小沼 義治 | 信州大学工学部

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概要

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• 信州大学工学部の論文著者

関連著者

• 小沼 義治

  信州大学工学部

• 小沼 義治

  信州大学

• 上村 喜一

  信州大学工学部

• 中尾 真人

  信州大学工学部

• 中尾 眞人

  信州大学工学部電気電子工学科

• 中尾 眞人

  信州大学工学部

• 米久保 荘

  信州大学工学部

• 上村 喜一

  信州大学 工学部

• 松元 裕次

  信州大学工学部

• 牧村 浩明

  長野県総合教育センター

• 米久保 荘

  信州大学

• 岡田 伸介

  信州大学工学部

• 田中 裕之

  信州大学

• Oo M

  信州大 工

• Oo Myo

  信州大学工学部

• 松島 久夫

  長野工業高等専門学校電気工学科長野工業高等専門学校電子情報工学科

• 中澤 光男

  信州大学 工学部

• 小沼 義治

  信州大学 工学部

• 林部 林平

  信州大学工学部

• 佐藤 貴弘

  信州大学工学部

• 大江 秀美

  (株)koa

• 大久保 美也子

  信州大学工学部

• 岡田 亮一

  信州大学工学部

• 大竹 一郎

  信州大学工学部

• 中澤 光男

  信州大学

• 中澤 光男

  信州大学工学部電気電子工学科

• 牧村 美加

  長野県工業技術総合センター

• 篠宮 敏夫

  信州大学工学部電気電子工学科

• 永岡 丈治

  信州大学工学部電気電子工学科

• Myo Than

  信州大学工学部

• 尾形 博

  信用大学工学部電気電子工学科

• 茨木 聡一郎

  信州大学工学部

• 佐久間 敏幸

  (株)KOA

• 流王 俊彦

  信越化学工業精密機能材料研究所

• 中澤 光男

  信州大学工学系研究科

• 本間 敏男

  信州大学工学部

• 田中 裕之

  信州大学工学部

• 流王 俊彦

  信越化学工業(株)精密機能材料研究所

• 松島 久夫

  長野高専

• 小川 武志

  信州大学 工学部 電気電子工学科

• 松下 裕之

  信州大学 工学部

• 中村 祐一

  信州大学工学部電気電子科

• 佐藤 晴信

  信州大学工学部

• 黒岩 真弓

  信州大学 工学部

• 松井 俊幸

  信州大学工学部

• 薮内 英彦

  信州大学工学部

• 丹野 雅行

  信越化学工業(株)精密機能材料研究所

• 花岡 健一

  長野県精密工業試験場

• 山下 昌三

  KOA株式会社

• 武田 聡史

  信州大学工学部

• 山内 洋亮

  信州大学 工学部

• 中尾 眞人

  信州大学 工学部

• 河合 善史

  信州大学工学部電気電子工学科

• 湯本 正則

  信州大学 工学部 電気電子工学科

• 中尾 真人

  信州大学 工学部 電気電子工学科

• 藪崎 純

  信州大学工学部

• 笹川 悟

  信州大学工学部電気電子科

• 佐野 東樹

  信州大学工学部

• 黒岩 真弓

  信州大学工学部

• 牧村 浩明

  信用大学工学部電気電子工学科

• 上村 喜一

  信用大学工学部電気電子工学科

• 小沼 義治

  信用大学工学部電気電子工学科

• 外山 拓哉

  信州大学工学部

• 江畑 徹

  信州大学工学部

• 河本 哲夫

  信州大学工学部

• 加藤 芳健

  信州大学工学部

• 轟 悟

  信州大学工学部電気工学科

• 牧村 美加

  長野県工業技術総合セ

• 小沼 義治

  信州大学工学部電気工学科

• 松島 久夫

  長野工業高等専門学校

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著作論文

• BCl_3を用いたプラズマCVDによるホウ素薄膜の生成
• 電子ビーム蒸着法によるホウ素薄膜の作製と評価
• 低抵抗抵抗器のための電極接触抵抗の検討
• 多結晶SiC薄膜の生成とそのピエゾ抵抗特性
• 反応性スパッタ法によるイットリア安定化ジルコニア薄膜の作成とその諸特性
• 四塩化ケイ素を用いたプラズマCVD法による SiC薄膜の形成
• SiCl_4のプラズマCVDによる多結晶Si及びSiC薄膜
• 伝送線路モデル(TLM)による高精度低抵抗抵抗器の電極接触抵抗の評価
• 矩形形状BiGa置換YIG薄膜の共鳴磁界の温度変動について
• 熱フィラメントアシストスパッタ法による結晶性炭素薄膜の生成
• C-6-9 リアクティブスパッタ法によるZrO_2薄膜の生成とその評価
• C-6-8 結晶性炭素薄膜の生成とその評価
• 高配向性カーボン薄膜の生成とその諸特性
• 結晶性炭素薄膜の生成とその諸特性評価
• SiH_2Cl_2 をソースガスとしたプラズマCVD法による SiC 薄膜の生成と諸特性
• スパッタリング法による酸素センサ用正方晶ジルコニア薄膜の作製
• スパッタリング法によるSiC薄膜の生成
• 反応性スパッタ法によるNbC_xN_y薄膜の生成とその諸特性
• ZnO薄膜を表面に生成させたATカット水晶振動子の周波数湿度特性
• 工業高校生によるCdS/CdTe太陽電池の作製
• 信州大学工学部電気電子工学科電子材料講座(学部)精密デバイス講座(大学院)小沼・上村研究室(研究室訪問)
• 多結晶炭化珪素薄膜を用いたマイクロセンサの試作
• 反応性スパッタ法によるNbCxN1-x超伝導薄膜の作成
• プラズマCVD法によるTMSを用いた多結晶SiC薄膜の生成
• プラズマCVD法による多結晶Si薄膜の作成
• Y2O3添加ZrO2スパッタ膜の作製と評価
• プラズマCVD法による多結晶SiC薄膜
• プラズマCVDによる高導電性カーボン膜の生成
• PbTe薄膜の電気的特性とひずみ抵抗効果
• SnTe薄膜の製作および電気的特性

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