高浦 則克 | 日立製作所中央研究所
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概要
関連著者
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半澤 悟
日立製作所中央研究所
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高浦 則克
日立製作所中央研究所
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黒土 健三
日立製作所中央研究所
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守谷 浩志
日立製作所機械研究所
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木下 勝治
日立製作所中央研究所
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森川 貴博
日立製作所中央研究所
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半澤 悟
(株)日立製作所中央研究所
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松崎 望
(株)日立製作所中央研究所
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高浦 則克
(株)日立製作所中央研究所
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茂庭 昌弘
(株)ルネサステクノロジ
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松崎 望
(株)日立製作所 中央研究所
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笹子 佳孝
(株)日立製作所 中央研究所
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笹子 佳孝
日立製作所中央研究所
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峰 利之
日立製作所 中央研究所
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峰 利之
(株)日立製作所中央研究所
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河原 尊之
(株)日立製作所中央研究所
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島 明生
日立製作所中央研究所
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藤崎 芳久
日立製作所中央研究所
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鳥居 和功
日立製作所中央研究所
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鳥居 和功
日立・中研
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長田 健一
(株)日立製作所中央研究所
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北井 直樹
(株)日立超LSIシステムズ
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黒土 健三
(株)日立製作所 中央研究所
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守谷 浩志
(株)日立製作所 機械研究所
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峰 利之
日立製作所中央研究所
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島 明生
日立製作所デバイス開発センタ
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長田 健一
株式会社日立製作所
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長田 健一
(株)日立製作所 中央研究所
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鳥居 和功
日立製作所 中央研究所
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松井 裕一
(株)日立製作所中央研究所
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竹村 理一郎
(株)日立製作所中央研究所
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松井 裕一
(株)日立製作所 中央研究所
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岩崎 富生
(株)日立製作所機械研究所
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外村 修
(株)日立製作所 中央研究所
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藤崎 芳久
(株)日立製作所中央研究所
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久米 均
日立製作所中央研究所
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寺尾 元康
(株)日立製作所 中央研究所
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岩崎 富生
(株)日立製作所 機械研究所
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岩崎 富生
(株)日立製作所
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藤崎 芳久
(株)日立製作所
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寺尾 元康
(株)日立製作所 ストレージテクノロジー研究センター
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小田部 晃
(株)日立製作所 中央研究所
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古賀 剛
(株)ルネサステクノロジ
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山本 直樹
高知工科大学 総合研究所 マテリアルデザインセンター
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松岡 正道
(株)ルネサステクノロジ
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森川 貴博
(株)日立製作所 中央研究所
-
木下 勝治
(株)日立製作所 中央研究所
-
小田部 晃
(株)日立製作所中央研究所
-
山本 直樹
高知工科大学 総合研究所
著作論文
- 低接触抵抗のポリシリコン選択ダイオードを用いた相変化メモリの低コスト化技術(固体メモリおよび一般)
- 低接触抵抗のポリシリコン選択ダイオードを用いた相変化メモリの低コスト化技術(固体メモリ及び一般)
- 低接触抵抗ポリSiダイオード駆動の4F^2クロスポイント型相変化メモリ(低電圧/低消費電力技術、新デバイス・回路とその応用)
- 書換え電流100μA,書換え速度416kB/sで動作する混載向け512kB相変化メモリ(新メモリ技術とシステムLSI)
- 酸素添加GeSbTe相変化メモリセルの研究(新型不揮発性メモリ)
- 1.5V-CMOS動作オンチップ相変化RAM回路技術
- 1.5V-CMOS動作オンチップ相変化RAM回路技術(デジタル・情報家電, 放送用, ゲーム機用システムLSI, 及び一般)
- 五酸化タンタル界面層の形成による相変化メモリの書換えの低電力化(不揮発性メモリ及び関連プロセス一般)
- 低接触抵抗ポリSiダイオード駆動の4F^2クロスポイント型相変化メモリ(低電圧/低消費電力技術、新デバイス・回路とその応用)