上村 喜一 | 信州大学工学部
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概要
関連著者
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上村 喜一
信州大学工学部
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林部 林平
信州大学工学部
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山上 朋彦
信州大学工学部
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山上 朋彦
信州大学工学部電気電子工学科
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小沼 義治
信州大学工学部
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小沼 義治
信州大学
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上村 喜一
信州大学工学部電気電子工学科
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林部 林平
信州大学工学部電気電子工学科
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阿部 克也
信州大学工学部
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中尾 真人
信州大学工学部
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中尾 眞人
信州大学工学部電気電子工学科
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斉藤 裕史
信州大学工学部
-
中尾 眞人
信州大学工学部
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陳 晨
信州大学工学部
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石田 芳樹
信州大学工学部電気電子工学科
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石田 芳樹
信州大学工学部
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斉藤 裕史
信州大学工学部電気電子工学科
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鈴木 真一郎
信州大学工学部
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村田 裕亮
信州大学工学部
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逸見 充則
信州大学工学部
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萩原 正宜
信州大学工学部電気電子工学科
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山口 哲生
信州大学工学部
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小畑 元樹
シチズンファインテック株式会社
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山下 将弘
信州大学工学部
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作田 輝行
信州大学工学部電気電子工学科
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仙石 昌
信州大学工学部
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上村 喜一
信州大学 工学部
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須澤 孝昭
信州大学工学部
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小畑 元樹
信州大学工学部電気電子工学科
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米久保 荘
信州大学工学部
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松元 裕次
信州大学工学部
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牧村 浩明
長野県総合教育センター
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米久保 荘
信州大学
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酒井 崇史
信州大学工学部
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長谷川 洋祐
信州大学工学部
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稲垣 優人
信州大学工学部
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前沢 洋介
信州大学工学部
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原田 佳和
信州大学工学部電気電子工学科
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岡田 伸介
信州大学工学部
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田中 裕之
信州大学
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大池 匠
信州大学工学部
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Oo M
信州大 工
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Oo Myo
信州大学工学部
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小林 尚平
信州大学工学部
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辻 拓真
信州大学工学部
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斎藤 裕史
信州大学工学部
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宮崎 慶
信州大学工学部
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田口 義之
信州大学工学部
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宮永 琢也
信州大学工学部
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上島 義輝
信州大学工学部電気電子工学科
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前沢 洋介
信州大学工学部電気電子工学科
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稲垣 優人
信州大学工学部電気電子工学科
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長谷川 洋祐
信州大学工学部電気電子工学科
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花岡 健一
長野県精密工業試験場
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小沼 義治
信州大学 工学部
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井口 裕哉
信州大学工学部
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浅田 裕司
信州大学工学部電気電子工学科
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浅田 裕司
信州大学工学部
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小西 純一
信州大学工学部社会開発工学科
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遠藤 守信
信州大学工学部
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新井 進
信州大学工学部
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佐藤 貴弘
信州大学工学部
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松田 安弘
信州大学工学部
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大江 秀美
(株)koa
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小西 純一
信州大学工学部
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伊東 一典
信州大学工学部情報工学科
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大久保 美也子
信州大学工学部
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岡田 亮一
信州大学工学部
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大竹 一郎
信州大学工学部
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中澤 光男
信州大学工学部電気電子工学科
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鈴木 哲
信州大学工学部物質工学科
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田原 徳夫
信州大学教育システム研究開発センター
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牧村 美加
長野県工業技術総合センター
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篠宮 敏夫
信州大学工学部電気電子工学科
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永岡 丈治
信州大学工学部電気電子工学科
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伊東 一典
信州大学工学部
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鈴木 哲
信州大工
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Myo Than
信州大学工学部
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尾形 博
信用大学工学部電気電子工学科
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茨木 聡一郎
信州大学工学部
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佐久間 敏幸
(株)KOA
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高橋 宏
信州大学工学部
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酒井 雄二
信州大学工学部
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松島 久夫
長野工業高等専門学校電気工学科長野工業高等専門学校電子情報工学科
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中澤 光男
信州大学 工学部
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塩野 晃宏
信州大学工学部電気電子工学科
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中久木 政秀
信州大学工学部電気電子工学科
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小林 勲生
信州大学工学部電気電子工学科
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小畑 元樹
シメオ精密株式会社
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作田 輝之
信州大学工学部電気電子工学科
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阿部 克也
信州大学 工学部
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遠山 陽平
信州大学 工学部
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藤川 英人
信州大学 工学部
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山上 朋彦
信州大学 工学部
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林部 林平
信州大学 工学部
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劉 穎慎
信州大学工学部電気電子工学科
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林邦 林平
信州大学工学部電気電子工学科
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上村 喜一
信州大
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塩沢 宏章
信州大学工学部電気電子工学科
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中澤 光男
信州大学工学系研究科
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本間 敏男
信州大学工学部
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田中 裕之
信州大学工学部
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松島 久夫
長野高専
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小川 武志
信州大学 工学部 電気電子工学科
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松下 裕之
信州大学 工学部
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中村 祐一
信州大学工学部電気電子科
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佐藤 晴信
信州大学工学部
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黒岩 真弓
信州大学 工学部
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伊藤 慎
信州大
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伊藤 浩伸
信州大
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松井 俊幸
信州大学工学部
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薮内 英彦
信州大学工学部
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山下 昌三
KOA株式会社
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武田 聡史
信州大学工学部
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山内 洋亮
信州大学 工学部
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中尾 眞人
信州大学 工学部
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河合 善史
信州大学工学部電気電子工学科
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湯本 正則
信州大学 工学部 電気電子工学科
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中尾 真人
信州大学 工学部 電気電子工学科
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藪崎 純
信州大学工学部
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笹川 悟
信州大学工学部電気電子科
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佐野 東樹
信州大学工学部
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黒岩 真弓
信州大学工学部
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牧村 浩明
信用大学工学部電気電子工学科
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上村 喜一
信用大学工学部電気電子工学科
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小沼 義治
信用大学工学部電気電子工学科
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田原 徳夫
信州大
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田原 徳夫
信州大学工学部
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青木 慎太郎
信州大学工学部
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外山 拓也
信州大学工学部
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外山 拓哉
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江畑 徹
信州大学工学部
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河本 哲夫
信州大学工学部
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杉田 晴彦
信州大学工学部
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牧村 美加
長野県工業技術総合セ
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杉田 暁彦
信州大学工学部
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萩野 達也
信州大学工学部
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松本 純樹
信州大学工学部
著作論文
- カーボンナノチューブ複合電極の電界電子放出特性(薄膜プロセス・材料,一般)
- BCl_3を用いたプラズマCVDによるホウ素薄膜の生成
- C-6-6 水平配向したカーボンナノチューブからの電界電子放出(C-6.電子部品・材料,一般セッション)
- 電子ビーム蒸着法によるホウ素薄膜の作製と評価
- 水平配向したカーボンナノチューブからの電界電子放出
- 直接窒化法で形成したSiC表面窒化層の厚さと界面特性の評価(薄膜プロセス・材料,一般)
- MIS型ショットキー接触の電流電圧特性を利用した窒化膜/SiC界面特性の評価(薄膜プロセス・材料,一般)
- 低抵抗抵抗器のための電極接触抵抗の検討
- (55)工学部における英語教育検討の試み(第16セッション 教育課程の編成)
- 反応性スパッタ法によるAlN薄膜の作製とLD用サブマウントへの応用(薄膜プロセス・材料,一般)
- TaN_x薄膜抵抗体における基板表面粗さの影響(薄膜プロセス・材料,一般)
- TaN_x薄膜抵抗体における基板表面粗さの影響
- リアクティブスパッタ法によるTaN_x薄膜抵抗体の作製と電極との接触抵抗の評価(電子材料)
- スパッタ法によるTaN抵抗体薄膜と電極との接触抵抗
- 多結晶SiC薄膜の生成とそのピエゾ抵抗特性
- 反応性スパッタ法によるイットリア安定化ジルコニア薄膜の作成とその諸特性
- C-6-14 TEOSを用いた熱CVDによるSiC-MOS構造の界面評価(C-6.電子部品・材料,一般セッション)
- 直接窒化膜を界面制御層に用いたSiCMIS構造の作製
- C-6-15 SiO_2薄膜に分散したカーボンナノチューブからの電界電子放出(C-6.電子部品・材料,一般セッション)
- 絶縁体中に分散させたカーボンナノチューブにより作製した電子放出源(薄膜プロセス・材料,一般)
- C-6-7 スパッタ堆積させた炭素薄膜のFE特性に対するプラズマ処理の効果(C-6.電子部品・材料,一般セッション)
- スパッタ法により作製した炭素薄膜の電界電子放出特性
- C-6-3 直接窒化法で作製したSiCMISショットキー接触の評価(C-6. 電子部品・材料,一般セッション)
- C-6-5 プラズマ窒化法で作製したSiCMISダイオードの容量電圧特性における基板バイアスの効果(C-6.電子部品・材料,一般講演)
- SiC表面の直接窒化とXPSによる窒化層の評価(窒化物及び混晶半導体デバイス)
- SiC表面の直接窒化とXPSによる窒化層の評価(窒化物及び混晶半導体デバイス)
- SiC表面の直接窒化とXPSによる窒化層の評価(窒化物及び混晶半導体デバイス)
- SiC表面の直接窒化とXPSによる窒化層の評価
- CS-6-6 HW-CVD法によるSiC薄膜の作製と評価(CS-6.薄膜の高機能発現をともなう低温成膜技術の最前線,シンポジウム)
- プラズマ窒化法による6H-SiC窒化絶縁膜の作製と評価(薄膜プロセス・材料, 一般)
- CS-5-1 スパッタ法による電界電子放出電極用炭素薄膜の作製(CS-5.ナノスケール時代を迎えた薄膜電子材料の展開,エレクトロニクス2)
- ホットフィラメントアシストスパッタ法によるカーボン薄膜の作製と電界電子放出特性の評価(薄膜プロセス・材料,一般)
- ホットフィラメントアシストスパッタ法によるカーボン薄膜の作製と電界電子放出特性の評価
- C-6-9 直接窒化法を用いたSiCMIS構造の界面特性(C-6.電子部品・材料,一般セッション)
- バイアス印加RFプラズマ窒化法によるSiC-MIS構造の作製(薄膜プロセス・材料,一般)
- 四塩化ケイ素を用いたプラズマCVD法による SiC薄膜の形成
- SiCl_4のプラズマCVDによる多結晶Si及びSiC薄膜
- 伝送線路モデル(TLM)による高精度低抵抗抵抗器の電極接触抵抗の評価
- 絶縁体中に分散させたカーボンナノチューブを用いた冷陰極の試作と評価(薄膜プロセス・材料,一般)
- スパッタリング法によるSnO_2薄膜の生成
- 熱フィラメントアシストスパッタ法による結晶性炭素薄膜の生成
- C-6-9 リアクティブスパッタ法によるZrO_2薄膜の生成とその評価
- C-6-8 結晶性炭素薄膜の生成とその評価
- 高配向性カーボン薄膜の生成とその諸特性
- 結晶性炭素薄膜の生成とその諸特性評価
- SiH_2Cl_2 をソースガスとしたプラズマCVD法による SiC 薄膜の生成と諸特性
- スパッタリング法による酸素センサ用正方晶ジルコニア薄膜の作製
- スパッタリング法によるSiC薄膜の生成
- 反応性スパッタ法によるNbC_xN_y薄膜の生成とその諸特性
- C-6-3 ゾル・ゲル法によるCNT冷陰極の試作(C-6.電子部品・材料,一般セッション)
- ZnO薄膜を表面に生成させたATカット水晶振動子の周波数湿度特性
- 光ファイバを用いた位置・速度センサの検出特性
- 工業高校生によるCdS/CdTe太陽電池の作製
- 多結晶炭化珪素薄膜を用いたマイクロセンサの試作
- 反応性スパッタ法によるNbCxN1-x超伝導薄膜の作成
- SiC表面の直接窒化と窒化層/SiC界面特性の評価
- プラズマCVD法によるTMSを用いた多結晶SiC薄膜の生成
- TEOSを原料とするCVD法によるSiO_2/SiC MOS構造の作製(薄膜プロセス・材料,一般)
- C-6-3 CNT冷陰極における直列抵抗の影響(C-6.電子部品・材料,一般セッション)
- TEOSを原料とするCVD法によるSiO_2/SiC MOS構造の作製
- 電界遮蔽効果と直列抵抗を同時に考慮した電界電子放出特性の検討(薄膜プロセス・材料,一般)