CS-6-6 HW-CVD法によるSiC薄膜の作製と評価(CS-6.薄膜の高機能発現をともなう低温成膜技術の最前線,シンポジウム)
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概要
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- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2006-03-08
著者
-
林部 林平
信州大学工学部
-
阿部 克也
信州大学工学部
-
上村 喜一
信州大学工学部
-
山上 朋彦
信州大学工学部
-
阿部 克也
信州大学 工学部
-
遠山 陽平
信州大学 工学部
-
藤川 英人
信州大学 工学部
-
山上 朋彦
信州大学 工学部
-
林部 林平
信州大学 工学部
-
上村 喜一
信州大学 工学部
-
山上 朋彦
信州大学工学部電気電子工学科
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