鎌田 芳幸 | (株)東芝 研究開発センター
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概要
関連著者
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鎌田 芳幸
(株)東芝 研究開発センター
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(株)東芝 研究開発センター
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東芝ストレージデバイス(株)
著作論文
- X線反射率法を用いたパターンド媒体の加工ダメージ評価(ヘッド・媒体および一般)
- ナノインプリントと自己組織化マスクによるパターンド磁気記録媒体(ハードディスクドライブ及び一般)
- 自己組織化とナノインプリントを利用したパターンドメディア作製(光記憶および一般)
- 自己組織化とナノインプリントを利用したパターンドメディア作製
- 2.5Tb/in[2]自己組織化ビットパターンド媒体における位相差サーボパターンの作製 (マルチメディアストレージ)
- 六角形ガイド内に配列した強磁性体ドットのサイズばらつき(薄膜・微粒子・多層膜・人工格子)
- X線反射率法を用いたパターンド媒体の加工ダメージ評価(ヘッド・媒体及び一般)
- 自己組織化を利用したCOCrPtパターンドメディアの作製と情報ストレージヘの応用
- ナノインプリントと自己組織化マスクによるパターンド磁気記録媒体
- ナノインプリントと自己組織化による2.5インチディスク状パターンドメディアの製作(磁気記録媒体)
- ナノインプリントと自己組織化による2.5インチディスク状パターンドメディアの製作
- 磁気量子ドットが配列した次々世代記録媒体"パターンドメディア"
- X線反射率法を用いたCo/Pt多層膜パターンド媒体のエッチングダメージ評価
- ジブロックコポリマーの相分離パターンを用いたFePtCuナノドットの作製
- ジブロックコポリマーの相分離パターンを用いたFePtCuナノドットの作製(高密度磁気ストレージ材料 : 開発の現状・未来と解析技術)
- 自己組織化を用いたビットパターンド媒体におけるサーボパターンの作製
- ナノインプリントと自己組織化マスクによるパターンド磁気記録媒体
- 自己組織化とナノインプリントを利用したパターンドメディア作製
- 2.5Tb/in^2自己組織化ビットパターンド媒体における位相差サーボパターンの作製(ハードディスクドライブ+一般)
- 自己組織化ポリマーマスクにより作製したCo-Ptドットのサイズばらつきと磁気特性
- 2.5Td/in自己組織化マスクによるビットパターンド媒体 ((社)日本磁気学会第177回研究会 第40回ナノマグネティクス専門研究会 最先端情報ストレージ技術)
- 2.5Td/in^2自己組織化マスクによるビットパターンド媒体
- 自己組織化ポリマーを用いた5Tdot/inchビットパターンドメディアの作製 (磁気記録・情報ストレージ)
- 自己組織化ポリマーを用いた5Tdot/inchビットパターンドメディアの作製 (マルチメディアストレージ)