中村 公夫 | (株)日立製作所 中央研究所
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概要
関連著者
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中村 公夫
(株)日立製作所 中央研究所
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中村 公夫
株式会社日立製作所中央研究所
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中村 公夫
日立 中研
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鈴木 寛
日立製作所 ストレージテクノロジ研究センタ
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中村 公夫
日立製作所中央研究所
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中村 公夫
日立製作所 ストレージテクノロジ研究センタ
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島倉 智一
日立製作所中央研究所
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島倉 智一
日立製作所 ストレージテクノロジ研究センタ
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伊藤 健一
日立製作所中央研究所
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伊藤 健一
株式会社日立製作所中央研究所
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廣常 朱美
株式会社日立製作所中央研究所
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中村 公夫
(株)日立製作所研究開発本部ストレージテクノロジー研究センタ第1部
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保坂 純男
群馬大学工学部電気電子工学科
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保坂 純男
群馬大学 ; 工学部電気電子工学科
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武隈 育子
株式会社日立製作所中央研究所
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高野 公史
日立製作所中央研究所
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松本 拓也
(株)日立製作所 中央研究所
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新谷 利通
日立基礎研
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宮本 光秀
(株)日立製作所 中央研究所
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松本 拓也
日立・中研
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市原 貴幸
日立製作所中央研究所
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廣常 朱美
日立製作所中央研究所
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根本 広明
日立製作所中央研究所
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松本 拓也
日立製作所中央研究所
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宮本 治一
日立製作所中央研究所
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根本 広明
株式会社日立製作所中央研究所
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市原 貴幸
株式会社日立製作所中央研究所
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STIPE Barry
San Jose Research Center, Hitachi Global Storage Technologies
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宮本 治一
(株)日立製作所中央研究所
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西田 哲也
(株)日立製作所 中央研究所
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根本 広明
(株)日立製作所中央研究所
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五十嵐 万寿和
日立製作所 ストレージテクノロジ研究センタ
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鈴木 寛
(株)日立製作所中央研究所企画室
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丸山 洋治
日立製作所ストレージシステム事業部
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鈴木 寛
(株)日立製作所中央研究所
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高野 公史
(株)日立製作所中央研究所
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高橋 正彦
株式会社日立製作所デジタルメディア開発本部
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高橋 正彦
日立製作所中央研究所
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尾島 正啓
日立製作所中央研究所
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保坂 純男
日立製作所中央研究所
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寺尾 元康
日立製作所中央研究所
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高橋 正彦
日立製作所 中央研究所
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尾島 正啓
日立
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尾島 正啓
株式会社日立製作所中央研究所
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寺尾 元康
(株)日立製作所中央研究所
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Stipe Barry
San Jose Research Center Hitachi Global Storage Technologies
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寺尾 元康
日立製作所 中央研究所ulsi研究部
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新谷 俊通
日立製作所基礎研究所
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宮本 光秀
日立製作所基礎研究所
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井村 亮
日立製作所基礎研究所
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高野 公史
日立
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中村 公夫
日立・中研
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井村 亮
日立製作所・中央研究所
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宮本 治一
(株)日立製作所
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廣常 朱美
(株)日立製作所中央研究所
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市原 貴幸
株式会社 日立製作所 研究開発本部 ストレージテクノロジー研究センタ
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赤城 文子
日立製作所中央研究所
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赤城 文子
(株)日立製作所中央研究所
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神田 哲典
日立マクセル
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品田 博之
日立製作所中央研究所
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中村 滋男
(株)日立製作所 機械研究所
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島倉 智一
(株)日立製作所研究開発本部ストレージテクノロジー研究センタ第1部
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鈴木 寛
日立中研
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高野 公史
(株)日立製作所 中央研究所
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鈴木 寛
株式会社日立製作所中央研究所
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高野 公史
株式会社日立製作所中央研究所
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中村 公夫
日立中研
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伊藤 健一
日立中研
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高野 公史
日立中研
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稗田 秦之
(株)日立製作所, 中央研究所
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喜々津 哲
(株)東芝, 研究開発センター
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内藤 勝之
(株)東芝, 研究開発センター
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安斎 由美子
(株)日立製作所, 中央研究所
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新谷 俊通
(株)日立製作所, 中央研究所
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中村 滋男
東京大
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中村 滋男
日立機械研
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難波 入三
日立中研
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棚橋 究
日立製作所中央研究所
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赤城 文子
(株)日立製作所
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神田 哲典
日立マクセル開発本部
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神田 哲典
日立マクセル(株) 開発本部
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菊川 敦
(株)日立製作所中央研究所
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神田 哲典
日立マクセル 開発本部
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保坂 純男
(株)日立製作所
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江藤 公俊
(株)日立製作所中央研究所
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喜々津 哲
(株)東芝 研究開発センター
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宮本 光秀
(株)日立製作所基礎研究所
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江藤 公俊
(株)日立製作所 中央研究所
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江藤 公俊
日立製作所, ストレージ・テクノロジー研究センタ
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内藤 勝之
(株)東芝 研究開発センター
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内藤 勝之
東芝(株)研究開発センター材料デバイス研究所
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安斎 由美子
(株)日立製作所 中央研究所
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菊川 敦
(株)日立製作所 中央研究所
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高野 公史
(株)日立グローバルストレージテクノロジーズ技術開発本部
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小柳 肇
(株)日立製作所 中央研究所
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内藤 勝之
(株)東芝研究開発センター
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稗田 秦之
(株)日立製作所 中央研究所
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清水 淳一郎
日立・中研
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難波 入三
日立・機研
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荒井 聡
日立・生研
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佐々木 重幸
日立・機研
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金丸 昌敏
日立・機研
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中村 滋男
日立・機研
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棚橋 究
(株)日立製作所 中央研究所 エレクトロニクス研究センタ
-
根本 広明
(株)日立製作所 中央研究所 エレクトロニクス研究センタ
-
武隈 育子
(株)日立製作所 中央研究所 エレクトロニクス研究センタ
-
喜々津 哲
(株)東芝
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佐山 淳一
(株)日立製作所 中央研究所 エレクトロニクス研究センタ
-
廣常 朱美
(株)日立製作所 中央研究所 エレクトロニクス研究センタ
著作論文
- 粒分離を向上した熱アシスト記録用[Co/Pd]_n多層媒体(媒体,一般)
- 近接場光ヘッドによるパターン磁気媒体への熱アシスト記録
- 電子線トモグラフィーによる磁気ヘッド磁界計測技術(「磁性に関連したセンシング技術の広がりとその最前線」その2-磁気イメージング-)
- 電子線トモグラフィー装置を用いたSPTヘッドの高周波応答測定
- 電子線トモグラフィー装置を用いたSPTヘッドの高周波応答測定(垂直記録及び一般)
- 投射電子線磁界トモグラフィ装置の開発(2003年度(23回)精密工学会技術賞)
- 三次元磁界測定装置を用いた磁気ヘッド評価(磁気ヘッドおよび磁気記録再生特性)
- 電子線トモグラフィーを用いたヘッド磁場評価
- 三次元磁界測定装置を用いた磁気ヘッド評価
- 電子線トモグラフィーによる記録ヘッド磁界の時間応答測定
- 電子線トモグラフィを用いた磁気ディスク装置用高速記録磁気ヘッドの開発
- 電子線トモグラフィーによる記録ヘッド時間応答の測定
- 計測技術編 磁気ヘッドの高周波記録磁界をどう観察するか? (特集 超高密度・大容量への模索 拡大する新しい応用展開 '99データストレージ探検隊(1))
- 熱アシスト記録用近接場光ヘッドの開発
- 光磁気超解像媒体における交換結合膜の磁区反転 : 画像情報記録
- 光磁気超解像媒体における交換結合膜の磁区反転
- 粒分離を向上した熱アシスト記録用[Co/Pd]_n多層媒体(媒体,一般)
- 電子線トモグラフィーを用いたヘッド磁場評価
- 原子間力顕微鏡探針を用いた加圧変調ナノメータ記録
- 近接場光学顕微鏡による微小相変化マーク形成
- 近接場光学顕微鏡による微小相変化マーク形成
- S1603-1-1 テラビット級熱アシスト磁気記録を実現するSiサブマウントを利用した光伝送機構の開発(情報機器コンピュータメカニクス,社会変革を技術で廻す機械工学)
- 熱アシスト磁気記録のための媒体材料およびプロセス開発