2.5Td/in^2自己組織化マスクによるビットパターンド媒体
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概要
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- 2011-03-18
著者
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森田 成二
東芝研究開発センター
-
森田 成二
(株)東芝 研究開発センター
-
木原 尚子
(株)東芝 研究開発センター
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喜々津 哲
(株)東芝 研究開発センター
-
木原 尚子
(株)東芝研究開発センター
-
木村 香里
(株)東芝 研究開発センター
-
鎌田 芳幸
(株)東芝 研究開発センター
-
和泉 晴彦
東芝ストレージデバイス(株)
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喜々津 哲
(株)東芝
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木村 香里
(株)東芝
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鎌田 芳幸
(株)東芝
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森田 成二
(株)東芝
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木原 尚子
(株)東芝
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