喜々津 哲 | (株)東芝
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概要
関連著者
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喜々津 哲
(株)東芝
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喜々津 哲
(株)東芝 研究開発センター
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喜々津 哲
(株)東芝, 研究開発センター
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鎌田 芳幸
(株)東芝
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鎌田 芳幸
(株)東芝 研究開発センター
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内藤 勝之
(株)東芝, 研究開発センター
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鎌田 芳幸
(株)東芝研究開発センター
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内藤 勝之
(株)東芝 研究開発センター
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内藤 勝之
東芝(株)研究開発センター材料デバイス研究所
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内藤 勝之
(株)東芝研究開発センター
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稗田 泰之
(株)日立製作所 中央研究所
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稗田 泰之
(株)東芝 研究開発センター
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稗田 泰之
東芝研究開発センター
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前田 知幸
株式会社東芝研究開発センター
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甲斐 正
(株)東芝研究開発センター
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永瀬 俊彦
(株)東芝研究開発センター
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秋山 純一
(株)東芝 研究開発センター
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永瀬 俊彦
(株)東芝 研究開発センター
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甲斐 正
(株)東芝 研究開発センター
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櫻井 正敏
(株)東芝研究開発センター
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秋山 純一
(株)東芝研究開発センター
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浅川 鋼児
(株)東芝 研究開発センター
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浅川 鋼児
(株)東芝
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前田 知幸
(株)東芝 研究開発センター
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木原 尚子
(株)東芝研究開発センター
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森田 成二
東芝研究開発センター
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森田 成二
(株)東芝 研究開発センター
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森田 成二
(株)東芝
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木原 尚子
(株)東芝
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柏木 一仁
株式会社東芝研究開発センター
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木原 尚子
(株)東芝 研究開発センター
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木村 香里
(株)東芝 研究開発センター
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礒脇 洋介
(株)東芝 研究開発センター
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木村 香里
(株)東芝
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白鳥 聡志
株式会社東芝研究開発センター
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鈴木 克己
マルチメディア技術研究所
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木村 香里
(株)東芝研究開発センター
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柚須 圭一郎
(株)東芝デジタルメディアネットワーク社コアテクノロジーセンター
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芦田 純生
(株)東芝研究開発センター
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森下 直樹
(株)東芝デジタルメディアネットワーク社コアテクノロジーセンター
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芦田 純生
(株)東芝研究開発センター記憶材料デバイスラボラトリー
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中村 直正
(株)東芝 デジタルメディアネットワーク社 コアテクノロジーセンター
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市原 勝太郎
(株)東芝研究開発センター記憶材料デバイスラボラトリー
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市原 勝太郎
東芝研究開発センター 材料デバイス研究所
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市原 勝太郎
(株)東芝研究開発センター記憶教材デバイスラボラトリー
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岸 達也
(株)東芝・研究開発センター
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神田 哲典
日立マクセル
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鎌田 芳幸
株式会社東芝研究開発センター
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礒脇 洋介
株式会社東芝研究開発センター
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喜々津 哲
株式会社東芝研究開発センター
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鎌田 芳幸
東芝研究開発センター
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前田 知幸
東芝研究開発センター
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喜々津 哲
東芝研究開発センター
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藤岡 直美
(株)東芝研究開発センター
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石上 隆
(株)東芝研究開発センター
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神田 哲典
日立マクセル開発本部
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神田 哲典
日立マクセル(株) 開発本部
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神田 哲典
日立マクセル 開発本部
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石上 隆
(株)東芝 研究開発センター
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中村 直正
マルチメディア技術研究所
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森下 直樹
マルチメディア技術研究所
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石上 隆
(株)東芝
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藤岡 直美
(株)東芝 研究開発センター
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松本 拓也
日立製作所中央研究所
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中村 公夫
株式会社日立製作所中央研究所
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西田 哲也
(株)日立製作所 中央研究所
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松本 拓也
(株)日立製作所 中央研究所
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中村 公夫
(株)日立製作所研究開発本部ストレージテクノロジー研究センタ第1部
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稗田 秦之
(株)日立製作所, 中央研究所
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柏木 一仁
(株)東芝研究開発センター
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櫻井 正敏
東芝研究開発センター
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内藤 勝之
東芝研究開発センター
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白鳥 聡志
東芝研究開発センター
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柏木 一仁
東芝研究開発センター
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礒脇 洋介
東芝研究開発センター
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柳田 忠孝
(株)東芝 研究開発センター
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岸 達也
(株)東芝研究開発センター
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鈴木 克己
(株)東芝
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和泉 晴彦
(株)東芝 研究開発センター
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中村 公夫
日立 中研
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中村 公夫
(株)日立製作所 中央研究所
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平岡 俊郎
(株)東芝研究開発センター材料デバイス研究所
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平岡 俊郎
(株)東芝 研究開発センター 新機能材料・デバイスラボラトリー
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稗田 秦之
(株)日立製作所 中央研究所
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松本 拓也
日立・中研
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中村 公夫
日立・中研
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和泉 晴彦
東芝ストレージデバイス(株)
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喜々津 哲
(株)東芝研究開発センター
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前田 知幸
(株)東芝研究開発センター
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山本 亮介
(株)東芝研究開発センター
著作論文
- 近接場光ヘッドによるパターン磁気媒体への熱アシスト記録
- X線反射率法を用いたパターンド媒体の加工ダメージ評価(ヘッド・媒体および一般)
- ナノインプリントと自己組織化マスクによるパターンド磁気記録媒体(ハードディスクドライブ及び一般)
- 自己組織化とナノインプリントを利用したパターンドメディア作製(光記憶および一般)
- 自己組織化とナノインプリントを利用したパターンドメディア作製
- 2.5Tb/in[2]自己組織化ビットパターンド媒体における位相差サーボパターンの作製 (マルチメディアストレージ)
- 六角形ガイド内に配列した強磁性体ドットのサイズばらつき(薄膜・微粒子・多層膜・人工格子)
- X線反射率法を用いたパターンド媒体の加工ダメージ評価(ヘッド・媒体及び一般)
- 自己組織化を利用したCOCrPtパターンドメディアの作製と情報ストレージヘの応用
- ナノインプリントと自己組織化マスクによるパターンド磁気記録媒体
- ナノインプリントと自己組織化による2.5インチディスク状パターンドメディアの製作(磁気記録媒体)
- X線反射率法を用いたCo/Pt多層膜パターンド媒体のエッチングダメージ評価
- ブロックコポリマーを用いた熱アシスト磁気記録用パターンドメディアの作成
- 熱アシスト磁気記録用交換結合二層媒体
- 熱アシスト磁気記録用交換結合二層媒体(ハードディスクドライブ及び一般)
- 熱アシスト磁気記録のための交換結合二層媒体
- 熱アシスト磁気記録のための交換結合二層媒体(光記録及び一般)
- ジブロックコポリマーの相分離パターンを用いたFePtCuナノドットの作製
- ジブロックコポリマーの相分離パターンを用いたFePtCuナノドットの作製(高密度磁気ストレージ材料 : 開発の現状・未来と解析技術)
- FePt薄膜の残留酸素が規則化温度に及ぼす影響(磁性薄膜,磁気記録一般)
- Fet薄膜の残留酸素が規則化温度に及ぼす影響
- [招待論文]Cu添加によるFePt規則合金のfcc-fct転移温度低減(垂直記録,一般)
- Cu添加によるFePt規則合金の規則化温度低減 : 合金薄膜
- 自己組織化を用いたビットパターンド媒体におけるサーボパターンの作製
- ナノインプリントと自己組織化マスクによるパターンド磁気記録媒体
- 多層干渉層を持つ相変化媒体の高密度記録特性
- 多層干渉層を持つ相変化媒体の高密度記録特性
- 多層干渉層を持つ相変化媒体の高密度記録特性
- 自己組織化とナノインプリントを利用したパターンドメディア作製
- 自己組織化ポリマーを用いた新しい媒体ナノパターニング技術
- 2.5Tb/in^2自己組織化ビットパターンド媒体における位相差サーボパターンの作製(ハードディスクドライブ+一般)
- 自己組織化ポリマーマスクにより作製したCo-Ptドットのサイズばらつきと磁気特性
- 熱アシスト磁気記録のための交換結合二層媒体
- 熱アシスト磁気記録のための交換結合二層媒体(光記録及び一般)
- 2.5Td/in^2自己組織化マスクによるビットパターンド媒体
- 自己組織化ポリマーを用いた5Tdot/inch^2ビットパターンドメディアの作製(ヘッド・スピントロニクス、一般)