永久 克己 | 株式会社ルネサステクノロジ

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概要

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• 同名の論文著者
• 株式会社ルネサステクノロジの論文著者

関連著者

• 永久 克巳

  (株)ルネサステクノロジ

• 永久 克己

  株式会社ルネサステクノロジ

• 石川 清志

  ルネサステクノロジ

• 井上 靖朗

  (株)ルネサステクノロジ先端デバイス開発部

• 井上 靖朗

  (株)ルネサステクノロジ

• 谷沢 元昭

  ルネサステクノロジ株式会社

• 谷沢 元昭

  (株)ルネサステクノロジ

• 石川 清志

  株式会社ルネサステクノロジ

• 岡垣 健

  (株)ルネサステクノロジ

• 石川 清志

  (株)ルネサステクノロジ

• 土屋 修

  株式会社ルネサステクノロジ

• 永久 克己

  (株)ルネサステクノロジ

• 林 岳

  (株)ルネサステクノロジ ウェハプロセス技術統括部

• 林 岳

  (株)ルネサステクノロジ

• 内田 哲也

  (株)ルネサステクノロジ

• 土屋 修

  (株)ルネサステクノロジ

• 石川 清志

  三菱電機(株)ULSI開発研究所

• 園田 賢一郎

  三菱電機(株)ULSI開発研究所

• 園田 賢一郎

  株式会社ルネサステクノロジ

• 園田 賢一郎

  三菱電機(株)

• 高篠 裕行

  (株)ルネサステクノロジ

• 佃 栄次

  (株)ルネサステクノロジ

• 若原 祥史

  (株)ルネサステクノロジ

• 石川 清志

  三菱電機(株)ulsi技術開発センター

• 犬石 昌秀

  三菱電機(株)

• 井上 靖朗

  三菱電機(株)

• 谷沢 元昭

  三菱電機(株)ULSI開発研究所

• 犬石 昌秀

  株式会社ルネサステクノロジ 先端デバイス開発部

• 犬石 昌秀

  株式会社ルネサステクノロジ

• 尾田 秀一

  (株)ルネサステクノロジ先端デバイス開発部

• 永久 克巳

  三菱電機(株)ULSI技術開発センター

• 鎌倉 良成

  大阪大学工学部

• 谷口 研二

  大阪大学工学部

• 土屋 修

  ルネサステクノロジ

• 永久 克己

  三菱電機(株)ULSI開発研究所

• 熊本 敏夫

  株式会社ルネサステクノロジ

• 山下 朋弘

  株式会社ルネサステクノロジウエハプロセス技術統括部

• 西田 征男

  株式会社ルネサステクノロジウエハプロセス技術統括部

• 尾田 秀一

  株式会社ルネサステクノロジウエハプロセス技術統括部

• 熊本 敏夫

  ルネサステクノロジ

• 牧野 博之

  (株)ルネサステクノロジ製品技術本部設計技術統括部

• 佃 栄次

  ルネサステクノロジ株式会社

• 高篠 裕行

  ルネサステクノロジ株式会社

• 岡垣 健

  ルネサステクノロジ株式会社

• 内田 哲也

  ルネサステクノロジ株式会社

• 林 岳

  ルネサステクノロジ株式会社

• 永久 克己

  ルネサステクノロジ株式会社

• 若原 祥史

  ルネサステクノロジ株式会社

• 石川 清志

  ルネサステクノロジ株式会社

• 井上 靖朗

  ルネサステクノロジ株式会社

• 河野 浩之

  三菱電機(株)システムlsi事業統括部

• 西出 征男

  三菱電機株式会社 ULSI技術開発センター

• 鎌倉 良成

  大阪大学大学院工学研究科

• 井上 靖朗

  株式会社ルネサステクノロジ

• 熊本 敏夫

  三菱電機(株)システムLSI開発研究所

• 西田 征男

  (株)ルネサス テクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部

• 牧野 博之

  ルネサステクノロジ

• 牧野 博之

  大阪工業大学情報科学部コンピュータ科学科

• 岩出 秀平

  大阪工業大学情報科学部

• 岩出 秀平

  大阪工業大学情報科学部コンピュータ科学科

• 岩出 秀平

  大阪工業大学

• 熊本 敏夫

  三菱電機(株)システムlsi事業統括部

• 谷口 研二

  大阪大

• 清水 昭博

  株式会社ルネサステクノロジ

• 芝原 健太郎

  広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所:広島大学大学院先端物質科学研究科

• Taniguchi K

  Osaka Univ. Osaka Jpn

• Taniguchi K

  Department Of Electronic Engineering Faculty Of Engineering Osaka University

• 國清 辰也

  (株)ルネサステクノロジ

• 渡邊 哲也

  (株)ルネサステクノロジ

• 金本 俊幾

  (株)ルネサステクノロジ

• 朝里 浩靖

  (株)ルネサスデバイスデザイン

• 白田 光利

  (株)ルネサステクノロジ

• 味岡 佳英

  (株)ルネサステクノロジ

• 渡邉 哲也

  株式会社ルネサステクノロジ製品技術本部

• 金本 後幾

  株式会社ルネサステクノロジ製品技術本部

• 国清 辰也

  株式会社ルネサステクノロジ生産本部

• 白田 光利

  株式会社ルネサステクノロジ製品技術本部

• 味岡 佳英

  株式会社ルネサステクノロジ製品技術本部

• 西田 征男

  株式会社ルネサステクノロジ:広島大学大学院先端物質科学研究科

• Taniguchi K

  Department Of Electronics And Information Systems Osaka University

• 尾田 秀一

  株式会社ルネサステクノロジ

• 牧野 博之

  大阪工業大学大学院情報科学研究科

• 谷口 研二

  大阪大学大学院工学研究科

• 中川 直紀

  (株)アドバンスト・ディスプレイ

• 山本 和也

  三菱電機株式会社

• 西村 正

  三菱電機株式会社ulsi技術開発センター

• 前川 繁登

  三菱電機(株)LSI研究所

• 三好 寛和

  三菱電機(株) Ulsi開発研究所

• 平野 有一

  三菱電機(株)

• 前田 茂伸

  三菱電機(株)

• 松本 拓治

  三菱電機(株)

• 岩松 俊明

  三菱電機(株)

• 山口 泰男

  三菱電機(株)

• 一法師 隆志

  三菱電機(株)

• 西村 正

  三菱電機(株)

• 佐山 弘和

  三菱電機(株)ULSI開発研究所

• 山口 偉人

  (株)アドバンスト・ディスプレイ

• 前田 茂伸

  三菱電機株式会社ULSI技術開発センター

• 松本 拓治

  三菱電機株式会社ULSI技術開発センター

• 山口 泰男

  三菱電機(株)ulsi技術開発センター

• 山口 泰男

  株式会社ルネサステクノロジ

• 山口 泰男

  三菱電機(株)ulsi開発研究所

• 一法師 隆志

  (株)ルネサステクノロジ先端デバイス開発部

• 平野 有一

  (株)ルネサステクノロジ

• 岩松 俊明

  (株)ルネサステクノロジ先端デバイス開発部

• 前川 繁登

  (株)ルネサステクノロジ先端デバイス開発部

• 山下 朋弘

  (株)ルネサステクノロジ

• 佐山 弘和

  三菱電機ulsi技術開発センター

• 塚本 康正

  (株)ルネサステクノロジ製品技術本部設計技術統括部

• 大林 茂樹

  (株)ルネサステクノロジ製品技術本部設計技術統括部

• 太田 和伸

  ソニー株式会社

• 芝原 健太郎

  広島大学ナノデバイス・システム研究センター

• 山岡 雅直

  日立製作所・中央研究所

• 太田 和伸

  三菱電機(株)ULSI技術開発センター

• 山本 和也

  三菱電機システムLSI事業統括センター

• 加藤 隆幸

  三菱電機高周波光素子事業統括部

• 尾田 秀一

  三菱電機(株)ULSI技術開発センター

• 谷口 研二

  大阪大学大学院工学研究科高度人材育成センター:大阪大学大学院工学研究科電気電子情報工学専攻

• 塚本 康正

  株式会社ルネサステクノロジ

• 大林 茂樹

  株式会社ルネサステクノロジ

• 石橋 孝一郎

  (株)ルネサステクノロジ 製品技術本部設計基盤技術開発部

• 山下 朋弘

  ルネサステクノロジ

• 長田 健一

  (株)日立製作所中央研究所

• 石橋 孝一郎

  (株)ルネサステクノロジ

• 宮崎 裕行

  (株)日立製作所 中央研究所

• 山岡 雅直

  (株)日立製作所 中央研究所

• 石橋 孝一郎

  (株)日立製作所中央研究所

• 小谷 教彦

  三菱電機(株)ULSI開発研究所

• 加藤 隆幸

  三菱電機株式会社高周波光デバイス製作所

• 塚本 康正

  ルネサスエレクトロニクス株式会社

• 平野 有一

  ルネサスエレクトロニクス株式会社

• 岩松 俊明

  ルネサスエレクトロニクス株式会社

• 石橋 孝一郎

  ルネサスエレクトロニクス

• 小谷 教彦

  広島国際大学社会環境科学部

• 小谷 教彦

  三菱電機(株)ulsi技術開発センター

• 西村 正

  三菱電機 Ulsi開セ

• 山岡 雅直

  日立製作所中央研究所

• 山岡 雅直

  (株)日立製作所中央研究所

• 芝原 健太郎

  広島大学 ナノデバイス・システム研究センター

• Taniguchi K

  Division Of Electrical Electronics And Information Engineering Graduate School Of Engineering Osaka

• 加藤 隆幸

  三菱電機

• 長田 健一

  株式会社日立製作所

• 前田 茂伸

  Ulsi開発センター

• Taniguchi Kenji

  Division Of Electrical Electronic And Information Engineering Osaka University

• 西村 正

  三菱電機(株)ulsi開発研究所

• 佐山 弘和

  三菱電機(株)

• 三好 寛和

  三菱電機(株)

• 前川 繁登

  (株)ルネサステクノロジ

• 長田 健一

  (株)日立製作所 中央研究所

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著作論文

• コンタクト特性を考慮したa-Si:H TFTの電気的特性の解析
• 65nmノード歪みpMOSFETのホール伝導における全応力の効果の検証(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
• デュアルオフセット構造を有する135GHzf_SOI MOSFETの高周波アナログ混載技術
• SOCを低電力化する回路技術とデバイスモデルの課題(IEDM(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
• チャネルnMOS移動度のストレスライナー膜による影響(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
• デバイス/回路シミュレータの結合
• 65nmノード歪みpMOSFETのホール伝導における全応力の効果の検証(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
• チャネルnMOS移動度のストレスライナー膜による影響(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
• MOSFETフリッカ雑音のばらつきのバイアス依存性
• MOSFETフリッカ雑音のばらつきのバイアス依存性
• High-k/メタルゲートMOSFETのしきい値電圧の温度依存性(シリコン関連材料の作製と評価)
• 90nmテクノロジーノードによる銅配線形状の非破壊インバース・モデリング(プロセス・デバイス・回路・シミュレーション及び一般)
• 90nmテクノロジーノードによる銅配線形状の非破壊インバース・モデリング(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
• ばらつき因子の大域的な同定と統計的ワーストケースモデルの生成方法について(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
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• High-k/ メタルゲートMOSFETのしきい値電圧の温度依存性

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