原 仁
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松田 和博
Nec機能デバイス材料研究本部
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碇 亜矢子
都立大院理
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横田 真太郎
都立大院理
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永井 肇
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NEC機能デバイス材料研究本部
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NEC機能デバイス材料研究本部
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松田 和博
日本電気
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日本電気
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日本電気
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SATO H.
Tokyo Metropolitan Univ.
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碇亜 矢子
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田中 厚志
(株)富士通研究所ストレージ研究所
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田中 厚志
富士通研究所
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長坂 恵一
(株)富士通研究所ストレージ研究所
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長坂 恵一
富士通研究所
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瀬山 喜彦
富士通研究所・磁気ディスク先行研究部
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田中 厚志
富士通研
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西山 迪孝
都立大院理
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Sato H.
Tokyo Medical College
著作論文
- 27aPS-24 強磁場下におけるトンネル接合素子のノイズ強度(領域3ポスターセッション : 希土類合金,化合物磁性,薄膜・人工格子,スピングラス,フラストレーション,量子スピン系,実験技術開発等)(領域3)
- トンネルMR素子の角度依存ノイズ特性
- 21pPSA-5 強磁性トンネル接合におけるノイズ強度の磁場依存性 III
- 28pPSA-23 強磁性トンネル接合におけるノイズ強度の磁場依存性 II
- 27aPS-34 スピンバルブ膜を用いたCPP素子におけるノイズ強度の磁場角度依存性(領域3ポスターセッション : 希土類合金,化合物磁性,薄膜・人工格子,スピングラス,フラストレーション,量子スピン系,実験技術開発等)(領域3)
- 27pPSA-9 スピンバルブ型CPP-GMR素子の輸送特性および低周波電圧ノイズ特性II(27pPSA 領域3ポスターセッション 薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,微小領域磁性,遍歴磁性,化合物磁性,f電子系磁性磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 21pPSA-5 スピンバルブ型CPP-GMR素子における輸送特性および低周波電圧ノイズ特性(領域3ポスターセッション,薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,微小領域磁性,遍歴磁性,化合物磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 24pPSA-14 スピンバルブ膜を用いたCPP素子における電圧ノイズおよび抵抗の電流依存性(薄膜・人工格子,微小領域,遍歴磁性酸化物,f電子系,実験技術開発等,領域3(磁性,磁気共鳴))