酒井 崇史 | 信州大学工学部

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概要

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• 信州大学工学部の論文著者

関連著者

• 林部 林平

  信州大学工学部

• 上村 喜一

  信州大学工学部

• 山上 朋彦

  信州大学工学部

• 逸見 充則

  信州大学工学部

• 酒井 崇史

  信州大学工学部

• 上村 喜一

  信州大学工学部電気電子工学科

• 山上 朋彦

  信州大学工学部電気電子工学科

• 林部 林平

  信州大学工学部電気電子工学科

• 井口 裕哉

  信州大学工学部

• 鈴木 真一郎

  信州大学工学部

• 村田 裕亮

  信州大学工学部

• 杉田 晴彦

  信州大学工学部

• 杉田 暁彦

  信州大学工学部

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著作論文

• SiC表面の直接窒化と窒化層/SiC界面特性の評価
• TEOSを原料とするCVD法によるSiO_2/SiC MOS構造の作製(薄膜プロセス・材料,一般)
• TEOSを原料とするCVD法によるSiO_2/SiC MOS構造の作製

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