中尾 真人 | 信州大学工学部
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概要
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著作論文
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- 電子ビーム蒸着法によるホウ素薄膜の作製と評価
- 低抵抗抵抗器のための電極接触抵抗の検討
- 多結晶SiC薄膜の生成とそのピエゾ抵抗特性
- ホットフィラメントアシストスパッタ法によるカーボン薄膜の作製と電界電子放出特性の評価(薄膜プロセス・材料,一般)
- ホットフィラメントアシストスパッタ法によるカーボン薄膜の作製と電界電子放出特性の評価
- 伝送線路モデル(TLM)による高精度低抵抗抵抗器の電極接触抵抗の評価
- 熱フィラメントアシストスパッタ法による結晶性炭素薄膜の生成
- C-6-9 リアクティブスパッタ法によるZrO_2薄膜の生成とその評価
- C-6-8 結晶性炭素薄膜の生成とその評価
- 高配向性カーボン薄膜の生成とその諸特性
- 結晶性炭素薄膜の生成とその諸特性評価
- SiH_2Cl_2 をソースガスとしたプラズマCVD法による SiC 薄膜の生成と諸特性
- スパッタリング法による酸素センサ用正方晶ジルコニア薄膜の作製
- スパッタリング法によるSiC薄膜の生成
- プラズマCVDによる高導電性カーボン膜の生成