自己組織化とナノインプリントを利用したパターンドメディア作製
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
2.5インチガラスディスク上に全面に渡って一様に配列した磁性体ドットからなるパターンドメディアを作製した。磁性体ドットの加工は、ブロックコポリマーの自己組織化パターンをテンプレートとしてイオンミリングにより行った。ブロックコポリマーの自己組織化配列方向は、ナノインプリント法により作製されたレジストの溝構造により人工的に制御した。このような自己組織化パターンテンプレートを使ったリソグラフィーとナノインプリントによる自己組織化パターンの配列制御を組み合わせることで、円周トラック上に並んだ直径40nm高さ50nm間隔80nmのCoPtもしくはCoCrPtの磁性体ドットアレイを作製することに成功した。作製された磁性体ドットは強い垂直磁気異方性を示し、単磁区構造となっていることが示唆された。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2003-02-21
著者
-
喜々津 哲
(株)東芝, 研究開発センター
-
内藤 勝之
(株)東芝, 研究開発センター
-
櫻井 正敏
(株)東芝研究開発センター
-
鎌田 芳幸
(株)東芝研究開発センター
-
稗田 泰之
(株)日立製作所 中央研究所
-
稗田 泰之
東芝研究開発センター
-
稗田 泰之
(株)東芝 研究開発センター
-
浅川 鋼児
(株)東芝 研究開発センター
-
浅川 鋼児
(株)東芝
-
喜々津 哲
(株)東芝 研究開発センター
-
内藤 勝之
(株)東芝 研究開発センター
-
内藤 勝之
東芝(株)研究開発センター材料デバイス研究所
-
鎌田 芳幸
(株)東芝 研究開発センター
-
内藤 勝之
(株)東芝研究開発センター
-
喜々津 哲
(株)東芝
-
鎌田 芳幸
(株)東芝
関連論文
- 近接場光ヘッドによるパターン磁気媒体への熱アシスト記録
- X線反射率法を用いたパターンド媒体の加工ダメージ評価(ヘッド・媒体および一般)
- ナノインプリントと自己組織化マスクによるパターンド磁気記録媒体(ハードディスクドライブ及び一般)
- 自己組織化とナノインプリントを利用したパターンドメディア作製(光記憶および一般)
- 自己組織化とナノインプリントを利用したパターンドメディア作製
- 2.5Tb/in[2]自己組織化ビットパターンド媒体における位相差サーボパターンの作製 (マルチメディアストレージ)
- 六角形ガイド内に配列した強磁性体ドットのサイズばらつき(薄膜・微粒子・多層膜・人工格子)
- ナノパターンドメディア (特集 イノベーションを支えるナノエレクトロニクス)
- X線反射率法を用いたパターンド媒体の加工ダメージ評価(ヘッド・媒体及び一般)
- 自己組織化を利用したCOCrPtパターンドメディアの作製と情報ストレージヘの応用
- ナノインプリントと自己組織化マスクによるパターンド磁気記録媒体
- ナノインプリントと自己組織化による2.5インチディスク状パターンドメディアの製作(磁気記録媒体)
- ナノインプリントと自己組織化による2.5インチディスク状パターンドメディアの製作
- 磁気量子ドットが配列した次々世代記録媒体"パターンドメディア"
- X線反射率法を用いたCo/Pt多層膜パターンド媒体のエッチングダメージ評価
- ブロックコポリマーを用いた熱アシスト磁気記録用パターンドメディアの作成
- 熱アシスト磁気記録用交換結合二層媒体
- 熱アシスト磁気記録用交換結合二層媒体(ハードディスクドライブ及び一般)
- 熱アシスト磁気記録のための交換結合二層媒体
- 熱アシスト磁気記録のための交換結合二層媒体(光記録及び一般)
- ジブロックコポリマーの相分離パターンを用いたFePtCuナノドットの作製
- ジブロックコポリマーの相分離パターンを用いたFePtCuナノドットの作製(高密度磁気ストレージ材料 : 開発の現状・未来と解析技術)
- FePt薄膜の残留酸素が規則化温度に及ぼす影響(磁性薄膜,磁気記録一般)
- Fet薄膜の残留酸素が規則化温度に及ぼす影響
- ブロックポリマーの自己組織化によるナノリソグラフィーと電子材料への応用
- ブロックポリマーの自己組織化によるナノリソグラフィーと電子材料への応用(複合高分子により形成される疑似結晶構造の最前線)
- [招待論文]Cu添加によるFePt規則合金のfcc-fct転移温度低減(垂直記録,一般)
- FePtCu規則合金の磁気特性の組成依存性
- Cu添加によるFePt規則合金の規則化温度低減 : 合金薄膜
- FePtCu高密度HDD媒体材料
- Cu添加によるFePtの規則化温度低減
- 自己組織化を用いたビットパターンド媒体におけるサーボパターンの作製
- ナノインプリントと自己組織化マスクによるパターンド磁気記録媒体
- 多層干渉層を持つ相変化媒体の高密度記録特性
- 多層干渉層を持つ相変化媒体の高密度記録特性
- 多層干渉層を持つ相変化媒体の高密度記録特性
- 自己組織化とナノインプリントを利用したパターンドメディア作製
- SC-9-5 nmサイズの分子ドットへの電荷注入とNSOM観察
- 有機ナノドットを用いた超高密度メモリ (特集:ナノ領域の先端研究--21世紀のキー技術を求めて)
- AFMフォースマッピング技術による有機薄膜の官能基識別 : フォースマッピング測定による官能基分布の評価
- AFMによる水中での分子官能基識別
- 13a-PS-21 AFM探針への電圧印加による水中静電力の検出
- 28a-Y-11 AFMによる水中静電力の検出
- テラビット磁気記録媒体を実現する新しいナノ加工技術 (特集1 ナノテクノロジー--幅広い分野をけん引する次世代材料デバイス技術)
- 自己組織化ポリマーを用いた新しい媒体ナノパターニング技術
- 吸収帯シフト法と脂環を併用したArFレジスト材料の開発
- CoPt系グラニュラー磁気記録媒体の諸特性
- 低ノイズ・CoPt-SiO_2磁性粒子分散形磁気記録媒体
- 2.5Tb/in^2自己組織化ビットパターンド媒体における位相差サーボパターンの作製(ハードディスクドライブ+一般)
- 5)漏洩磁界を変調する光磁気オーバライト技術(画像情報記録研究会)
- 漏洩磁界を変調する光磁気オーバーライト技術 : 画像情報記録
- 高感度熱分析法によるステアリン酸カドミウムLB膜の相転移の解析
- 3C16 3層積層反射型カラーGH-LCD用二色性色素の開発
- 自己組織化ポリマーマスクにより作製したCo-Ptドットのサイズばらつきと磁気特性
- 反射型カラーLCD用液晶マイクロカプセルの特性
- 反射型カラーLCD用液晶マイクロカプセルの特性
- 熱アシスト磁気記録のための交換結合二層媒体
- 熱アシスト磁気記録のための交換結合二層媒体(光記録及び一般)
- 有機分子の自己組織化ナノ構造を利用した2.5インチディスク状パターンドメディアの作製
- フラクタル接合素子
- 高耐熱性低分子アモルファス材料の分子設計
- 自己組織化微細プロセスを用いたHDD媒体の将来技術(EB描画技術)
- モバイル機器用ダイレクトメタノール形燃料電池
- 2.5Td/in自己組織化マスクによるビットパターンド媒体 ((社)日本磁気学会第177回研究会 第40回ナノマグネティクス専門研究会 最先端情報ストレージ技術)
- 2.5Td/in^2自己組織化マスクによるビットパターンド媒体
- 自己組織化ポリマーを用いた5Tdot/inchビットパターンドメディアの作製 (磁気記録・情報ストレージ)
- 自己組織化ポリマーを用いた5Tdot/inchビットパターンドメディアの作製 (マルチメディアストレージ)
- 自己組織化ポリマーを用いた5Tdot/inch^2ビットパターンドメディアの作製(ヘッド・スピントロニクス、一般)