電子ビーム蒸着法によるホウ素薄膜の作製と評価
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概要
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電子ビーム蒸着法によりホウ素薄膜を作製し、その評価を行った。作製した薄膜はXPS、RHEED、光吸収測定によって分析を行い、組成、結晶性、光吸収特性についての評価を行った。結晶構造についてはアモルファスに近いα菱面体の多結晶構造であると観測された。また、光学的エネルギーギャップは1.0[eV]付近に存在し、そのことからも作製した薄膜の構造はアモルファスであると考えられる。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1997-10-31
著者
-
上村 喜一
信州大学工学部
-
中尾 真人
信州大学工学部
-
小沼 義治
信州大学工学部
-
牧村 美加
長野県工業技術総合センター
-
篠宮 敏夫
信州大学工学部電気電子工学科
-
永岡 丈治
信州大学工学部電気電子工学科
-
中尾 眞人
信州大学工学部電気電子工学科
-
小沼 義治
信州大学
-
牧村 美加
長野県工業技術総合セ
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