山口 哲生 | 信州大学工学部

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• 山上 朋彦

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• 劉 穎慎

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• 上村 喜一

  信州大学工学部電気電子工学科

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著作論文

• SiC表面の直接窒化とXPSによる窒化層の評価(窒化物及び混晶半導体デバイス)
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• プラズマ窒化法による6H-SiC窒化絶縁膜の作製と評価(薄膜プロセス・材料, 一般)

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