横田 真太郎 | 都立大院理
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概要
関連著者
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佐藤 英行
都立大院理
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横田 真太郎
都立大院理
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青木 勇二
都立大院理
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菅原 仁
都立大院理
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坂井 正樹
都立大院理
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永井 肇
都立大院理
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坂井 正樹
首都大院理
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松田 和博
Nec機能デバイス材料研究本部
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碇 亜矢子
都立大院理
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上條 敦
NEC機能デバイス材料研究本部
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柘植 久尚
NEC機能デバイス材料研究本部
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中積 誠
筑波大物工
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喜多 英治
筑波大 物工
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小野 一修
筑波大
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中積 誠
筑波大
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喜多 英治
筑波大
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喜多 英治
筑波大物工
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田中 厚志
(株)富士通研究所ストレージ研究所
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田中 厚志
富士通研究所
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長坂 恵一
(株)富士通研究所ストレージ研究所
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長坂 恵一
富士通研究所
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瀬山 喜彦
富士通研究所・磁気ディスク先行研究部
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小野 一修
筑波大物工
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田中 厚志
富士通研
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中積 誠
筑波大 物工
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横田 慎太郎
都立大院理
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松田 和博
日本電気
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上條 敦
日本電気
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柘植 久尚
日本電気
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SATO H.
Tokyo Metropolitan Univ.
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森田 知也
都立大院理
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水口 拓也
都立大院理
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水口 拓也
九大院理
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Sato H.
Tokyo Medical College
著作論文
- 27aPS-24 強磁場下におけるトンネル接合素子のノイズ強度(領域3ポスターセッション : 希土類合金,化合物磁性,薄膜・人工格子,スピングラス,フラストレーション,量子スピン系,実験技術開発等)(領域3)
- トンネルMR素子の角度依存ノイズ特性
- 21pPSA-5 強磁性トンネル接合におけるノイズ強度の磁場依存性 III
- 27aPS-34 スピンバルブ膜を用いたCPP素子におけるノイズ強度の磁場角度依存性(領域3ポスターセッション : 希土類合金,化合物磁性,薄膜・人工格子,スピングラス,フラストレーション,量子スピン系,実験技術開発等)(領域3)
- 21pPSA-6 スピンバルブ膜を用いた CPP 素子におけるノイズ強度の磁場依存性
- 28pPSA-1 Fe/MgF_2 多層膜のホール効果と磁気抵抗
- Fe/MgF_2多層膜の巨大ホール効果と磁気抵抗
- 8pPSA-47 Fe/MgF_2多層膜の電子輸送特性III(薄膜・人工格子磁性,微小領域磁性,表面・界面磁性講演,領域3)