長田 健一 | (株)日立製作所 中央研究所

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概要

• 同名の論文著者
• (株)日立製作所 中央研究所の論文著者

関連著者

• 長田 健一

  (株)日立製作所中央研究所

• 長田 健一

  (株)日立製作所 中央研究所

• 長田 健一

  株式会社日立製作所

• 北井 直樹

  (株)日立超LSIシステムズ

• 茂庭 昌弘

  (株)ルネサステクノロジ

• 河原 尊之

  (株)日立製作所中央研究所

• 半澤 悟

  日立製作所中央研究所

• 高浦 則克

  日立製作所中央研究所

• 半澤 悟

  (株)日立製作所中央研究所

• 松崎 望

  (株)日立製作所中央研究所

• 高浦 則克

  (株)日立製作所中央研究所

• 松崎 望

  (株)日立製作所 中央研究所

• 小田部 晃

  (株)日立製作所 中央研究所

• 竹村 理一郎

  (株)日立製作所中央研究所

• 黒土 健三

  日立製作所中央研究所

• 守谷 浩志

  日立製作所機械研究所

• 斉藤 良和

  (株)ルネサステクノロジ

• 黒土 健三

  (株)日立製作所 中央研究所

• 守谷 浩志

  (株)日立製作所 機械研究所

• 小田部 晃

  (株)日立製作所中央研究所

• 蒲原 史朗

  ルネサステクノロジ

• 蒲原 史朗

  (株)ルネサステクノロジ

• 松井 裕一

  (株)日立製作所中央研究所

• 藤岡 美緒

  (株)ルネサステクノロジ

• 森田 貞幸

  (株)ルネサステクノロジ

• 松井 裕一

  (株)日立製作所 中央研究所

• 岩崎 富生

  (株)日立製作所機械研究所

• 塚本 康正

  (株)ルネサステクノロジ製品技術本部設計技術統括部

• 大林 茂樹

  (株)ルネサステクノロジ製品技術本部設計技術統括部

• 外村 修

  (株)日立製作所 中央研究所

• 藤崎 芳久

  (株)日立製作所中央研究所

• 谷沢 元昭

  ルネサステクノロジ株式会社

• 山岡 雅直

  日立製作所・中央研究所

• 山本 直樹

  高知工科大学 総合研究所 マテリアルデザインセンター

• 塚本 康正

  株式会社ルネサステクノロジ

• 大林 茂樹

  株式会社ルネサステクノロジ

• 石橋 孝一郎

  (株)ルネサステクノロジ 製品技術本部設計基盤技術開発部

• 山口 憲

  (株)日立製作所中央研究所

• 寺尾 元康

  (株)日立製作所 中央研究所

• 松岡 正道

  (株)ルネサステクノロジ

• 石橋 孝一郎

  (株)ルネサステクノロジ

• 小柳 光正

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 福島 誉史

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 李 康旭

  東北大学未来科学技術共同研究センター

• 永久 克己

  (株)ルネサステクノロジ

• 谷沢 元昭

  (株)ルネサステクノロジ

• 宮崎 裕行

  (株)日立製作所 中央研究所

• 山岡 雅直

  (株)日立製作所 中央研究所

• 永久 克巳

  (株)ルネサステクノロジ

• 石橋 孝一郎

  (株)日立製作所中央研究所

• 岩崎 富生

  (株)日立製作所 機械研究所

• Kobayashi M

  Department Of Bioengineering And Robotics Tohoku University

• 朴澤 一幸

  (株)日立製作所中央研究所ULSI研究部

• 塚本 康正

  ルネサスエレクトロニクス株式会社

• 石橋 孝一郎

  ルネサスエレクトロニクス

• 河江 達也

  九州大工

• 山本 直樹

  高知工科大学 総合研究所

• 岩崎 富生

  (株)日立製作所

• 永久 克己

  株式会社ルネサステクノロジ

• 花岡 裕子

  (株)日立製作所

• 山岡 雅直

  日立製作所中央研究所

• 山岡 雅直

  (株)日立製作所中央研究所

• 古田 太

  (株)日立製作所基礎研究所

• Takeda Kazuyuki

  Department Of Chemistry Graduate School Of Science Kyoto University:(present Address)division Of Adv

• 藤崎 芳久

  (株)日立製作所

• 寺尾 元康

  (株)日立製作所 ストレージテクノロジー研究センター

• Takeda Ken-ichi

  Hitachi, Ltd., Central Research Laboratory, Kokubunji, Tokyo 185-8601, Japan

• 武田 健一

  (株)日立製作所中央研究所

• 青木 真由

  (株)日立製作所中央研究所

• 花岡 裕子

  (株)日立製作所中央研究所

• 古田 太

  (株)日立製作所中央研究所

• 朴澤 一幸

  (株)日立製作所中央研究所

• 河江 連也

  九大工

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著作論文

• SRAMの宇宙線中性子によるマルチエラー解析及びマルチエラー低減技術
• 書換え電流100μA,書換え速度416kB/sで動作する混載向け512kB相変化メモリ(新メモリ技術とシステムLSI)
• 酸素添加GeSbTe相変化メモリセルの研究(新型不揮発性メモリ)
• 1.5V-CMOS動作オンチップ相変化RAM回路技術
• 1.5V-CMOS動作オンチップ相変化RAM回路技術(デジタル・情報家電, 放送用, ゲーム機用システムLSI, 及び一般)
• SOCを低電力化する回路技術とデバイスモデルの課題(IEDM(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
• 従来型メモリセルの1/3の面積を実現する縦型MOSを用いた4トランジスタSRAMセル(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低電力))
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• C-12-24 低電力 SRAM への階層型 ECC 回路導入に関する検討
• 3次元システムLSI開発のためのチップレベルTSVプロセス(次世代電子機器を支える三次元積層技術と先端実装の設計・評価技術論文)

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