永瀬 俊彦 | (株)東芝研究開発センター
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
甲斐 正
(株)東芝研究開発センター
-
永瀬 俊彦
(株)東芝研究開発センター
-
永瀬 俊彦
(株)東芝 研究開発センター
-
甲斐 正
(株)東芝 研究開発センター
-
秋山 純一
(株)東芝 研究開発センター
-
喜々津 哲
(株)東芝 研究開発センター
-
秋山 純一
(株)東芝研究開発センター
-
喜々津 哲
(株)東芝, 研究開発センター
-
喜々津 哲
(株)東芝
-
前田 知幸
株式会社東芝研究開発センター
-
岸 達也
(株)東芝・研究開発センター
-
前田 知幸
(株)東芝 研究開発センター
-
岸 達也
(株)東芝研究開発センター
-
天野 実
(株)東芝研究開発センター
-
中山 昌彦
(株)東芝研究開発センター
-
池川 純夫
(株)東芝研究開発センター
-
與田 博明
(株)東芝
-
相川 尚徳
(株)東芝研究開発センター
-
池川 純夫
(株)東芝 基礎研究所
-
與田 博明
(株)東芝 研究開発センター
-
小瀬木 淳一
(株)東芝研究開発センター
-
西山 勝哉
(株)東芝研究開発センター
-
藤岡 直美
(株)東芝研究開発センター
-
石上 隆
(株)東芝研究開発センター
-
石上 隆
(株)東芝 研究開発センター
-
天野 実
東芝
-
石上 隆
(株)東芝
-
池川 純夫
東芝研究開発センター
-
與田 博明
東芝 研開セ
-
藤岡 直美
(株)東芝 研究開発センター
-
吉川 将寿
(株)東芝 研究開発センター
-
喜々津 哲
東芝
-
前田 知幸
東芝研究開発センター
-
喜々津 哲
東芝研究開発センター
-
喜々津 哲
株式会社 東芝 研究開発センター
-
甲斐 正
株式会社 東芝 研究開発センター
-
永瀬 俊彦
株式会社 東芝 研究開発センター
-
前田 知幸
株式会社 東芝 研究開発センター
-
相川 尚徳
株式会社 東芝 研究開発センター
-
秋山 純一
株式会社 東芝 研究開発センター
-
甲斐 正
東芝
-
永瀬 俊彦
東芝
-
秋山 純一
東芝
-
下村 尚治
(株)東芝
-
下村 尚治
(株)東芝研究開発センター
-
北川 英二
(株)東芝研究開発センター
-
吉川 将寿
(株)東芝研究開発センター
-
北川 英二
(株)東芝 研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
著作論文
- 垂直磁化方式を用いたスピン注入磁化反転によるMRAMスケーラビリティの展望(信号処理および一般)
- 垂直磁化方式を用いたスピン注入磁化反転によるMRAMスケーラビリティの展望(信号処理及び一般)
- 熱アシスト磁気記録用交換結合二層媒体
- 熱アシスト磁気記録用交換結合二層媒体(ハードディスクドライブ及び一般)
- 熱アシスト磁気記録のための交換結合二層媒体
- 熱アシスト磁気記録のための交換結合二層媒体(光記録及び一般)
- FePt薄膜の残留酸素が規則化温度に及ぼす影響(磁性薄膜,磁気記録一般)
- Fet薄膜の残留酸素が規則化温度に及ぼす影響
- [招待論文]Cu添加によるFePt規則合金のfcc-fct転移温度低減(垂直記録,一般)
- FePtCu規則合金の磁気特性の組成依存性
- Cu添加によるFePt規則合金の規則化温度低減 : 合金薄膜
- Cu添加によるFePtの規則化温度低減
- TbCoFe/CoFeB垂直磁化膜を用いたMRAM素子におけるスピン注入磁化反転の実証(メモリ技術(DRAM,SRAM,フラッシュ,新規メモリー))
- 熱アシスト磁気記録のための交換結合二層媒体
- 熱アシスト磁気記録のための交換結合二層媒体(光記録及び一般)