寺尾 元康 | (株)日立製作所 ストレージテクノロジー研究センター
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概要
関連著者
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寺尾 元康
(株)日立製作所 ストレージテクノロジー研究センター
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寺尾 元康
(株)日立製作所 中央研究所
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宮本 真
日立マクセル 次世代ディスクセ
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宮本 真
日立マクセル株式会社 開発本部 次世代ディスクセンター
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宮本 真
(株)日立製作所中央研究所光ディスク開発戦略プロジェクト
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宮元 真
日本マクセル株式会社開発本部次世代ディスクセンター
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寺尾 元康
(株)日立製作所中央研究所
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廣常 朱美
(株)日立製作所中央研究所
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前田 武志
(株)日立製作所中央研究所
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廣常 朱美
株式会社日立製作所中央研究所
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宮内 靖
株式会社日立製作所 中央研究所
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神藤 英彦
日立製作所 中央研究所
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宮内 靖
(株)日立製作所中央研究所光ディスク開発戦略プロジェクト
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前田 武志
日立 中研
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神藤 英彦
(株)日立製作所中央研究所光ディスク開発戦略プロジェクト
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広廣 朱美
(株)日立製作所中央研究所光ディスク開発戦略プロジェクト
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大貫 秀男
(株)日立製作所マルチメディアシステム開発本部第3部
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寺尾 元康
(株)日立製作所 中央研究所 光ディスク開発戦略プロジェクト
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前田 武志
(株)日立製作所 中央研究所
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広廣 朱美
(株)日立製作所 中央研究所 光ディスク開発戦略プロジェクト
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廣常 朱美
(株)日立製作所 中央研究所 エレクトロニクス研究センタ
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前田 武志
日立製作所 中央研究所
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岩崎 富生
(株)日立製作所機械研究所
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新谷 俊通
(株)日立製作所, 中央研究所
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外村 修
(株)日立製作所 中央研究所
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松井 裕一
(株)日立製作所中央研究所
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藤崎 芳久
(株)日立製作所中央研究所
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黒土 健三
日立製作所中央研究所
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半澤 悟
日立製作所中央研究所
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守谷 浩志
日立製作所機械研究所
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高浦 則克
日立製作所中央研究所
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半澤 悟
(株)日立製作所中央研究所
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松崎 望
(株)日立製作所中央研究所
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高浦 則克
(株)日立製作所中央研究所
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茂庭 昌弘
(株)ルネサステクノロジ
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黒土 健三
(株)日立製作所 中央研究所
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守谷 浩志
(株)日立製作所 機械研究所
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岩崎 富生
(株)日立製作所 機械研究所
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岩崎 富生
(株)日立製作所
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藤崎 芳久
(株)日立製作所
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新谷 利通
日立基礎研
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松井 裕一
(株)日立製作所 中央研究所
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松崎 望
(株)日立製作所 中央研究所
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保坂 純男
群馬大学工学部電気電子工学科
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保坂 純男
群馬大学 ; 工学部電気電子工学科
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廣常 朱美
日立製作所中央研究所
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島野 健
(株)日立製作所 中央研究所
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竹村 理一郎
(株)日立製作所中央研究所
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河原 尊之
(株)日立製作所中央研究所
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木下 勝治
日立製作所中央研究所
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森川 貴博
日立製作所中央研究所
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古賀 剛
(株)ルネサステクノロジ
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山本 直樹
高知工科大学 総合研究所 マテリアルデザインセンター
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長田 健一
(株)日立製作所中央研究所
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北井 直樹
(株)日立超LSIシステムズ
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松岡 正道
(株)ルネサステクノロジ
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菊川 敦
(株)日立製作所中央研究所
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有吉 哲夫
(株)日立製作所中央研究所ストレージ研究部
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森川 貴博
(株)日立製作所 中央研究所
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木下 勝治
(株)日立製作所 中央研究所
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安藤 圭吉
(株)日立製作所中央研究所
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保坂 純男
(株)日立製作所
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山本 直樹
高知工科大学 総合研究所
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宮本 光秀
(株)日立製作所基礎研究所
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広常 朱美
(株)日立製作所中央研究所
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徳宿 伸弘
(株)日立製作所映像情報メディア事業部
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田村 礼仁
(株)日立マクセル情報メディア開発研究所
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安藤 圭吉
(株)日立製作所中央研究所ストレージ研究部光ディスク開発センター
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菊川 敦
(株)日立製作所 中央研究所
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寺尾 元康
日立製作所研究開発本部ストレージ・テクノロジー研究センタ
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寺尾 元康
(株)日立製作所中央研究所ストレージ研究部
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宮本 光秀
(株)日立製作所 中央研究所
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田村 礼仁
日立マクセル株式会社
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島野 健
株式会社日立製作所中央研究所:(現)日立マクセル株式会社開発本部オプト開発センター
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長田 健一
株式会社日立製作所
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徳宿 伸弘
日立
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長田 健一
(株)日立製作所 中央研究所
著作論文
- 酸素添加GeSbTe相変化メモリセルの研究(新型不揮発性メモリ)
- 無機超解像膜を用いた光ディスクの再生信号シミュレーション
- 相変化光ディスクの記録マーク形成シミュレーション
- 相変化光ディスクの記録マーク形成シミュレーション
- 相変化光ディスクの記録マーク形成シミュレーション
- 相変化光ディスクの記録マーク形成シミュレーション
- DVD-RAM媒体における記録マーク形成過程の解析
- 相変化マークエッジ記録用記録波形の検討 : マーク形成過程とマーク形状
- 相変化マークエッジ記録用記録波形の検討 : マーク形成過程とマーク形状
- 相変化マークエッジ記録用記録波形の検討 : マーク形成過程とマーク形状
- 五酸化タンタル界面層の形成による相変化メモリの書換えの低電力化(不揮発性メモリ及び関連プロセス一般)
- SNOMを用いた相変化記録
- 相変化光記録の将来展望
- DVD-RAM記録媒体
- 光メモリー : 書き換え可能相変化光メモリー(記録型DVD, Blu-ray など)の原理