鎌田 芳幸 | (株)東芝研究開発センター
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概要
関連著者
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鎌田 芳幸
(株)東芝研究開発センター
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東芝(株)研究開発センター材料デバイス研究所
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稗田 泰之
(株)日立製作所 中央研究所
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株式会社東芝研究開発センター
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和泉 晴彦
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礒脇 洋介
(株)東芝 研究開発センター
著作論文
- ナノインプリントと自己組織化マスクによるパターンド磁気記録媒体(ハードディスクドライブ及び一般)
- 自己組織化とナノインプリントを利用したパターンドメディア作製(光記憶および一般)
- 自己組織化とナノインプリントを利用したパターンドメディア作製
- 六角形ガイド内に配列した強磁性体ドットのサイズばらつき(薄膜・微粒子・多層膜・人工格子)
- ナノインプリントと自己組織化マスクによるパターンド磁気記録媒体
- ナノインプリントと自己組織化による2.5インチディスク状パターンドメディアの製作(磁気記録媒体)
- ナノインプリントと自己組織化による2.5インチディスク状パターンドメディアの製作
- ジブロックコポリマーの相分離パターンを用いたFePtCuナノドットの作製
- ジブロックコポリマーの相分離パターンを用いたFePtCuナノドットの作製(高密度磁気ストレージ材料 : 開発の現状・未来と解析技術)
- 自己組織化を用いたビットパターンド媒体におけるサーボパターンの作製
- ナノインプリントと自己組織化マスクによるパターンド磁気記録媒体
- 自己組織化とナノインプリントを利用したパターンドメディア作製
- 2.5Tb/in^2自己組織化ビットパターンド媒体における位相差サーボパターンの作製(ハードディスクドライブ+一般)
- 自己組織化ポリマーマスクにより作製したCo-Ptドットのサイズばらつきと磁気特性