仙石 昌 | 信州大学工学部

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概要

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• 同名の論文著者
• 信州大学工学部の論文著者

関連著者

• 林部 林平

  信州大学工学部

• 上村 喜一

  信州大学工学部

• 山上 朋彦

  信州大学工学部

• 仙石 昌

  信州大学工学部

• 上村 喜一

  信州大学工学部電気電子工学科

• 山上 朋彦

  信州大学工学部電気電子工学科

• 林部 林平

  信州大学工学部電気電子工学科

• 鈴木 真一郎

  信州大学工学部

• 村田 裕亮

  信州大学工学部

• 逸見 充則

  信州大学工学部

• 辻 拓真

  信州大学工学部

• 陳 晨

  信州大学工学部

• 阿部 克也

  信州大学工学部

• 萩原 正宜

  信州大学工学部電気電子工学科

• 石田 芳樹

  信州大学工学部電気電子工学科

• 塩沢 宏章

  信州大学工学部電気電子工学科

• 石田 芳樹

  信州大学工学部

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著作論文

• C-6-14 TEOSを用いた熱CVDによるSiC-MOS構造の界面評価(C-6.電子部品・材料,一般セッション)
• 直接窒化膜を界面制御層に用いたSiCMIS構造の作製
• C-6-3 直接窒化法で作製したSiCMISショットキー接触の評価(C-6. 電子部品・材料,一般セッション)
• バイアス印加RFプラズマ窒化法によるSiC-MIS構造の作製(薄膜プロセス・材料,一般)

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