廣常 朱美 | 日立製作所中央研究所
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概要
関連著者
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廣常 朱美
日立製作所中央研究所
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寺尾 元康
(株)日立製作所中央研究所
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保坂 純男
群馬大学工学部電気電子工学科
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保坂 純男
群馬大学 ; 工学部電気電子工学科
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赤城 文子
日立製作所中央研究所
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根本 広明
日立製作所中央研究所
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松本 拓也
日立製作所中央研究所
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大倉 康孝
日立製作所機械研究所
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向尾 将樹
日立製作所中央研究所
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牛山 純子
日立製作所中央研究所
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宮本 治一
日立製作所中央研究所
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廣常 朱美
株式会社日立製作所中央研究所
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新谷 利通
日立基礎研
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宮本 光秀
(株)日立製作所 中央研究所
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峯邑 浩行
(株)日立製作所中央研究所
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廣常 朱美
(株)日立製作所中央研究所
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白井 寛
日立マクセル株式会社
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安達 和慶
日立マクセル株式会社
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中村 公夫
株式会社日立製作所中央研究所
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宮本 治一
(株)日立製作所中央研究所
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松本 拓也
(株)日立製作所 中央研究所
-
中村 公夫
日立製作所中央研究所
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宮内 靖
株式会社日立製作所 中央研究所
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中村 公夫
日立 中研
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中村 公夫
(株)日立製作所 中央研究所
-
白井 寛
日立マクセル(株)筑波研究所
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保坂 純男
日立製作所中央研究所
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寺尾 元康
日立製作所中央研究所
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中村 公夫
日立製作所 ストレージテクノロジ研究センタ
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寺尾 元康
日立製作所 中央研究所ulsi研究部
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新谷 俊通
日立製作所基礎研究所
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宮本 光秀
日立製作所基礎研究所
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井村 亮
日立製作所基礎研究所
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田村 礼仁
日立マクセル株式会社
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松本 拓也
日立製作所 中央研究所
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峯邑 浩行
日立製作所研究開発本部ストレージ・テクノロジ研究センタ
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廣常 朱美
(株)日立製作所 中央研究所 エレクトロニクス研究センタ
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松本 拓也
日立製作所
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井村 亮
日立製作所・中央研究所
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赤城 文子
日立製作所
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宮本 治一
(株)日立製作所
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向尾 将樹
(株)日立製作所中央研究所
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峯邑 浩行
株式会社日立製作所中央研究所
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牛山 純子
(株)日立製作所中央研究所
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黒川 貴弘
(株)日立製作所中央研究所
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前田 武志
(株)日立製作所中央研究所
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田村 礼二
日立マクセル株式会社
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宮本 真
日立マクセル 次世代ディスクセ
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宮本 真
日立マクセル株式会社 開発本部 次世代ディスクセンター
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黒川 貴弘
株式会社日立製作所中央研究所
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根本 広明
(株)日立製作所中央研究所
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新谷 俊通
(株)日立製作所, 中央研究所
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赤城 文子
(株)日立製作所
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寺尾 元康
(株)日立製作所 中央研究所
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菊川 敦
(株)日立製作所中央研究所
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廣常 朱美
日立中研
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宮内 靖
日立中研
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寺尾 元康
日立中研
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保坂 純男
(株)日立製作所
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田村 礼仁
日立マクセル(株)開発本部
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宮本 光秀
(株)日立製作所基礎研究所
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広常 朱美
(株)日立製作所中央研究所
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寺尾 元康
株式会社日立製作所 中央研究所
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宮元 真
日本マクセル株式会社開発本部次世代ディスクセンター
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菊川 敦
(株)日立製作所 中央研究所
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前田 武志
(株)日立製作所 中央研究所
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寺尾 元康
(株)日立製作所 ストレージテクノロジー研究センター
著作論文
- 光ディスクにおけるPRML再生技術の動向と将来展望
- 面記録密度1Tb/in[2]-2.5Tb/in[2]を達成するための熱アシスト磁気記録計算機シミュレーション (マルチメディアストレージ)
- 面記録密度1Tb/in^2-2.5Tb/in^2を達成するための熱アシスト磁気記録計算機シミュレーション(媒体,一般)
- 2)相変化マークエッジ記録用記録波形の検討(画像情報記録研究会)
- 面記録密度1Tb/in^2-2.5Tb/in^2を達成するための熱アシスト磁気記録計算機シミュレーション(媒体,一般)
- 相変化記録膜による50GB/side容量ライトワンスディスク(光記録・一般)
- SNOMを用いた相変化記録
- 高融点成分添加相変化光ディスク記録膜の開発
- 近接場光学顕微鏡による微小相変化マーク形成
- 近接場光学顕微鏡による微小相変化マーク形成